打磨抛光装置及打磨抛光的方法与流程

本发明涉及打磨抛光设备技术领域，具体而言，涉及一种打磨抛光装置及打磨抛光的方法。

背景技术：

现有技术中，市面上成熟的打磨抛光机较少，而且大部分的打磨抛光机都采用硬限位安装的方式进行安装，使得在打磨抛光作业过称中，打磨抛光压力不恒定。进一步地，由于现有技术中，打磨抛光机采用硬限位的安装方式，使得当需要被打磨抛光的工件在打磨抛光过程中，运送不到位，或是在打磨抛光过程中由于打磨抛光机和被打磨工件都处于固定的位置，在打磨抛光过程中由于工件不断被打磨抛光会产生一定的磨损，继而容易造成打磨抛光机与被打磨的工件的距离不断增加，使得工件受到打磨抛光机提供的压力不断改变，从而影响工件打磨抛光的效果。

技术实现要素：

本发明的主要目的在于提供一种打磨抛光装置及打磨抛光的方法，以解决现有技术中打磨抛光机压力不恒定的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种打磨抛光装置，包括：支撑部；打磨抛光部，用于对工件进行打磨抛光，打磨抛光部可活动地设置于支撑部上，打磨抛光部可根据其受到的工件的作用力而调整与支撑部的相对位置，以使打磨抛光部接触工件进行打磨抛光。

进一步地，打磨抛光部包括：驱动部，驱动部与支撑部相连接；打磨抛光件，驱动部驱动打磨抛光件在支撑部上往复运动。

进一步地，打磨抛光件具有第一打磨抛光位置和第二打磨抛光位置，驱动部的推力为F1，打磨抛光件与工件接触时受到工件的力为F2，当F1＜F2时，驱动部驱动打磨抛光件沿第一方向运动至第一打磨抛光位置，当F1≥F2时，驱动部驱动打磨抛光件沿与第一方向相反的第二方向运动至第二打磨抛光位置。

进一步地，支撑部包括：支撑架，驱动部与支撑架相连接；导轨，设置于支撑架上，打磨抛光件与导轨相连接，驱动部可驱动打磨抛光件沿导轨的长度方向滑动。

进一步地，支撑部还包括：支撑板，支撑板与导轨相连接，支撑板可相对导轨做相对运动，打磨抛光件设置于支撑板上，驱动部的驱动轴与支撑板相连接，驱动部通过驱动支撑板以使打磨抛光件滑动。

进一步地，打磨抛光装置包括：打磨抛光件，打磨抛光件具有第一打磨抛光位置和第二打磨抛光位置；弹性件，弹性件的一端与支撑部相连接，弹性件的另一端与打磨抛光件相连接，弹性件朝向打磨抛光件施加预紧力以使打磨抛光件位于第一打磨抛光位置。

进一步地，预紧力为F3，打磨抛光件与工件接触时受到工件的力为F2，当F3≥F2时，弹性件使打磨抛光件沿第三方向运动至第一打磨抛光位置，当F3＜F2时，弹性件使打磨抛光件沿与第三方向相反的第四方向运动至第二打磨抛光位置。

进一步地，打磨抛光件与支撑部可拆卸地设置，使打磨抛光件在支撑部具有第一安装位置和第二安装位置。

进一步地，打磨抛光装置还包括：气体过滤器，气体过滤器设置于支撑部上。

进一步地，打磨抛光件包括：本体；打磨抛光头，可转动地设置于本体上。

进一步地，打磨抛光头为多个，多个打磨抛光头对称地设置于本体上。

进一步地，打磨抛光头呈圆盘结构。

进一步地，驱动部驱动打磨抛光件以使本体带动圆盘结构沿圆盘结构的轴向方向移动，或者，驱动部驱动打磨抛光件以使本体带动圆盘结构沿圆盘结构的径向方向移动。

根据本发明的另一方面，提供了一种打磨抛光的方法，方法采用上述的打磨抛光装置进行打磨抛光，方法包括以下步骤：设定打磨抛光装置的驱动部的推力为F1；将打磨抛光装置的打磨抛光部对待打磨抛光的工件进行打磨抛光，打磨抛光件与工件接触时受到工件的力为F2，当F1＜F2时，驱动部驱动打磨抛光件沿第一方向运动至第一打磨抛光位置，当F1≥F2时，驱动部驱动打磨抛光件沿与第一方向相反的第二方向运动至第二打磨抛光位置。

