支撑件及镀膜设备的制作方法

本发明涉及一种液晶显示面板生产技术，特别是一种支撑件及镀膜设备。

背景技术：

在pvd(物理气相沉积)镀膜领域中，随着靶材(target)利用率提升、纯铝工艺(metal1purealprocess)的上线，不但使运转成本大幅降低也使得维护周期大幅的延长，如此也间接提升设备运行时间(equptime)及当站的产出，但其中最大的瓶颈莫过于处理腔(processchamber)中的部件寿命(partslife)是否能匹配如此长的维护周期(pmcycle)，防着板首当其冲，但很快便以粗糙表面(emboss(aet))结构获得改善，但随后却遇到更大的问题膜剥、微粒、破片问题，其中又以破片影响最大，而破片的原因便来自于用于压住基板的支撑件(touchplate)，支撑件是在pvd镀膜设备中固定玻璃基板的结构。通过分析可知：纯铝工艺上线在腔内会将两个纯铝靶用完才保养，因此托盘上的touchplate须承受两纯铝(al)靶共10000kw/hr的轰击。支撑件无法承受10000kw/hr以上的镀膜因此造成变形，变形之后就会使支撑件与基板的安全距离产生变化，便会使破片率上升，造成大量无效产能。

技术实现要素：

为克服现有技术的不足，本发明提供一种支撑件及镀膜设备，从而降低破片率。

本发明提供了一种支撑件，包括本体，所述本体包括设于本体后部的装配部以及设于本体前部的头部，所述头部包括设于头部一侧表面并且与装配部相邻的凸起部以及设于头部前部的接触部，所述接触部与凸起部相邻的一侧表面形成接触面，所述头部的左右两端延伸至本体的左右两侧外，使本体形成t字形。

进一步地，所述凸起部与接触面相邻的一侧壁为斜面。

进一步地，所述头部的表面上覆盖有一缓冲件，所述缓冲件位于接触部处的表面形成接触面，而缓冲件位于凸起部的部分形成与接触面具有高度差的高台部，所述接触面与高台部之间的过渡面形成斜面。

进一步地，所述斜面从接触面的一侧朝凸起部的一侧高度依次递增。

进一步地，所述斜面的坡度为105°。

进一步地，所述本体由聚四氟乙烯材料制成。

进一步地，所述缓冲件由聚四氟乙烯材料制成。

进一步地，所述头部的长度大于装配部的长度。

本发明还提供了一种镀膜设备，包括用于放置基板的托盘，所述托盘中设有孔，在孔的四周分别设有用于压在基板四周边缘上的内侧防着板，在内侧防着板上设有所述的支撑件，所述本体通过装配部与内侧防着板固定，接触面与放置在托盘上的基板相对。

本发明与现有技术相比，通过增加支撑件中与基板接触的接触面面积，使承受冲击力的表面积增加，这样能够使所受到的冲击力减小，从而降低破片率。

附图说明

图1是本发明支撑件的第一种结构的主视图；

图2是本发明支撑件的第一种结构的左视图；

图3是本发明支撑件的第二种结构的主视图；

图4是本发明支撑件的第二种结构的左视图；

图5是本发明支撑件与镀膜设备的内侧防着板的连接示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明。

如图1和图2所示，作为本发明支撑件的第一种结构，支撑件包括本体1，本体1包括设于本体1后部的装配部2以及设于本体1前部的头部3，在装配部2上设有用于与部件连接的装配孔6，本发明中装配孔6为两个，其沿装配部2的长度方向设置，所述头部3包括设于头部3一侧表面并且与装配部2相邻的凸起部4以及设于头部3前部的接触部5，所述接触部5与凸起部4相邻的一侧表面形成接触面8，所述头部3的左右两端延伸至本体1的左右两侧外，使本体1形成t字形；本实施例中，装配部2的长度小于头部3的长度，接触部5的厚度大于装配部2的厚度，从而使接触面8的面积增加，这样支撑件在与基板接触时，由于接触面8的面积增加，所受到的冲击就减小，从而降低了破片率。

