专利名称：一种mocvd设备的备件烘烤治具的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种治具，具体涉及一种用于烘烤金属有机化合物气相外延沉积(MOCVD)设备中备件，使备件上沉积物得到清除的烘烤治具。
背景技术：
在外延生长过程中，MOCVD设备中的备件上会沉积一些沉积物，随着时间的延长，沉积物就会越来越厚，如若不及时清除就会影响外延生长的工艺，所以就需要将一些备件定期放到烤炉中烘烤(烘烤就会将沉积物气化)清除。但是备件又不能直接放入烤炉中直接烤，就需要一种治具，而普通的烘烤治具存在着无法保证备件上烘烤温度的均匀性，并且烘烤后的沉积物无法有效迅速排出的缺陷。
实用新型内容本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种结构简单、备件烘烤温度均匀、烘烤后的沉积物能够迅速排出的MOCVD设备的备件烘烤治具。一种MOCVD设备的备件烘烤治具，包括定位板；所述定位板为两组，呈对称间隔设置，包括卡设住备件中部的上定位板及卡设主备件底部的下定位板，所述两组定位板两侧连接安装有散热挡板，所述散热挡板中部开设有位置相同的散热孔。本实用新型结构简单，操作方便，不仅能够稳定的支撑住在烘烤时备件，而且对烘烤时温度的均匀度影响也较小，散热挡板的设置能够有效排出气化后的沉积物，提高了沉积物的清除效果。
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合具体实施例，对本发明做进一步说明。应理解，以下实施例仅用于说明本发明而非用于限制本发明的范围。实施例1参见图1，本实用新型提供的一种MOCVD设备的备件烘烤治具，包括对称间隔设置的两组定位板1，所述两组定位板I两侧连接安装有散热挡板2，所述散热挡板2中部开设有位置相同的散热孔3，所述两组定位板I包括卡设住备件中部的上定位板Ia及卡设主备件底部的下定位板lb。在本实施例中，烘烤的备件为呈圆形，直径为800mm的上挡板，上定位板Ia及下定位板Ib可根据需要开设多排卡槽lc，将上挡板放入后，开始烘烤，散热挡板2上对应散热孔3的设计，主要是为了让让气流能够顺利通过，从而保证烘烤温度的均匀性，烘烤出来的沉积物能够顺利被烤炉的泵抽走。
权利要求1.一种MOCVD设备的备件烘烤治具，包括定位板，其特征在于:包所述定位板为两组，呈对称间隔设置，包括卡设住备件中部的上定位板及卡设主备件底部的下定位板，所述两组定位板两侧连接安装有散热挡板，所述散热挡板中部开设有位置相同的散热孔。
专利摘要本实用新型公开了一种MOCVD设备的备件烘烤治具，包括定位板；所述定位板为两组，呈对称间隔设置，包括卡设住备件中部的上定位板及卡设主备件底部的下定位板，所述两组定位板两侧连接安装有散热挡板，所述散热挡板中部开设有位置相同的散热孔。本实用新型结构简单，操作方便，不仅能够稳定的支撑住在烘烤时备件，而且对烘烤时温度的均匀度影响也较小，散热挡板的设置能够有效排出气化后的沉积物，提高了沉积物的清除效果。
文档编号C23C16/44GK203034090SQ20132001214
公开日2013年7月3日 申请日期2013年1月10日 优先权日2013年1月10日
发明者林长军 申请人:合肥彩虹蓝光科技有限公司