1.一种非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂及其制备方法，其特征在于该吸气剂包括调节层和气体吸收层，调节层沉积在非制冷焦平面探测器窗口上，气体吸收层沉积在调节层上，调节层为Ti、Zr、AL、Cr、Cu、Fe、Pt或Ru中的任意一种金属，吸收层为Zr与Co两种材料，以及Y、La、Ce中的至少一种材料形成的多元合金；调节层与窗口之间形成一致密的过度层，过度层厚度为20~50nm，调节层厚度为1~2μm，吸收层厚度为2~5μm。
2.如权利要求1所述的非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂及其制备方法，其特征在于所述的薄膜吸气剂，通过以下步骤进行制备：
1）探测器窗口采用甲苯、丙酮和无水乙醇等三种清洗溶液，通过超声波进行清洗，每种清洗溶液清洗时间为15min，之后再用等离子清洗机清洗10min；
2）将步骤1中清洗干净的探测器窗口装配到蒸镀所用的工装夹具里，并安装到双枪电子束设备的蒸发样品台上；
3）将样品台真空抽到至少0.0001Pa，25O℃烘烤30min～60min，采用电子枪蒸发一层调节层，然后采用双电子枪同时蒸发调节层和NaCl，多孔结构的大小由NaCl蒸发速率控制；
4）将步骤3中得到样件放到纯水中浸泡60min，并采用超声波清洗机纯水超声清洗三遍，每遍15min左右，然后用无水乙醇进行脱水；
5）将步骤4中得到的样件放到箱式镀膜机内，真空小于0.001Pa时开始烘烤加热，加热至150～250℃烘烤60min～120min；
6）步骤5完成后，当系统真空小于0.0001Pa时，采用电子束蒸发气体吸收层，在薄膜沉积以前需要对靶材预沉积5min左右，然后开始沉积，沉积时间在50min～250min，样品台转动速度为30～60r/min，之后样品台自热冷却，即可得到制备完成的带有吸气剂的探测器窗口。
3.如权利要求1所述的非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂及其制备方法，其特征在于所述的气体吸收层，其Zr含量为70 wt%～80wt%，Co含量为10 wt%～25 wt%，Y、La、Ce含量占1 wt%～10 wt%。