1.一种多功能镀膜设备，其特征在于包括：
真空腔室；
用于盛放靶材的坩埚，设置在真空腔室内；
电磁感应线圈，缠绕在坩埚外，其正负极连接设置在真空腔室外的中高频电源；
用于装载镀膜工件的工件台盘，安装在真空腔室内壁并设置在坩埚上方，该工件台盘可水平旋转并带有加热装置；
高压气体管路，穿越真空腔室并与坩埚下部相连；
用于装载镀膜工件的自控台架，设置真空腔室外并连接在高压气体管路的右端；
用于向真空腔室内输送丝状靶材的靶材输送器，连接在真空腔室外壁并与真空腔室连通；
用于对真空腔室抽真空的真空泵，连接在真空腔室外壁并与真空腔室连通；
高压供气系统，连接在高压气体管路的左端。
2.如权利要求1所述的多功能镀膜设备，其特征在于：所述高压气体管路的大部分为恒径管，右侧有一段渐扩管，中间设置了用于嵌装坩埚的凹槽，高压气体管路左右两端分别设有耐高压的单向阀门。
3.如权利要求1所述的多功能镀膜设备，其特征在于：所述坩埚底部设有多个漏液微孔；所述高压气体管路的凹槽上对应设有多个进液微孔。
4.如权利要求1所述的多功能镀膜设备，其特征在于：所述靶材为颗粒状、棒状或丝状靶材。
5.如权利要求1所述的多功能镀膜设备，其特征在于：所述真空腔室的壁上还设置有多个预留孔，用于通冷却水、输入靶材或厚度检测。
6.一种基于多功能镀膜设备的镀膜方法，其特征在于：将镀膜工件放置在工件台盘上，通过真空泵对真空腔室抽真空，使腔室内真空度≤1×10-5Pa，调节中高频电源使电磁感应线圈通电，加热熔化靶材，实现真空腔内物理沉积镀膜。
7.根据权利6要求所述基于多功能镀膜设备的镀膜方法，其特征在于：所述真空腔内物理沉积镀膜在镀膜工件下表面实现沉积1～2纳米的超精细均匀膜层。
8.一种基于多功能镀膜设备的镀膜方法，其特征在于：采用坩埚底部带漏液微孔的坩埚，以及凹槽内设有进液微孔的高压气体管路，将镀膜工件安放在自控台架上并使镀膜工件紧贴高压气体管路右端出口，调节中高频电源使电磁感应线圈通电，加热熔化靶材，打开高压供气系统，高压气体冲开高压气体管路两端的单向阀门，并带走从坩埚漏液微孔进入高压气体管路内的靶材液体或气体微粒，喷向镀膜工件的镀膜基面，实现高压气体腔体外精细喷涂镀膜。
9.根据权利8要求所述基于多功能镀膜设备的镀膜方法，其特征在于：所述自控台架自动调整镀膜工件的镀膜基面，实现自动连续镀膜。
10.根据权利8要求所述基于多功能镀膜设备的镀膜方法，其特征在于：所述高压气体腔体外精细喷涂镀膜在镀膜工件表面实现沉积1×10-6～1mm的均匀膜层。