应用本发明的技术方案，采用打磨抛光部可活动地设置在支撑部上的方式，且在打磨抛光的过程中，打磨抛光部可根据受到工件的力调整打磨抛光部在支撑部上的打磨位置，以使打磨抛光部始终紧贴工件进行打磨抛光作业。该打磨抛光装置取消了采用现有技术中硬限位的安装方式，使得该打磨抛光部在打磨作业中可以通过调整自身的打磨位置以使打磨抛光装置始终紧贴工件进行打磨抛光作业，保证了被打磨抛光的工件始终处于在一定恒力的作用下进行打磨抛光作业，提高了该打磨抛光装置的打磨抛光效果。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本发明的打磨抛光装置的实施例的结构示意图；

图2示出了图1中的打磨抛光装置的实施例的另一视角的结构示意图；

图3示出了图2中的A-A向的剖视结构示意图；

图4示出了图3中的B-B向的剖视结构示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

10、支撑部；11、支撑架；12、导轨；13、支撑板；14、滑块；20、打磨抛光部；21、驱动部；22、打磨抛光件；221、本体；222、打磨抛光头；30、气体过滤器；40、支撑板法兰；50、气缸固定板。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的术语在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

现在，将参照附图更详细地描述根据本申请的示例性实施方式。然而，这些示例性实施方式可以由多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施方式。应当理解的是，提供这些实施方式是为了使得本申请的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施方式的构思充分传达给本领域普通技术人员，在附图中，为了清楚起见，有可能扩大了层和区域的厚度，并且使用相同的附图标记表示相同的器件，因而将省略对它们的描述。

结合图1至图4所示，根据本发明的实施例，提供了一种打磨抛光装置。

具体地，该打磨抛光装置包括支撑部10和打磨抛光部20。打磨抛光部20用于对工件进行打磨抛光，打磨抛光部20可活动地设置于支撑部10上，打磨抛光部20可根据其受到的工件的作用力而调整与支撑部10的相对位置，以使打磨抛光部20接触工件进行打磨抛光。

在本实施例中，采用打磨抛光部可活动地设置在支撑部上的方式，且在打磨抛光的过程中，打磨抛光部可根据受到工件的力调整打磨抛光部在支撑部上的打磨位置，以使打磨抛光部始终紧贴工件进行打磨抛光作业。该打磨抛光装置取消了采用现有技术中硬限位的安装方式，使得该打磨抛光部在打磨作业中可以通过调整自身的打磨位置以使打磨抛光装置始终紧贴工件进行打磨抛光作业，保证了被打磨抛光的工件始终处于在一定恒力的作用下进行打磨抛光作业，提高了该打磨抛光装置的打磨抛光效果。

如图1所示，打磨抛光部20包括驱动部21和打磨抛光件22。驱动部21与支撑部10相连接。驱动部21驱动打磨抛光件22在支撑部10上往复运动。这样设置能够保证打磨抛光件22能够可活动地在支撑部10上往复运动，有效地提高了打磨抛光件22的灵活性，使得打磨抛光件22可以根据自身的受力情况对打磨工件进行恒力补偿，有效地增加了该打磨抛光装置的实用性和可靠性。

