一种高强度低磨耗耐磨球及其制备方法与流程

文档序号:12415022阅读:376来源:国知局

本发明涉及耐磨材料技术领域,尤其涉及一种高强度低磨耗耐磨球及其制备方法。



背景技术:

球磨机是水泥、电力、选矿、建材等行业中广泛应用的粉磨设备,磨球作为球磨机中的粉碎介质,用于粉碎球磨机中的物料,其广泛用于水泥、电力、选矿、建材等行业,随着球磨机需求量越来越大,耐磨球的消耗也在大幅度增加,其存在的问题也越来越明显,如耐磨球易磨损、易腐蚀、强度低,因此改善耐磨球性能,提高其使用寿命,将会产生很大的经济效益。



技术实现要素:

基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种高强度低磨耗耐磨球及其制备方法,该高强度低磨耗耐磨球具有强度高、硬度大、抗氧化性好、耐腐蚀性好、磨耗低、使用寿命长等优点。

本发明提出了一种高强度低磨耗耐磨球,包括熔覆层与耐磨球基体,耐磨球基体其原料按质量分数包括以下成分:C:0.9~1.5%、Si:1.4~2.2%、Mn:0.4~1%、Cr:14~18%、Ni:0.45~0.6%、Cu:0.52~0.82%、Al:0.02~0.04%、Mg:0.01~0.025%、B:0.15~0.5%、Ti:0.2~0.6%、Zr:0.04~0.08%、Nb:0.01~0.03%、Mo:0.7~0.9%、V:0.04~0.08%、Nd:0.01~0.03%、W:0.04~0.07%、P≤0.02%,其余为Fe及不可避免的杂质。

优选地,耐磨球基体其原料按质量分数包括以下成分:C:1~1.2%、Si:1.7~1.9%、Mn:0.65~0.85%、Cr:15.6~17.2%、Ni:0.49~0.52%、Cu:0.62~0.72%、Al:0.028~0.034%、Mg:0.015~0.02%、B:0.25~0.4%、Ti:0.4~0.5%、Zr:0.05~0.07%、Nb:0.018~0.023%、Mo:0.77~0.85%、V:0.05~0.07%、Nd:0.017~0.022%、W:0.05~0.06%、P≤0.02%,其余为Fe及不可避免的杂质。

本发明还提出了一种高强度低磨耗耐磨球的制备方法,包括以下步骤:

S1、将原料按熔点从低到高加入中频感应熔炼炉中进行熔炼,得到钢水,经浇注成型得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将干燥后的熔覆层粉末与粘结剂混合均匀制成膏状,然后涂覆在经清洗后的耐磨球基体表面,激光熔覆处理后,冷却到室温得到初级耐磨球;

S4、将初级耐磨球预冷处理,再深冷处理,升至室温,经低温回火,然后冷处理,升至室温,在热水中静置,经低温回火后空冷至室温得到所述高强度低磨耗耐磨球。

优选地,在S4中,具体步骤如下:将初级耐磨球放入冰水中20~30min,再以1~2℃/min的速度降温至-58~-48℃,保温30~40min,然后在液氮中放置25~35min,升至室温,经20~25min升温至160~180℃,保温2~3h,空冷至室温,然后以1~2℃/min的速度降温至-68~-55℃,保温65~80min,升至室温,在80~90℃的热水中放置45~60min,除去水分后经5~10min升温至240~280℃,保温5~6h,空冷至室温后得到所述高强度低磨耗耐磨球。

优选地,在S3中,激光熔覆处理工艺为:单道扫描,氩气保护激光池,光斑直径为3.2~4.2mm,扫描速度为5.5~6.5mm/s,功率为1.28~1.35KW。

优选地,在S3中,熔覆层粉末由合金粉末与陶瓷粉末混合均匀组成,且熔覆层厚度为1.1-1.8mm;其中,陶瓷粉末粒径为60~70nm,合金粉末的粒径为80~100μm,陶瓷粉末的重量占熔覆层粉末总重量的5~9wt%。

