一种高清显示行业用旋转硅锆钛靶材的制作方法

文档序号:11542411阅读:542来源:国知局

本实用新型涉及一种高清显示行业用旋转硅锆钛靶材,是高清显示行业中用来生产功能薄膜的产品,属于功能材料技术领域。



背景技术:

磁控溅射靶材是通过磁控溅射镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源,而具有各种功能的薄膜是触摸屏的必要组成部分。旋转靶材的材料利用率能达到80%,是平面靶材利用率的2-3倍,并且溅射效率高,得到了越来越普遍的应用。旋转靶材在工作时,外面是2000多度的高温和近似于真空的环境,内部需要通10公斤压力的冷却水,旋转靶材的端口需要适当的设计,才能够安装到真空磁控溅射镀膜设备上,满足溅射工艺苛刻的要求。

高端智能型触摸屏在生产过程中需要用氧化硅来作玻璃和其他功能膜层之间的过渡层,来增加两者之间的结合力,或者作为屏蔽层,阻止玻璃中的钠离子进入到液晶中。并且需要氧化铌层和氧化钛层配合来作消影层。目前普遍采用的生产工艺是用真空磁控溅射镀膜设备,分别用硅靶材、氧化钛靶和氧化铌靶材来在触摸屏玻璃上镀膜,这几种膜层组合起来,可以把ITO层由于折射率不同产生的影子痕迹消除。由于纯硅的导电性很差, 溅射困难,导致生产效率低下。氧化钛靶材容易开裂,生产难度大,成本高。单独用金属钛靶在氧化气氛下溅射虽然成本低,但是工艺很难控制,膜层质量不稳定。为了增加硅靶材的导电性,有些厂家采用低纯度的硅粉做原料,含铁和铝等杂质元素较多,甚至还有一些厂家人为的向原料硅粉里面混入一定量的铝粉。这样做虽然增加了导电性,但是其大量含有的杂质会影响膜层的颜色,还会造成膜层不均匀,甚至产生花斑使产品报废。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于克服上述不足之处,提供一种高清显示行业用旋转硅锆钛靶材。

按照本实用新型提供的技术方案,一种高清显示行业用旋转硅锆钛靶材,包括背管本体、打底层和混合层;所述背管本体上设置一层打底层,打底层上喷涂混合层;所述背管本体内部两端均设有密封槽,背管本体外部两端依次设有紧固卡槽和支撑卡槽。

所述背管本体为304不锈钢背管。所述打底层为铝钛镍打底层。

所述混合层为硅锆钛混合层。

所述背管本体外与打底层连接处设有承载区;所述承载区低于背管本体端口部位0.5-1.5mm。

所述承载区两端部设置有与承载区深度尺寸相等的圆倒角,两圆同时与背管的内径和承载区的外径相切。

所述混合层的厚度为2-20mm,具体为镀膜材料,其中锆含量为1%-30%,钛含量为5%-40%,其余为硅。

其原材料为高纯度的硅块、锆块和钛块在真空条件下熔化,浇铸成合金,然后通过破碎和筛分制成一定粒度的粉末,再经过低压等离子喷涂制成靶材。

本实用新型的有益效果:本实用新型端口的紧固可靠性高,在长时间的旋转中,不会发生渗漏,并且避免靶材在工作时发生晃动;由于增加了承载区,可以使背管内部磁铁的磁场穿透性增强,相应的靶材的最大可用厚度得到增加。设置的两个相切的圆倒角,能有效的避免应力集中导致的背管损坏。

本实用新型产品装卸方便,可靠性高,容易溅射,膜层均匀,提高了镀膜生产效率,同时提高了镀膜质量。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图。

附图标记说明:1、背管本体;2、密封槽;3、紧固卡槽;4、支撑卡槽;5、混合层;6、承载区;7、圆倒角;8、打底层。

具体实施方式

如图1所示:一种高清显示行业用旋转硅锆钛靶材,包括背管本体1、打底层8和混合层5;所述背管本体1上设置一层打底层8,打底层8上喷涂混合层5;所述背管本体1内部两端均设有密封槽2,背管本体1外部两端依次设有紧固卡槽3和支撑卡槽4。

所述背管本体1为304不锈钢背管。所述打底层8为铝钛镍打底层。所述混合层5为硅锆钛混合层。

所述背管本体1外与打底层8连接处设有承载区6;所述承载区6低于背管本体1端口部位0.5-1.5mm。

所述承载区6两端部设置有与承载区6深度尺寸相等的圆倒角7,两圆同时与背管1的内径和承载区6的外径相切。

所述混合层5的厚度为2-20mm。

本实用新型采用304不锈钢作背管,此种材料价格低廉,并且既不会生锈,也没有磁性,不会影响到使用时放置在内部的磁铁的磁场强度。304不锈钢背管的两端设有密封槽、紧固槽和支撑槽,以便和生产设备连接。背管外部加工有承载区,在承载区底面喷涂有铝钛镍合金打底层,在铝钛镍合金打底层外面喷涂有硅锆钛混合层。铝钛镍合金打底层用来增加304不锈钢背管和硅锆钛混合层之间的结合强度,其厚度为0.1-1毫米。硅锆钛混合层采用等离子喷涂工艺制作。其厚度为厚度2-20毫米,其中锆含量为1%-30%,钛含量为5%-40%,其余为硅。

本实用新型在长时间的旋转中,不会发生渗漏,并且避免靶材在工作时发生晃动;由于增加了承载区,可以使背管内部磁铁的磁场穿透性增强,相应的靶材的最大可用厚度得到增加。设置的两个相切的圆倒角,能有效的避免应力集中导致的背管损坏。其原材料为高纯度的硅块、锆块和钛块在真空条件下熔化,浇铸成合金,然后通过破碎和筛分制成一定粒度的粉末,再经过低压等离子喷涂制成靶材。

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