其中，打磨抛光件22具有第一打磨抛光位置和第二打磨抛光位置。当驱动部21的推力为F1，打磨抛光件22与工件接触时受到工件的力为F2，且当F1＜F2时，驱动部21驱动打磨抛光件22沿第一方向运动至第一打磨抛光位置，当F1≥F2时，驱动部21驱动打磨抛光件22沿与第一方向相反的第二方向运动至第二打磨抛光位置。这样设置能够使得打磨抛光件22能够根据自身驱动部输出的推力的大小和受到工件的力的大小进行恒力补偿，使得打磨抛光件22在打磨抛光的工程中始终与工件贴合，采用该打磨抛光装置打磨出来的工件效果好，使得工件的打磨面不会出现漏打或是少打或是打磨不均的以及打磨力度不到位而影响工件质量的情况。

具体地，支撑部10包括支撑架11和导轨12。驱动部21与支撑架11相连接。导轨12设置于支撑架11上，打磨抛光件22与导轨12相连接，驱动部21可驱动打磨抛光件22沿导轨12的长度方向滑动。这样设置能够有效地增加打磨抛光件22在支撑架11上移动时的稳定性。

为了进一步地提高打磨抛光件22在支撑架11上移动时的稳定性，支撑部10还包括支撑板13。支撑板13与导轨12相连接，支撑板13可相对导轨12做相对运动，打磨抛光件22设置于支撑板13上，驱动部21的驱动轴与支撑板13相连接，驱动部21通过驱动支撑板13以使打磨抛光件22滑动。

如图2至图4所示，为了减小支撑板13与导轨12的接触面积，可以在支撑板13的底部设置滑块14，其中，导轨12设置成两个，两个导轨12相互平行地设置于支撑架11的顶部。优选地，驱动部21为气缸。为了进一步提高气缸的稳定性，在支撑板13上设置了气缸固定板50，其中，在气缸的活塞杆的一端设置了支撑板法兰40，支撑板法兰40与支撑板13相连接，通过控制气缸的活塞杆驱动支撑板法兰40以使支撑板13在导轨12上滑动，继而达到驱动打磨抛光件22移动的目的。

在本实施例中，打磨抛光件22与支撑部10可拆卸地设置，使打磨抛光件22在支撑部10具有第一安装位置和第二安装位置。如图1所示，可以将该打磨抛光件22沿导轨12的轴线方向设置，此时打磨抛光件22的轴线与导轨12的轴线相平行，此时，打磨抛光件22位于第一安装位置。当然，也可以将打磨抛光件22的轴线设置成与导轨12的轴线相垂直的安装方式，此时，打磨抛光件22位于第二安装位置。

具体地，打磨抛光件22包括本体221和打磨抛光头222。打磨抛光头222可转动地设置于本体221上。打磨抛光头222为多个，多个打磨抛光头222对称地设置于本体221上。其中，如图1至图4所示，均示出了具有两个打磨抛光头222的实施例。

进一步地，打磨抛光头222可以是呈圆盘结构。驱动部21驱动打磨抛光件22以使本体221带动圆盘结构沿圆盘结构的轴向方向移动，或者，驱动部21驱动打磨抛光件22以使本体221带动圆盘结构沿圆盘结构的径向方向移动。即采用该设置方式还可以使得该打磨抛光装置能够实现轴向打磨功能和径向打磨功能，进一步地增加了该打磨抛光装置的实用性，提高了该打磨抛光装置的打磨抛光质量。

根据本申请的另一个实施例，可以将驱动部设置成具有弹性功能的弹性件或是伺服电机。具体地，打磨抛光装置包括打磨抛光件22和弹性件。打磨抛光件22具有第一打磨抛光位置和第二打磨抛光位置。弹性件的一端与支撑部10相连接，弹性件的另一端与打磨抛光件22相连接，弹性件朝向打磨抛光件22施加预紧力以使打磨抛光件22位于第一打磨抛光位置。其中，预紧力记为F3，打磨抛光件22与工件接触时受到工件的力为F2，当F3≥F2时，弹性件使打磨抛光件22沿第三方向运动至第一打磨抛光位置，当F3＜F2时，弹性件使打磨抛光件22沿与第三方向相反的第四方向运动至第二打磨抛光位置。这样设置同样使得该打磨抛光装置能够实现恒力补偿的打磨抛光作用。