优选地,陶瓷粉末按重量份包括以下组分:10~20份BC、20~30份SiC、10-20份Cr3C2、10~20份B2O3、15~25份TiO2、20-30份Al2O3

优选地,合金粉末按质量分数包括以下成分:C:0.4~0.8%、Cr:10~13.5%、B:0.8~1.5%、Sc:0.03~0.08%、Si:0.8~1.1%、Zr:0.1~0.3%、Ni:4~8%、Ce:0.05~0.09%、La:0.08~0.12%,余量为Fe及不可避免的杂质。

优选地,合金粉末中B、Sc、Zr的质量分数满足关系式:wB=k1wSc+k2wZr;其中,wB为B的质量分数,wSc为Sc的质量分数,wZr为Zr的质量分数,k1取4~6,k2取3~5。优选地,所述高强度低磨耗耐磨球的直径为70~100mm。

本发明中通过控制C、Cr、Si、Ni、Mn的含量,为耐磨球基体的耐腐蚀性、抗氧化性、硬度、强度与耐磨性奠定了基础;V、Mo、W、Ti、Zr配合,使耐磨球的内部组织致密,细化结晶,避免晶间腐蚀,提高整体力学性能;在熔覆层中,采用合金粉末与陶瓷粉末,合金粉末中Si、B、Sc、La、Ce、Zr配合具有良好的脱氧效果与细化晶粒的作用,减少NiO、FeO在组织中的含量,其中,Sc、La、Ce、Zr配合,改善了纳米陶瓷粉末与耐磨球基体的结合力,降低熔覆层开裂敏感性;通过函数合理控制合金粉末B、Zr、Sc的含量,在脱氧的同时部分反应生成一定量的ZrB2与ScB2,Sc又能促进ZrB2、ScB2的上浮,提高熔覆层内部的硬度、强度、耐磨性能及耐磨球表面润滑性;在熔融状态下,合金粉末之间、合金粉末与耐磨球基体表面反应生成Fe-B-Sc相、Fe-Al-Sc相、Fe-Ni-Cu-La相、Fe-C-Ce相、Fe-Ni-Ce相,同时生成CrB、Cr2B、Cr23C6、Cr7C3,大大提高了熔覆层与耐磨球基体的结合力与稳定性,同时提高了熔覆层的硬度、强度、韧性、耐磨性、耐腐蚀性等力学性能;陶瓷粉末的粒度为60~70nm,具有高韧性与低温超塑性,可以明显的改善陶瓷的脆性性能,陶瓷粉末中的BC、SiC、Cr3C2、B2O3、TiO2、Al2O3彼此配合,消除了熔覆层中合金粉末本身的枝晶紊乱形态,整个熔覆层为致密细小的等轴晶结构,通过弥散强化、固溶强化以及激光快速加热快速冷却造成的晶粒细化等因素,使熔覆层的组织形态明显改变,显著提高耐磨球的硬度、耐高温性能、耐腐蚀性能、抗氧化性能等性能;本发明中,根据合金粉末与陶瓷粉末粒径的不同,将少量的陶瓷粉末填充在合金粉末中,通过合理设置激光熔覆技术的各项参数,使熔覆层与耐磨球基体具有较强的结合强度,同时耐磨球熔覆层将合金粉末良好的力学性能与陶瓷粉末良好的耐磨性、耐腐蚀性、抗氧化性有机的结合,提高了耐磨球的使用寿命,降低了耐磨球的磨耗;熔覆处理后进行预冷处理,再缓慢降温,使耐磨球内外受热温差小,防止温度下降过快导致耐磨球表面起皮,再在液氮下进行深冷处理,提高耐磨球表面位错密度,细化组织晶粒,将残余奥氏体转变为马氏体,同时提高熔覆层与耐磨球基体的结合力,经热水保温与低温回火处理,消除耐磨球残余应力,然后进行冷处理与低温回火,使耐磨球各项性能进一步得到强化,显著提高耐磨球的性能与使用寿命,降低了耐磨球的磨耗。本发明通过合理设定温度和时间及各成分含量,实现成分设计所需达到的性能,使得熔覆层与耐磨球基体保持良好的冶金结合,没有出现裂纹、空洞等现象,综合提高了耐磨球强度、硬度、韧性、抗冲击性等力学性能,同时使得耐磨球具有良好的抗腐蚀性能、抗氧化性、耐磨性能,降低了耐磨球的磨耗,大大增加了耐磨球的使用寿命。本发明提出的高强度低磨耗耐磨球,具有强度高、硬度大、抗氧化性好、耐腐蚀性好、磨耗低、使用寿命长等优点。

