一种真空镀膜的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空镀膜机，包括蒸发室、蒸镀室、掩膜板调节转盘、样品架调节转盘、转盘调节螺杆、转盘支撑弹簧、大挡板、小挡板、挡板控制旋钮、蒸镀室观察窗、样品更换窗、气氛连通窗和样品过渡舱。与传统的真空镀膜样品台相比，该实用新型不仅能够实现最多16个不同厚度样品的一次性制备，而且能够实现样品制备、表征的集成操作以及掩膜板和样品台的可控旋转。大大节约了反复获得高真空所需要的时间，且操作方便，机械结构简单。
【专利说明】一种真空镀膜机
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及镀膜机，特别涉及一种真空镀膜机，属于镀膜领域。
【背景技术】
[0002]目前，公知的真空镀膜机样品台只能一次性制作4个样品，而且掩膜板更换方式繁琐。虽然掩膜板部分结构大体相同，但这类机械制造复杂，功能单一，一般以插拔式为主。而且大部分机器都无法做到16个样本的制备和表征功能的集成，例如每批次样品蒸镀完毕后，需要破坏蒸镀室气氛以重新装入样品，然后再重新抽真空。从而导致研究人员需要需要话费更长的实验时间以获得实验环境并进行相对较复杂的操作步骤，造成生产滞后和科研效率降低的后果。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足提供了一种集高效率样品制备、舱体过渡于一体，结构简单且能够通过旋转的方式调节16种掩膜板类型的高产率可旋转真空镀膜机。
[0004]本实用新型为解决上述技术问题采用以下技术方案:
[0005]一种真空镀膜机，包含蒸镀室和置于其内底部的蒸发室，所述蒸镀室包含样品架调节转盘、掩膜板调节转盘；所述样品架调节转盘包含多个交替工作的样品台，所述掩膜板调节转盘包含多个与样品台数量相同且一一对应的掩膜板；所述正在工作的样品台置于所对应的掩膜板上，所述蒸发室置于正在工作的样品台和掩膜板的正下方。
[0006]优选的，所述蒸镀室还包含转盘调节螺杆、转盘支撑弹簧、大挡板、小挡板、挡板控制旋钮、蒸镀室观察窗、样品更换窗、气氛连通窗和样品过渡舱；所述转盘支撑弹簧置于掩膜板调节转盘与蒸镀室上下壁之间，用于支撑掩膜板调节转盘在弹力的作用下始终紧贴样品调节转盘，所述掩膜板调节转盘与蒸镀室通过转盘调节螺杆连接，所述转盘调节螺杆用于调节掩膜板调节转盘旋转；所述大挡板置于蒸发室上方，所述小挡板置于掩膜板的下方，所述大挡板和小挡板通过转盘调节螺杆控制。
[0007]优选的，所述掩膜板调节转盘与样品架调节转盘之间设有四个定位卡槽，用于固定样品台及与其对应的掩膜板。
[0008]优选的，所述样品架调节转盘与掩膜板调节转盘机械结构相同且镜面相对。
[0009]优选的，所述转盘调节螺杆和掩膜板调节转盘为固定连接。
[0010]优选的，所述转盘调节螺杆顶部下方设有小挡块，用于防止样品台与掩膜板接触太近导致损坏。
[0011]优选的，所述转盘调节螺杆下方为L型支撑架。
[0012]优选的，所述过渡舱包含压力显示表、过度舱体和压力控制按钮。
[0013]本实用新型采用以上技术方案与现有技术相比，具有以下技术效果:
[0014]1、本实用新型能够实现最多16个不同厚度样品的一次性制备；
[0015]2、能够实现样品制备、表征的集成操作以及掩膜板和样品台的可控旋转；
[0016]3、大大节约了反复获得高真空所需要的时间，且操作方便，机械结构简单。
【专利附图】
【附图说明】
[0017]图1是本实用新型的整体结构示意图；
[0018]图2是本实用新型的蒸镀室观察窗结构示意图；
[0019]图3是本实用新型的样品更换窗结构示意图。
[0020]图中，1-蒸发室2-蒸镀室3-掩膜板调节转盘4-转盘支撑弹簧5-转盘调节螺杆6-样品架调节转盘7-定位卡槽8-大挡板9-小挡板10-挡板控制旋钮11-样品过渡舱12-气氛连通窗13-压力控制旋钮14-压力显示表15-蒸镀室观察窗16-样品更换窗。
【具体实施方式】
[0021]下面结合附图对本实用新型的技术方案做进一步的详细说明:
[0022]如图1所示，1-蒸发室2-蒸镀室3-掩膜板调节转盘4-转盘支撑弹簧5_转盘调节螺杆6-样品架调节转盘7-定位卡槽8-大挡板9-小挡板10-挡板控制旋钮11-样品过渡舱12-气氛连通窗13-压力控制旋钮14-压力显示表15-蒸镀室观察窗16-样品更换窗。