为了进一步地提高该打磨抛光装置的打磨抛光质量，在支撑架上还设置了起到过滤管路中杂质作用的气体过滤器30。

根据本发明的另一方面，提供了一种打磨抛光的方法，该方法采用上述实施例中的打磨抛光装置进行打磨抛光。具体地，该方法包括以下步骤：设定打磨抛光装置的驱动部21的推力为F1；将打磨抛光装置的打磨抛光部20对待打磨抛光的工件进行打磨抛光，打磨抛光件22与工件接触时受到工件的力为F2，当F1＜F2时，驱动部21驱动打磨抛光件22沿第一方向运动至第一打磨抛光位置，当F1≥F2时，驱动部21驱动打磨抛光件22沿与第一方向相反的第二方向运动至第二打磨抛光位置。该打磨抛光方法中的打磨抛光装置，采用打磨抛光部可活动地设置在支撑部上的方式，且在打磨抛光的过程中，打磨抛光部可根据受到工件的力调整打磨抛光部在支撑部上的打磨位置，以使打磨抛光部始终紧贴工件进行打磨抛光作业。该打磨抛光装置取消了采用现有技术中硬限位的安装方式，使得该打磨抛光部在打磨作业中可以通过调整自身的打磨位置以使打磨抛光装置始终紧贴工件进行打磨抛光作业，保证了被打磨抛光的工件始终处于在一定恒力的作用下进行打磨抛光作业，提高了该打磨抛光装置的打磨抛光效果。

具体地，该打磨抛光装置在组装时，首先将直线导轨即导轨12与抛光机底座即支撑架固定起来，然后将支撑板安装在直线导轨上，接着将气缸与支撑板法兰以及气缸固定板连接起来，最后完成安装。

该打磨抛光装置在工作时，打磨压力会作用在抛光机打磨头即打磨抛光头上，由于抛光机连接在气缸上，若压力超过或者明显小于气缸的压力阀值，抛光机即打磨抛光件都可以在直线导轨上滑动，以实现压力补偿，保证打磨压力恒定。安装时，只需将抛光机旋转90度安装，即可实现第一安装位置和第二安装位置的切换。其中，打磨圆盘可以是布轮或者尼龙轮。

气缸复位是通过气缸本身的通产生的力复位的，该打磨抛光装置的工作原理为：开启设备，抛光机不打磨产品不受力的情况下，由于气缸通气初始状态下有力(比如通过调压阀将气缸推力调至50N)，这50N的力会将抛光机推到最远处(比如气缸行程为50mm，那此时活塞就在50mm的位置)，当抛光机工作时给予抛光机缓冲方向超过气缸推力(50N)的力的时候，由于气缸推力比外力要小，活塞杆就会被推回去。被推回去的行程就是气缸的行程(50mm)，只要抛光机受力位置偏差小于50mm，那么由于气缸推力一直存在，会将抛光机一直以50N的力顶住，也就是在气缸0-50mm行程内，始终能依靠自身活塞杆的压力使抛光机以50N的压力贴紧工件。这样这套打磨系统就能通过调压阀调整打磨所需要的抛光机与工件在打磨时需要的压力，并在做任何路径的时候一直保持此压力，保证打磨产品表面的一致性。

除上述以外，还需要说明的是在本说明书中所谈到的“一个实施例”、“另一个实施例”、“实施例”等，指的是结合该实施例描述的具体特征、结构或者特点包括在本申请概括性描述的至少一个实施例中。在说明书中多个地方出现同种表述不是一定指的是同一个实施例。进一步来说，结合任一实施例描述一个具体特征、结构或者特点时，所要主张的是结合其他实施例来实现这种特征、结构或者特点也落在本发明的范围内。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。