对所述高强度低磨耗耐磨球进行性能测试,测试结果如下:硬度值达66~72HRC,抗压强度为560~620MPa,屈服强度为340~380MPa,冲击韧性≥12.5J/cm2,平均球耗为40~50g/t,破碎率为0.035~0.05%,寿命约为普通耐磨球的8.5~9.5倍,具有十分显著的经济效益。

具体实施方式

下面,通过具体实施例对本发明的技术方案进行详细说明。

实施例1

本发明提出的一种高强度低磨耗耐磨球,其按质量分数包括以下成分:C:0.9%、Si:2.2%、Mn:0.4%、Cr:18%、Ni:0.45%、Cu:0.82%、Al:0.02%、Mg:0.025%、B:0.15%、Ti:0.2%、Zr:0.08%、Nb:0.01%、Mo:0.9%、V:0.08%、Nd:0.01%、W:0.07%、P≤0.02%,其余为Fe及不可避免的杂质。

本发明提出的一种高强度低磨耗耐磨球的制备方法,具体步骤如下:

S1、将原料按熔点从低到高加入中频感应熔炼炉中进行熔炼,得到钢水,经浇注成型得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将干燥后的熔覆层粉末与粘结剂混合均匀制成膏状,然后涂覆在经清洗后的耐磨球基体表面,激光熔覆处理后,冷却到室温得到初级耐磨球;

S4、将初级耐磨球预冷处理,再深冷处理,升至室温,经低温回火,然后冷处理,升至室温,在热水中静置,经低温回火后空冷至室温得到所述高强度低磨耗耐磨球。

实施例2

本发明提出的一种高强度低磨耗耐磨球,其按质量分数包括以下成分:C:1.5%、Si:1.4%、Mn:1%、Cr:14%、Ni:0.6%、Cu:0.52%、Al:0.04%、Mg:0.01%、B:0.5%、Ti:0.6%、Zr:0.04%、Nb:0.03%、Mo:0.7%、V:0.04%、Nd:0.03%、W:0.04%、P≤0.02%,其余为Fe及不可避免的杂质。

本发明提出的一种高强度低磨耗耐磨球的制备方法,具体步骤如下:

S1、将原料按熔点从低到高加入中频感应熔炼炉中进行熔炼,得到钢水,经浇注成型得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将干燥后的熔覆层粉末与粘结剂混合均匀制成膏状,然后涂覆在经清洗后的耐磨球基体表面,激光熔覆处理后,冷却到室温得到初级耐磨球;

S4、将初级耐磨球放入冰水中20min,再以1℃/min的速度降温至-48℃,保温40min,然后在液氮中放置25min,升至室温,经20min升温至160℃,保温3h,空冷至室温,然后以1℃/min的速度降温至-55℃,保温80min,升至室温,在80℃的热水中放置60min,除去水分后经5min升温至240℃,保温6h,空冷至室温后得到所述高强度低磨耗耐磨球。

其中,激光熔覆处理工艺为:单道扫描,氩气保护激光池,光斑直径为3.2mm,扫描速度为6.5mm/s,功率为1.35KW;

