1.一种用于真空镀的可控、活动遮盖装置，包括位于被镀工件与真空镀源之间的可控活动遮盖物、用于控制遮盖物动作的控制装置、储存备用遮盖物的储存仓、放置被镀工件的基座，其特征在于：所述遮盖物在真空镀制过程中是活动的、可控的。
2.根据权利要求1所述的用于真空镀的可控、活动遮盖装置，其特征在于：所述遮盖物在镀制过程中既可以更换，也可以改变遮挡位置或形状，或者是其组合。
3.根据权利要求1所述的用于真空镀的可控、活动遮盖装置，其特征在于：所述遮盖物可以是板状的遮盖板，也可以是其他形状。
4.根据权利要求1所述的用于真空镀的可控、活动遮盖装置，其特征在于：所述储存仓用于储存不在遮挡状态的遮盖物，或遮盖物的一部分。
5.根据权利要求1所述的用于真空镀的可控、活动遮盖装置，其特征在于：所述遮盖装置可以是集中置于一个真空室中，也可以是分开置于多个真空室中。
6.根据权利要求1所述的用于真空镀的可控、活动遮盖装置，其特征在于：所述用于固定被镀工件的基座可以是固定的，也可以是可控移动的，或可控旋转的。
7.根据权利要求1所述的用于真空镀的可控、活动遮盖装置，其特征在于：所述控制的形式可以是有线电子控制、无线电子控制、机械控制或气液控制。
8.根据权利要求1所述的用于真空镀的可控、活动遮盖装置，其特征在于：所述控制的方法可以是电子自动控制、机械自动控制或人工控制。