本发明属于真空镀铝薄膜制备的
技术领域：
，具体地说是涉及一种高镀铝层附着力的真空镀铝薄膜的制备方法。
背景技术：
：真空镀铝薄膜是在真空状态(4*10-4mbar以下)下将高纯度的铝线在陶瓷蒸发舟上加热气化后附着在基材薄膜表面所制成的薄膜。真空镀铝薄膜具有氧气、水蒸气阻隔性能高、光泽度高、遮光等特点，广泛应用于食品、药品、日用品等包装领域。真空镀铝薄膜常用的基材薄膜有BOPET薄膜、CPP薄膜、BOPP薄膜等，由于现有技术所生产的镀铝薄膜镀铝层与基材薄膜之间只是简单的物理附着，所以镀铝层在基材薄膜表面的附着力较低。这样会导致镀铝薄膜与其它薄膜进行干式复合时镀铝层容易发生转移，剥离强度低，从而导致包装制袋后发生分层或封口强度差等不良。技术实现要素：本发明的目的是提供一种高镀铝层附着力的真空镀铝薄膜的制备方法，其能提高镀铝层与BOPET薄膜之间的附着力。为解决上述技术问题，本发明的目的是这样实现的：一种高镀铝层附着力的真空镀铝薄膜的制备方法：包括按以下依次进行的工序：将基材卷材放入真空镀铝机的真空室内的步骤、对真空镀铝机进行抽真空的步骤、对蒸发舟加热以达到设定的温度的步骤、控制基材卷材以设定速度放卷、对基材进行蒸镀的步骤、蒸镀后冷却的步骤、对镀铝层测厚的步骤、展平步骤、镀铝膜收卷步骤，所述的基材为BOPET薄膜，在对基材进行蒸镀的步骤之前还有将基材展开并从等离子体中通过而进行的等离子处理步骤。在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案：用于对基材进行等离子处理的等离子发生器设在基材卷材的放置区与蒸镀区之间。在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案：等离子处理步骤所采用的气体为氩气和氧气，氩气和氧气混合的质量比例为1:1——6:1。在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案：氩气和氧气混合的质量比例为3：1。在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案：等离子处理步骤所采用的气体为氮气和氧气，氩气和氧气混合的质量比例为1:1——6:1。在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案：氮气和氧气混合的质量比例为3：1。在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案：基材通过等离子体的速度为500m/min。本发明相比现有技术突出且有益的技术效果是：等离子处理的原理是等离子体是低气压或常压放电产生的电离气体(等离子体)，在电场作用下，气体中的自由电子从电场获得能量成为高能量电子，这些高能量电子与气体中的分子、原子碰撞，如果电子的能量大于分子或原子的激发能就会产生激发分子或激发原子自由基、离子和具有不同能量的辐射线，低温等离子体中的活性粒子具有的能量一般都接近或超过碳—碳或其它碳键的键能，因此能与导入系统的气体或固体表面发生化学或物理的相互作用。如果采用反应型的氧等离子体，可能与高分子表面发生化学反应而引入大量的氧基团，使其表面分子链上产生极性，表面张力明显提高，即使是采用非反应型的氩等离子体，也能通过表面的交联和蚀刻作用引起的表面物理变化而明显地改善聚合物表面的接触角和表面能，这种表面处理法的优点是处理时间短、速度快、操作简单、控制容易。本发明的高镀铝层附着力的真空镀铝薄膜的制备方法，在对镀铝前的基材采用了等离子处理步骤，利用等离子体中的高能电子和离子对薄膜表面进行刻蚀，同时，发生化学反应产生极性基团，从而提高薄膜表面的表面张力。薄膜表面的表面张力的提高不仅会增加对铝原子的吸附能力，同时薄膜表面的极性基团与铝原子产生化学结合，提高铝层在薄膜表面的附着力。本发明技术方案中的等离子处理所使用的气体介质为氩气和氧气的混合气体，同时产生反应型的氧等离子体和非反应型的氩等离子体，既能够使基材薄膜表面发生化学反应而产生极性，表面张力提高，又能够使基材薄膜表面发生交联和刻蚀作用改善表面的接触角和表面能。具体实施方式为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于已给出的实施例，本领域普通技术人员在未做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。本实施例给出了一种高镀铝层附着力的真空镀铝薄膜的制备方法：包括按以下依次进行的工序：将基材卷材放入真空镀铝机的真空室内的步骤、对真空镀铝机进行抽真空的步骤、对蒸发舟加热以达到设定的温度的步骤、控制基材卷材以设定速度放卷、对基材进行蒸镀的步骤、蒸镀后冷却的步骤、对镀铝层测厚的步骤、展平步骤、镀铝膜收卷步骤，在对基材进行蒸镀的步骤之前还有将基材展开并从等离子体中通过而进行的等离子处理步骤。通常，等离子处理步骤中采用等离子发生器以产生离子体。在本实施例中，所述的基材为BOPET薄膜。等离子处理步骤所采用的气体为氩气和氧气，氩气和氧气混合的质量比例为1:1，等离子发生器的功率为6KW，基材通过的等离子体的速度为500m/min。作为另一实施例，氩气和氧气混合的质量比例分别为：2：1，3：1，4：1、5：1、6：1。在本实施例中，等离子发生器设在基材卷材的放置区与蒸镀区之间。镀铝层与基材薄膜之间的附着牢度通过EAA热封的方法来进行检测，具体见专利号为200610039678.6的专利-利用EAA薄膜测试真空镀铝薄膜铝层附着力的方法。经实验证明，BOPET薄膜在镀铝前经过等离子处理可明显提高镀铝层与BOPET薄膜之间的附着牢度。实验结果如下：不同气体配比下镀铝层附着力的比较：采用其它材料的薄膜即便经过等离子处理，镀铝层与基材薄膜的附着牢度的影响较小。实验结果如下：基材薄膜处理功率气体类型比例生产速度镀铝层附着力12umBOPET6KWN2+O23：1500m/min1.5N/15mm12umBOPET6KWAr+O23：1500m/min2.7N/15mm25umCPP8KWN2+O23：1500m/min0.3N/15mm25umCPP8KWAr+O23：1500m/min0.5N/15mm上述实施例仅为本发明的较佳实施例，并非依此限制本发明的保护范围，故：凡依本发明的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本发明的保护范围之内。当前第1页1 2 3