一种用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶的制作方法

文档序号:11126689阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开了一种用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶,包括阳极座、水冷靶座、磁铁组件、靶材和靶背板,阳极座设有矩形安装槽,水冷靶座安装于矩形安装槽内,磁铁组件安装于水冷靶座内并通过靶背板密封,靶材装设于靶背板上,磁铁组件包括中心磁铁、两个端部磁铁和多个侧部磁铁,两个端部磁铁和多个侧部磁铁构成矩形磁铁框,中心磁铁沿矩形磁铁框长度方向固定于矩形磁铁框内部,每个侧部磁铁固设一固定块,水冷靶座内设有多个安装凸块,所述固定块与安装凸块一一对应,固定块可移动的与安装凸块连接。本发明可改变靶材表面磁场强度分布,提高矩形磁控溅射靶的沉膜均匀性,增大溅射靶有效沉膜区域,提高靶材的利用率。

技术研发人员:佘鹏程;彭立波;陈长平;张赛;龚俊
受保护的技术使用者:中国电子科技集团公司第四十八研究所
文档号码:201610360061
技术研发日:2016.05.27
技术公布日:2017.02.15

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