一种高效氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法与流程

技术特征：

1.一种高效氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

（1）清洗玻璃基片，后用高压N₂吹干；

（2）玻璃基片放入磁控溅射设备中与阳极连接， TiO₂陶瓷靶设置在阴极，射频电源与匹配器相连接后与直流电源一起连接至滤波器，滤波器直接连接阴极，射频电源和直流电源一起供电给阴极，即采用直流磁控溅射耦合射频磁控溅射的方法，在玻璃基片上溅射氮掺杂二氧化钛薄膜；

（3）制备工艺参数如下：

本底真空≤8×10^-4 Pa；

工作压强：4～8×10^-1Pa；

直流溅射功率：50～100W；

射频溅射功率：100～250W；

溅射工艺气体Ar流量：20～30sccm；

反应气体N₂流量：4～8sccm；

沉积镀膜厚度：400-600nm。