在S3中,熔覆层粉末由合金粉末与陶瓷粉末混合均匀组成,且熔覆层厚度为1.1mm;其中,陶瓷粉末粒径为60nm,合金粉末的粒径为80μm,陶瓷粉末的重量占熔覆层粉末总重量的5wt%;

陶瓷粉末按重量份包括以下组分:10份BC、20份SiC、20份Cr3C2、10份B2O3、15份TiO2、30份Al2O3

合金粉末按质量分数包括以下成分:C:0.4%、Cr:13.5%、B:1.5%、Sc:0.08%、Si:0.8%、Zr:0.3%、Ni:4%、Ce:0.09%、La:0.08%,余量为Fe及不可避免的杂质;

所述高强度低磨耗耐磨球的直径为100mm。

实施例3

本发明提出的一种高强度低磨耗耐磨球,其按质量分数包括以下成分:C:1.2%、Si:1.8%、Mn:0.72%、Cr:16%、Ni:0.52%、Cu:0.68%、Al:0.03%、Mg:0.018%、B:0.32%、Ti:0.42%、Zr:0.06%、Nb:0.02%、Mo:0.8%、V:0.06%、Nd:0.02%、W:0.055%、P≤0.02%,其余为Fe及不可避免的杂质。

本发明提出的一种高强度低磨耗耐磨球的制备方法,具体步骤如下:

S1、将原料按熔点从低到高加入中频感应熔炼炉中进行熔炼,得到钢水,经浇注成型得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将干燥后的熔覆层粉末与粘结剂混合均匀制成膏状,然后涂覆在经清洗后的耐磨球基体表面,激光熔覆处理后,冷却到室温得到初级耐磨球;

S4、将初级耐磨球放入冰水中25min,再以1.5℃/min的速度降温至-53℃,保温35min,然后在液氮中放置30min,升至室温,经22min升温至170℃,保温2.5h,空冷至室温,然后以1.5℃/min的速度降温至-62℃,保温72min,升至室温,在85℃的热水中放置52min,除去水分后经8min升温至260℃,保温5.5h,空冷至室温后得到所述高强度低磨耗耐磨球。

其中,在S3中,激光熔覆处理工艺为:单道扫描,氩气保护激光池,光斑直径为3.6mm,扫描速度为6mm/s,功率为1.3KW;

在S3中,熔覆层粉末由合金粉末与陶瓷粉末混合均匀组成,且熔覆层厚度为1.5mm;其中,陶瓷粉末粒径为65nm,合金粉末的粒径为90μm,陶瓷粉末的重量占熔覆层粉末总重量的7.5wt%;

陶瓷粉末按重量份包括以下组分:15份BC、25份SiC、15份Cr3C2、15份B2O3、20份TiO2、25份Al2O3

合金粉末按质量分数包括以下成分:C:0.6%、Cr:11.5%、B:1.2%、Sc:0.05%、Si:0.95%、Zr:0.2%、Ni:6%、Ce:0.075%、La:0.01%,余量为Fe及不可避免的杂质;

所述高强度低磨耗耐磨球的直径为90mm。

实施例4

本发明提出的一种高强度低磨耗耐磨球,其按质量分数包括以下成分:C:1.15%、Si:2.1%、Mn:0.55%、Cr:17.2%、Ni:0.48%、Cu:0.74%、Al:0.022%、Mg:0.022%、B:0.21%、Ti:0.32%、Zr:0.07%、Nb:0.013%、Mo:0.86%、V:0.072%、Nd:0.015%、W:0.06%、P≤0.02%,其余为Fe及不可避免的杂质。

本发明提出的一种高强度低磨耗耐磨球的制备方法,具体步骤如下:

S1、将原料按熔点从低到高加入中频感应熔炼炉中进行熔炼,得到钢水,经浇注成型得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将干燥后的熔覆层粉末与粘结剂混合均匀制成膏状,然后涂覆在经清洗后的耐磨球基体表面,激光熔覆处理后,冷却到室温得到初级耐磨球;