如图2所示，将凸起部4与接触面8相邻的一侧壁设置为斜面7，现有结构中凸起部4是用于阻挡基板，若基板放置过头，凸起部4反而会压破基板，因此将凸起部4与接触面8相邻的一侧壁设置为斜面7，可以减少对基板的压破。

具体地，斜面7从接触面6的一侧朝凸起部4的一侧高度依次递增，斜面7的坡度为102°，此坡度下的斜面对减少基板的压破的效果最好。

所述本体1采用聚四氟乙烯(ptfe)，在pvd镀膜设备的工艺温度下，采用ptfe在100°能够具有很好的柔软弹性，这样的特性即使放片位置异常，基板被凸起部4夹压也不会造成破片，从而进一步降低破片率。

如图3和图4所示，为本发明的第二种支撑件结构，支撑件包括本体1，本体1包括设于本体1后部的装配部2以及设于本体1前部的头部3，在装配部2上设有用于与部件连接的装配孔6，本发明中装配孔6为两个，其沿装配部2的长度方向设置，所述头部3包括设于头部3一侧表面并且与装配部2相邻的凸起部4以及设于头部3前部的接触部5，所述接触部5与凸起部4相邻的一侧表面形成接触面8，所述头部3的左右两端延伸至本体1的左右两侧外，使本体1形成t字形；第二种支撑件结构与第一种支撑件结构的区别在于，头部3的表面上覆盖有一缓冲件9，所述缓冲件9位于接触部5处的表面形成接触面8，而缓冲件9位于凸起部4的部分形成与接触面8具有高度差的高台部10，所述接触面8与高台部10之间的过渡面形成斜面7；装配部2的长度小于头部3的长度，这样支撑件在与基板接触时，由于接触面8的面积增加，而且设置缓冲件9，这样所受到的冲击就减小，从而降低了破片率。

本实施例中，接触面8与高台部10之间的过渡面设置成斜面7，在现有结构中凸起部4是用于阻挡基板，若基板放置过头，凸起部4反而会压破基板，因此将接触面8与高台部10之间的过渡面设置成斜面7，可以减少对基板的压破。

具体地，斜面7从接触面6的一侧朝凸起部4的一侧高度依次递增，斜面7的坡度为102°，此坡度下的斜面对减少基板的压破的效果最好。

在第二种支撑件中，缓冲件9由聚四氟乙烯材料制成，在pvd镀膜设备的工艺温度下，采用ptfe能够具有很好的柔软弹性，这样的特性即使放片位置异常，基板被凸起部4夹压也不会造成破片，从而进一步降低破片率。而仅将缓冲件采用上述材料制成，可以在保证支撑件的支撑强度的前提下，又能保证与基板接触的部分具有柔软弹性，从而避免破片。

在上述的第一种支撑件的结构中，头部3的长度为30mm；装配部2的长度为19.3mm；本体总长度为28.5mm；装配部2的厚度为2.1mm；本体的最大厚度为7mm。

第二种支撑件的结构中，头部3的长度为30mm；装配部2的长度为19.3mm；本体总长度为28.5mm；装配部2的厚度为2.1mm；高台部10的厚度为3mm；接触面8所在的缓冲件9的该部分厚度为2mm；本体1与缓冲件9结合后的最大厚度为7mm。

如图5所示，作为一种示例性结构，将本发明的支撑件用于镀膜设备中，镀膜设备包括用于放置基板的托盘12，所述托盘12中设有孔11，在孔11的四周分别设有用于压在基板四周边缘上的内侧防着板13，在内侧防着板13上设有上述两种支撑件中的一种，所述本体1通过装配部2上的装配孔6与内侧防着板13固定，接触面8与放置在托盘12上的基板相对。

当基板被放置在孔11处使，基板的四周边缘被内侧防着板13压住，接触面8与基板的表面贴合，由于内侧防着板13为金属材料，无法能够直接与基板接触，因此，设置支撑件用以与基板接触。

虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。