本实用新型涉及研磨机或抛光机技术领域，具体涉及一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构。
背景技术：
单面研磨机/抛光机是目前硬脆材料，半导体平面加工的主要设备，因加工材料的特殊性，要求设备有很高的加工精度。上下盘的平行度对工件的表面质量起着至关重要的作用。
现有的研磨机或抛光机，上、下盘系统相对独立安装，很难保证上下盘之间的平行度，无法满足市场对硬脆材料，半导体等日益提高的工件表面质量要求。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于克服现有技术存在的问题，提供一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，保证上下盘的平行度，从而保证加工精度和工件成品的表面质量。
为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：
一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，包括上盘系统、顶台、主支座和下箱体，所述上盘系统固接在顶台上，所述顶台和主支座之间通过多个立柱组件连接，所述主支座下端设有多个减震器，所述减震器一端固接在下箱体的顶面上。
进一步的，所述主支座的下方连接有动力系统。
进一步的，所述主支座以悬挂方式连接下方的动力系统。
进一步的，所述顶台与主支座之间设有四个立柱组件。
进一步的，所述主支座与下箱体之间设有四个减震器。
本实用新型的有益效果是:
本实用新型的自平衡系统，合理的利用了减震器的弹性，有效的保证了设备在研磨抛光过程中，上盘和下盘之间的平行度，实现了上下盘在不同的工况下的自适应找正功能，保证了研磨，抛光加工过程稳定性，从而保证了加工效果，并且结构简单，保证了加工精度和工件成品的表面质量。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中标号说明：1、上盘系统，2、顶台，3、立柱组件，4、主支座，5、减震器，6、下箱体，7、动力系统。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本实用新型。
参照图1所示，一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，包括上盘系统1、顶台2、主支座4和下箱体6，所述上盘系统1固接在顶台2上，所述顶台2和主支座4之间通过多个立柱组件3连接，所述主支座4下端设有多个减震器5，所述减震器5一端固接在下箱体6的顶面上。
所述主支座4的下方连接有动力系统7。
所述主支座4以悬挂方式连接下方的动力系统7。
所述顶台2与主支座4之间设有四个立柱组件3。
所述主支座4与下箱体6之间设有四个减震器5。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。