一种碱清洗机组浸泡装置的碱洗浸泡箱的制作方法

本发明涉及一种浸泡箱，尤其是涉及一种碱清洗机组浸泡装置的碱洗浸泡箱。

背景技术：

公知的，在铝带材轧制过程中，轧制油以及混入轧制油中的添加剂、机械油和轧辊与带材表面摩擦时产生的铝粉往往容易残留在带材表面，因此，为了清除带材表面的铝灰、铝粉及表面有机物等附着物，通常在其下游工艺配置一台碱洗机组，将被清洗的带材浸泡在一定浓度一定温度的脱脂碱液中并以一定的速度前进，通过在热的碱液中一定时间的浸泡，完成对带材上下表面的脱脂清洗，随后进入漂洗装置清除带面主要污物和残留碱液，然后再用纯水喷淋漂洗进行二次漂洗，最后通过热风的干燥和吹扫，使表面达到需要的洁净指标。在整个碱清洗系统中，脱脂碱液浸泡是第一步，也是必不可少的一步；如附图1所示，由于生产所需的碱液是带有一定温度的，在浸泡箱液面之上往往存留大量的碱蒸汽，蒸汽上升到达箱体顶部的箱盖a2，遇冷之后形成冷凝碱液a1，这些碱液会顺着箱盖a2和浸泡箱箱体上沿4之间的缝隙积聚在箱体顶部的凹槽内，且随着生产的持续进行，迅速积满溢流，导致碱液的流失和周边环境的污染。

技术实现要素：

为了克服背景技术中的不足，本发明公开了一种碱清洗机组浸泡装置的碱洗浸泡箱。

为了实现所述发明目的，本发明采用如下技术方案：

一种碱清洗机组浸泡装置的碱洗浸泡箱，包括封箱板b、挡板和箱盖b，所述封箱板b为折弯设置，使封箱板b设有多个凹槽，在凹槽的中部设有箱盖孔，在箱盖孔的四周外部设有挡板，在挡板的外部设有箱盖b，在挡板与箱盖b的两内壁之间设有水封空间，在箱盖b的两外壁与凹槽的两内壁之间均设有盛放冷凝碱液b的空间。

所述的碱清洗机组浸泡装置的碱洗浸泡箱，所述封箱板b为钣金折弯而成。

所述的碱清洗机组浸泡装置的碱洗浸泡箱，所述箱盖孔为矩形孔。

由于采用了上述技术方案，本发明具有如下有益效果：

本发明所述的碱清洗机组浸泡装置的碱洗浸泡箱，通过在箱盖孔的四周外部设有挡板，不仅对箱盖起到定位作用，也能与箱盖内壁形成一圈水封空间，碱蒸汽遇冷凝结成的碱液积聚在该水封空间和凹槽处，一旦其液面高于挡板的高度时，就再次溢流回箱体，减少了碱液的浪费流失；同时，这些碱液能够在箱体顶部形成水封，阻止后续产生的碱蒸汽上升逸出，避免了对设备周边环境的污染；本发明操作简单，维护方便，节省资源。

附图说明

图1是传统碱洗浸泡箱箱体顶部与箱盖处结合的示意图；

图2是本发明的结构示意图；

图中：1、冷凝碱液a；2、箱盖a；3、封箱板a；4、浸泡箱箱体上沿；5、封箱板b；6、凹槽；7、挡板；8、冷凝碱液b；9、箱盖b；10、箱盖孔。

具体实施方式

通过下面的实施例可以详细的解释本发明，公开本发明的目的旨在保护本发明范围内的一切技术改进。

结合附图2所述的碱清洗机组浸泡装置的碱洗浸泡箱，包括封箱板b5、挡板7和箱盖b9，所述封箱板b5为钣金折弯设置，使封箱板b5设有多个凹槽6，在凹槽6的中部设有矩形箱盖孔10，在箱盖孔10的四周外部设有挡板7，在挡板7的外部设有箱盖b9，在挡板7与箱盖b9的两内壁之间设有水封空间，在箱盖b9的两外壁与凹槽6的两内壁之间均设有盛放冷凝碱液b8的空间。

实施本发明所述的碱清洗机组浸泡装置的碱洗浸泡箱，在使用时，通过对封箱板b5进行折弯，将封箱板b5分割成多个独立的凹槽6，并在凹槽6处加工出矩形箱盖孔10，在每个箱盖孔10四周布置一圈挡板7，不仅对箱盖b9起到定位作用，也能与箱盖b9内壁形成一圈水封空间；当碱清洗机组开始工作时，被清洗的带材经过浸泡装置，浸泡在一定浓度一定温度的脱脂碱液中并以一定的速度前进，产生大量的碱蒸汽，到达箱盖b9内壁，遇冷凝结成碱液，流入挡板7与箱盖b9内壁形成的水封空间，碱蒸汽遇冷凝结成的碱液积聚在该水封空间和凹槽6处，一旦其液面高于箱盖口挡板7的高度时，就再次溢流回箱体，减少了碱液的浪费流失；同时，这些碱液能够在箱体顶部形成“水封”，阻止后续产生的碱蒸汽上升逸出，避免了对设备周边环境的污染。

本发明未详述部分为现有技术。

为了公开本发明的发明目的而在本文中选用的实施例，当前认为是适宜的，但是，应了解的是，本发明旨在包括一切属于本构思和发明范围内的实施例的所有变化和改进。

技术特征：

技术总结
一种碱清洗机组浸泡装置的碱洗浸泡箱，涉及一种浸泡箱，包括封箱板B、挡板和箱盖B，所述封箱板B为折弯设置，使封箱板B设有多个凹槽，在凹槽的中部设有箱盖孔，在箱盖孔的四周外部设有挡板，在挡板的外部设有箱盖B，在挡板与箱盖B的两内壁之间设有水封空间，在箱盖B的两外壁与凹槽的两内壁之间均设有盛放冷凝碱液B的空间；本发明通过在箱盖孔的四周外部设有挡板，与箱盖内壁形成一圈水封空间，碱蒸汽遇冷凝结成的碱液积聚在该水封空间和凹槽处，一旦其液面高于挡板的高度时，就再次溢流回箱体，减少了碱液的浪费流失。

技术研发人员：胡林;孔德刚;王建民;钟锡波;张园园
受保护的技术使用者：中色科技股份有限公司
技术研发日：2017.04.26
技术公布日：2017.07.11