S4、将初级耐磨球放入冰水中22min,再以1.2℃/min的速度降温至-50℃,保温38min,然后在液氮中放置27min,升至室温,经21min升温至165℃,保温2.8h,空冷至室温,然后以1.2℃/min的速度降温至-60℃,保温75min,升至室温,在88℃的热水中放置50min,除去水分后经6min升温至250℃,保温5.7h,空冷至室温后得到所述高强度低磨耗耐磨球。

其中,在S3中,激光熔覆处理工艺为:单道扫描,氩气保护激光池,光斑直径为4.5mm,扫描速度为6mm/s,功率为1.3KW;

在S3中,熔覆层粉末由合金粉末与陶瓷粉末混合均匀组成,且熔覆层厚度为1.8mm;其中,陶瓷粉末粒径为70nm,合金粉末的粒径为100μm,陶瓷粉末的重量占熔覆层粉末总重量的9wt%;

陶瓷粉末按重量份包括以下组分:20份BC、30份SiC、10份Cr3C2、20份B2O3、25份TiO2、20份Al2O3

合金粉末按质量分数包括以下成分:C:0.75%、Cr:10.8%、B:0.8%、Sc:0.065%、Si:1.02%、Zr:0.1%、Ni:7.2%、Ce:0.065%、La:0.11%,余量为Fe及不可避免的杂质;

所述高强度低磨耗耐磨球的直径为85mm。

实施例5

本发明提出的一种高强度低磨耗耐磨球,其按质量分数包括以下成分:C:1.42%、Si:1.55%、Mn:0.85%、Cr:14.6%、Ni:0.56%、Cu:0.62%、Al:0.035%、Mg:0.015%、B:0.42%、Ti:0.52%、Zr:0.055%、Nb:0.015%、Mo:0.82%、V:0.072%、Nd:0.015%、W:0.066%、P≤0.02%,其余为Fe及不可避免的杂质。

本发明提出的一种高强度低磨耗耐磨球的制备方法,具体步骤如下:

S1、将原料按熔点从低到高加入中频感应熔炼炉中进行熔炼,得到钢水,经浇注成型得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将干燥后的熔覆层粉末与粘结剂混合均匀制成膏状,然后涂覆在经清洗后的耐磨球基体表面,激光熔覆处理后,冷却到室温得到初级耐磨球;

S4、将初级耐磨球放入冰水中28min,再以1.8℃/min的速度降温至-55℃,保温32min,然后在液氮中放置32min,升至室温,经23min升温至175℃,保温2.2h,空冷至室温,然后以1.8℃/min的速度降温至-64℃,保温70min,升至室温,在88℃的热水中放置50min,除去水分后经8min升温至270℃,保温5.2h,空冷至室温后得到所述高强度低磨耗耐磨球。

其中,在S3中,激光熔覆处理工艺为:单道扫描,氩气保护激光池,光斑直径为4.2mm,扫描速度为6.5mm/s,功率为1.35KW;

在S3中,熔覆层粉末由合金粉末与陶瓷粉末混合均匀组成,且熔覆层厚度为1.8mm;其中,陶瓷粉末粒径为70nm,合金粉末的粒径为100μm,陶瓷粉末的重量占熔覆层粉末总重量的9wt%;

陶瓷粉末按重量份包括以下组分:18份BC、22份SiC、16份Cr3C2、17份B2O3、16份TiO2、26份Al2O3

合金粉末按质量分数包括以下成分:C:0.65%、Cr:10.5%、B:0.96%、Sc:0.03%、Si:0.95%、Zr:0.28%、Ni:4.7%、Ce:0.078%、La:0.095%,余量为Fe及不可避免的杂质;

所述高强度低磨耗耐磨球的直径为70mm。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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