[0023]一种真空镀膜机，包含蒸镀室2和置于其内底部的蒸发室I，所述蒸镀室2包含样品架调节转盘6、掩膜板调节转盘4;所述样品架调节转盘6包含多个交替工作的样品台，所述掩膜板调节转盘3包含多个与样品台数量相同且一一对应的掩膜板；所述正在工作的样品台置于所对应的掩膜板上，所述蒸发室I置于正在工作的样品台和掩膜板的正下方；
[0024]其中，所述蒸镀室2还包含转盘调节螺杆5、转盘支撑弹簧4、大挡板8、小挡板9、挡板控制旋钮10、蒸镀室观察窗15、样品更换窗16、气氛连通窗12和样品过渡舱11 ;所述转盘支撑弹簧置于掩膜板调节转盘与蒸镀室上下壁之间，用于支撑掩膜板调节转盘在弹力的作用下始终紧贴样品调节转盘，所述掩膜板调节转盘与蒸镀室通过转盘调节螺杆连接，用于调节掩膜板转盘旋转；所述大挡板置于蒸发室上方，所述小挡板置于掩膜板的下方，所述大挡板和小挡板通过转盘调节螺杆控制。
[0025]掩膜板调节转盘3与蒸镀室2底部采用转盘支撑弹簧4连接，弹簧与转盘连接处有可旋转轴承，转盘与蒸镀室顶部通过转盘调节螺杆5连接，此设计使掩膜板调节转盘可旋转任意角度，而且在弹簧力作用下转盘始终向上紧贴样品调节转盘，掩膜板调节转盘与样品架调节转盘间设置四个定位卡槽，只有在向下按压转盘调节螺杆时，两个调节转盘才会分开并进行掩膜板组的调换。掩膜板调节转盘上设置四个圆形掩膜板组托盘，每个托盘可放置4块不同类型掩膜板。
[0026]蒸发室I和蒸镀室间设置大挡板8，每个样品下方单独设置有小挡板9，挡板的控制旋钮10置于蒸镀室顶端，当旋转挡板控制旋钮时，相应的挡板随之转动并控制上行气体能否蒸发到样品上，灵活控制挡板的开关，可实现不同样品厚度的蒸镀。样品过渡舱11内环境为惰性气体环境，过渡舱包括过度舱体、气氛连通窗12、压力控制旋钮13和压力显示表14。其中当完成4片样本的蒸镀后，打开气氛连通窗，时过渡舱和蒸镀室的气氛互相连通，然后将样品从连通窗移到过渡舱内部，关闭气氛连通窗，并把样品进一步移往手套箱完成后续表征操作。
[0027]其中，所述掩膜板调节转盘与样品架调节转盘之间设有四个定位卡槽，用于固定样品台及与其对应的掩膜板，所述样品架调节转盘与掩膜板调节转盘机械结构相同且镜面相对，所述转盘调节螺杆和掩膜板调节转盘为固定连接，所述掩膜板转盘调节螺杆顶部下方设有小挡块，用于防止样品台与掩膜板接触太近导致损坏，所述转盘调节螺杆下方为L型支撑架，所述过渡舱包含压力显示表、过度舱体和压力控制按钮。
[0028]如图2或图3所示，在蒸镀室正面设计了蒸镀室观察窗15，用于观察转盘的旋转切换、观察转盘的咬合情况以及监控样品的蒸镀情况，观察窗四周采用密封设计，也可打开进行待蒸镀药品的更换。蒸镀室左侧设置样品更换窗16，样本更换窗四周采用密封设计，也可打开进行待样本的更换。
【权利要求】
1.一种真空镀膜机，包含蒸镀室和置于其内底部的蒸发室，其特征在于:所述蒸镀室包含样品架调节转盘、掩膜板调节转盘；所述样品架调节转盘包含多个交替工作的样品台，所述掩膜板调节转盘包含多个与样品台数量相同且一一对应的掩膜板；所述样品台置于所对应的掩膜板上，所述蒸发室置于样品台和掩膜板的正下方。
2.根据权利要求1所述真空镀膜机，其特征在于:所述蒸镀室还包含转盘调节螺杆、转盘支撑弹簧、大挡板、小挡板、挡板控制旋钮、蒸镀室观察窗、样品更换窗、气氛连通窗和样品过渡舱；所述转盘支撑弹簧置于掩膜板调节转盘与蒸镀室上下壁之间，用于支撑掩膜板调节转盘在弹力的作用下始终紧贴样品调节转盘，所述掩膜板调节转盘与蒸镀室通过转盘调节螺杆连接，所述转盘调节螺杆用于调节掩膜板调节转盘旋转；所述大挡板置于蒸发室上方，所述小挡板置于掩膜板的下方，所述大挡板和小挡板通过转盘调节螺杆控制。
3.根据权利要求1所述真空镀膜机，其特征在于:所述掩膜板调节转盘与样品架调节转盘之间设有四个定位卡槽，用于固定样品台及与其对应的掩膜板。
4.根据权利要求1所述真空镀膜机，其特征在于:所述样品架调节转盘与掩膜板调节转盘机械结构相同且镜面相对。
5.根据权利要求2所述真空镀膜机，其特征在于:所述转盘调节螺杆和掩膜板调节转盘为固定连接。
6.根据权利要求2所述真空镀膜机，其特征在于:所述转盘调节螺杆顶部下方设有小挡块，用于防止样品台与掩膜板接触太近导致损坏。
7.根据权利要求2所述真空镀膜机，其特征在于:所述转盘调节螺杆下方为L型支撑架。
8.根据权利要求2所述真空镀膜机，其特征在于:所述过渡舱包含压力显示表、过度舱体和压力控制按钮。
【文档编号】C23C14/04GK204251689SQ201420594844
【公开日】2015年4月8日 申请日期:2014年10月14日 优先权日:2014年10月14日
【发明者】闵永刚, 王剑, 童宋照 申请人:南京邮电大学