本实用新型属于真空炉技术领域，具体涉及一种用于钢带杂质熔炼的真空炉。
背景技术：
金属纯度的变化会直接影响该金属的导电率、导热率、机械性能等物理特性，由于现代科学技术的发展对金属的纯度要求越来越高，所以提高金属的纯度具有重要的意义。
真空熔炼炉是一种金属提纯设备，主要用于金属、合金、特种金属和工业硅等材料的熔炼和提纯，而现有的真空熔炼炉大都功能单一，提纯不充分，对于杂质材料蒸发产生的气体没有很好的净化功能，容易造成大气污染，不适合广泛推广与应用。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种用于钢带杂质熔炼的真空炉，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于钢带杂质熔炼的真空炉，包括熔炼炉本体，所述熔炼炉本体的内部底端设有滑轨，所述滑轨的顶部通过滑轮滑动连接有推车，所述推车的一端贯穿熔炼炉本体固定连接有密封挡板，所述推车的顶部固定设有坩埚，所述熔炼炉本体的内部上端两侧均设有电子枪，所述电子枪的顶部固定有探测器，所述熔炼炉本体的底端一侧通过管道连接有真空泵，所述熔炼炉本体的一侧位于真空泵的顶部通过管道固定连接有补气阀，所述熔炼炉本体的顶部铰接有炉盖，所述炉盖的底端设有空气净化器，所述炉盖的顶端设有排气口，且排气口通过管道与空气净化器固定连接。
优选的，所述密封挡板的周围粘贴有密封垫片，且密封挡板的外侧固定连接有推拉扶手。
优选的，所述炉盖的顶端一侧设有贯穿炉盖的真空计量表。
优选的，所述坩埚的底部一侧通过导流口连接有模腔。
本实用新型的技术效果和优点：该用于钢带杂质熔炼的真空炉，通过真空泵可以有效的使熔炼炉本体内形成真空环境，进而可以便于熔炼杂质，推车可以在滑轨上滑动方便钢带的投放和熔炼后取出，两把电子枪和其顶部的探测器可以便于操作，使钢带杂质熔炼的更加充分彻底，杂质蒸发产生的气体在排出时先经过空气净化器净化后在排出，可以减少空气污染，炉盖顶部的真空计量表可以直观的显示当前熔炼炉本体内的真空度，补气阀可以在遇到某些难以分凝的杂质材料时向熔炼炉本体内通入某种微量气体，气体在电子枪所发出的光束的轰击下离子化，形成氧化环境，与难以分凝的材料形成高压蒸气化合物蒸发，该装置结构设计简单合理，操作方便，功能多样，熔炼充分，提纯效果好，减少空气污染，使用范围广，有利于推广和普及。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中：1熔炼炉本体、2滑轨、3推车、4密封挡板、5坩埚、6真空泵、7补气阀、8电子枪、9炉盖、10真空计量表、11排气口、12空气净化器、13探测器。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供了如图1所示的一种用于钢带杂质熔炼的真空炉，包括熔炼炉本体1，所述熔炼炉本体1的内部底端设有滑轨2，所述滑轨2的顶部通过滑轮滑动连接有推车3，所述推车3的一端贯穿熔炼炉本体1固定连接有密封挡板4，所述密封挡板4的周围粘贴有密封垫片，且密封挡板4的外侧固定连接有推拉扶手，所述推车3的顶部固定设有坩埚5，所述坩埚5的底部一侧通过导流口连接有模腔，所述熔炼炉本体1的内部上端两侧均设有电子枪8，所述电子枪8的顶部固定有探测器13，所述熔炼炉本体1的底端一侧通过管道连接有真空泵6，所述熔炼炉本体1的一侧位于真空泵6的顶部通过管道固定连接有补气阀7，所述熔炼炉本体1的顶部铰接有炉盖9，所述炉盖9的底端设有空气净化器12，所述炉盖9的顶端设有排气口11，且排气口11通过管道与空气净化器12固定连接，所述炉盖9的顶端一侧设有贯穿炉盖9的真空计量表10。
该用于钢带杂质熔炼的真空炉，通过真空泵6可以有效的使熔炼炉本体1内形成真空环境，进而可以便于熔炼杂质，推车3可以在滑轨2上滑动方便钢带的投放和熔炼后取出，两把电子枪8和其顶部的探测器13可以便于操作，使钢带杂质熔炼的更加充分彻底，杂质蒸发产生的气体在排出时先经过空气净化器12净化后在排出，可以减少空气污染，炉盖9顶部的真空计量表10可以直观的显示当前熔炼炉本体1内的真空度，补气阀7可以在遇到某些难以分凝的杂质材料时向熔炼炉本体1内通入某种微量气体，气体在电子枪8所发出的光束的轰击下离子化，形成氧化环境，与难以分凝的材料形成高压蒸气化合物蒸发，该装置结构设计简单合理，操作方便，功能多样，熔炼充分，提纯效果好，减少空气污染，使用范围广，有利于推广和普及。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。