本发明属于机械领域，一种不锈钢单封头的制作方法。
背景技术：
由于金属薄膜具有良好的光学、声学和电学特征，使其在机械、电子行业起到日益重要的作用。人们已经采用化学气相沉积(CVD)、离子注人和离子镀等方法制备了不同材质的纳米金属薄膜，然而在这几种工艺的使用过程中，基片温度过高、沉积速率较低，为纳米金属薄膜的实际用途带来困难。
技术实现要素：
本发明的目的就是针对现有技术存在的缺陷，发明一种不锈钢单封头的制作方法，其特征在于：首先在低微波功率(≦300W)，高的靶负偏压(≦1200V)下，以等离子体流轰击靶面6-8分钟，除去靶表面的氧化物和吸物；再在较高的微波功率(1000W)，除去靶偏压,，施加较高的基片负偏压(300V)，将等离子体流直接引至基片上，对基片轰击3～5分钟，最后除去表面的氧化物和吸附物，最后在确定的工作阐述下沉积薄膜。
本发明的特点是：设计科学，可稳态运行，设备简单，效率高，参数易于控制等优越特点。
具体实施方式
一种不锈钢单封头的制作方法，其特征在于：首先在低微波功率(≦300W)，高的靶负偏压(≦1200V)下，以等离子体流轰击靶面6-8分钟，除去靶表面的氧化物和吸物；再在较高的微波功率(1000W)，除去靶偏压,，施加较高的基片负偏压(300V)，将等离子体流直接引至基片上，对基片轰击3～5分钟，最后除去表面的氧化物和吸附物，最后在确定的工作阐述下沉积薄膜。
另外，本发明已经示出和描述了实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。