一种携带式电子装置外壳的制造方法
【专利摘要】本申请公开了一种携带式电子装置外壳的制造方法，包括步骤，提供一成型的铝基材；将该铝基材放入阳极处理液中进行阳极处理，形成一氧化铝膜层；于该氧化铝膜层表面沉积一层类钻石薄膜层，该类钻石薄膜层的材料为非结晶碳氮或非结晶碳氢氮，由此，具有良好的耐磨性能及耐腐蚀性能，可防止外界的水气、灰尘及盐等成份的腐蚀，也可抵制尖物或硬物的刻划及磨损。
【专利说明】一种携带式电子装置外壳的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及电子装置外壳，尤其涉及一种携带式电子装置外壳的制造方法。
【背景技术】
[0002]目前，携带式电子装置等许多具有金属壳体的产品一般通过电镀、烤漆制程提高表面质量。但是，上述电镀、烤漆等制程处理后，携带式电子装置外壳表面品质虽有所改善，但是这些产品多为日常用品，与人体经常接触，特别是与手指接触时会在表面留下清晰的指纹。众所周知，指纹中含有水、灰尘、盐等腐蚀性物质，不仅影响美观，久而久之，会加速表面的锈蚀，而且在使用过程中需要定期对表面进行擦拭、清洗等工作来清除指纹，造成不便。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是在于提供一种携带式电子装置外壳的制造方法，制造较为简单、具有良好耐磨性能及耐腐蚀性能。
[0004]根据本发明的一个方面，提供一种携带式电子装置外壳的制造方法，包括以下步骤:
[0005]提供一成型的铝基材；
[0006]将该铝基材放入阳极处理液中进行阳极处理，形成一氧化铝膜层；
[0007]于该氧化铝膜层表面沉积一层类钻石薄膜层，该类钻石薄膜层的材料为非结晶碳氮或非结晶碳氢氮。
[0008]在一些实施方式中:其中阳极处理时采用果酸为阳极处理液。
[0009]在一些实施方式中:其中阳极处理时采用柠檬酸、酒石酸及苹果酸的混合溶液作为阳极处理液。
[0010]在一些实施方式中:类钻石薄膜采用反应性溅镀及化学气相沉积法所沉积。
[0011]在一些实施方式中:反应性溅镀为直流、交流或射频反应性溅镀。
[0012]在一些实施方式中:其中当类钻石薄膜的材料为非结晶碳氮时，反应性溅镀采用的溅镀气体为氬气与氮气的混合气，溅镀靶材为石墨。
[0013]本发明制造较为简单、具有良好耐磨性能及耐腐蚀性能。
【具体实施方式】
[0014]一种携带式电子装置外壳的制造方法，包括铝基材10、氧化铝膜层20及类钻石薄膜层30，其中该氧化铝膜层20形成于铝基材10表面，且该氧化铝膜层20表面形成有一类钻石薄膜层30，该氧化 铝膜层20的较佳厚度为10-200纳米，更佳的厚度应为50-100纳米。该类钻石薄膜层30的材料可为非结晶碳氢(a-C:H)、非结晶碳氮(a-C:N)或非结晶碳氢氮(a-CNH)，该三种材料均具有类钻石结构D原子结合方式。该类钻石薄膜层30D较佳厚度为10-100纳米，更佳的厚度应为20-60纳米。[0015]该携带式电子装置外壳的制造方法包括以下步骤:
[0016]提供一成型的招基材10 ；
[0017]将该铝基材10放入阳极处理液中进行阳极处理，形成一氧化铝膜层20 ；
[0018]于该氧化铝膜层20表面沉积一层类钻石薄膜层30。
[0019]其中该成型的铝基材10是由重压成型等技术所成型，其具有携带式电子装置外壳的形状。
[0020]该铝基材10进行阳极处理的阳极处理液可为果酸电解液，也可为柠檬酸、酒石酸及苹果酸的混合电解液，当然也可为其他熟知的阳极处理液。
[0021]该类钻石薄膜层30的材料可为非结晶碳氢、非结晶碳氮或非结晶碳氢氮。
[0022]当该类钻石薄膜层30的材料为非结晶碳氢时，其可由反应性溅镀或化学气相沉积法所沉积，该反应性溅镀指熟知的直流、交流或射频反应性溅镀。反应性溅镀采用的溅镀气体为氬气与氢气的混合气、氬气与甲烧的混合气或氬气与乙烧的混合气，派镀祀材为石墨。在氬气与氢气的混合气中，氢气含量为20%左右,在氬气与甲烧的混合气中，甲烧含量为20%左右，在氬气与乙烷的混合气中，乙烷含量为20%左右。其中上述溅镀气体中的氬气亦可为其他惰性气体所代替，如氪气等。
[0023]当该类钻石薄膜层30的材料为非结晶碳氮时，其也可由反应性溅镀或化学气相沉积法所沉积，该反应性溅镀指熟知的直流、交流或射频反应性溅镀。反应性溅镀采用的溅镀气体为氬气与氮气的混合气，溅镀靶材为石墨。其中所述溅镀气体中的氬气也可为其他惰性气体所代替，如氪气等。
[0024]当该类钻石薄膜层30的材料为非结晶碳氢氮时，其也可由反应性溅镀或化学气相沉积法所沉积，该反应性溅镀 指熟知的直流、交流或射频反应性溅镀。反应性溅镀采用的溅镀气体为氬气与氮气的混合气，溅镀靶材为石墨。
[0025]该携带式电子装置外壳具有良好的耐磨性能及耐腐蚀性能，可防止外界的水气、灰尘及盐等成份的腐蚀，也可抵制尖物或硬物的刻划及磨损。
[0026]以上所述仅是本发明的一种实施方式，应当指出，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干相似的变形和改进，这些也应视为本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种携带式电子装置外壳的制造方法，其特征在于:包括以下步骤: 提供一成型的铝基材； 将该铝基材放入阳极处理液中进行阳极处理，形成一氧化铝膜层； 于该氧化铝膜层表面沉积一层类钻石薄膜层，该类钻石薄膜层的材料为非结晶碳氮或非结晶碳氢氮。
2.根据权利要求1所述的一种携带式电子装置外壳的制造方法，其特征在于:其中阳极处理时采用果酸为阳极处理液。
3.根据权利要求1所述的一种携带式电子装置外壳的制造方法，其特征在于:其中阳极处理时采用柠檬酸、酒石酸及苹果酸的混合溶液作为阳极处理液。
4.根据权利要求1所述的一种携带式电子装置外壳的制造方法，其特征在于:所述类钻石薄膜采用反应性溅镀及化学气相沉积法所沉积。
5.根据权利要求4所述的一种携带式电子装置外壳的制造方法，其特征在于:所述反应性溅镀为直流、交流或射频反应性溅镀。
6.根据权利要求5所述的一种携带式电子装置外壳的制造方法，其特征在于:其中当所述类钻石薄膜的材料为非结晶碳氮时，所述反应性溅镀采用的溅镀气体为氬气与氮气的混合气，溅镀靶材为石墨。`
【文档编号】C23C28/04GK103726053SQ201310638416
【公开日】2014年4月16日 申请日期:2013年12月4日 优先权日:2013年12月4日
【发明者】任保林 申请人:任保林