技术特征：
技术总结
本发明提供一种化学气相沉积设备，所述化学气相沉积设备包括：反应腔体；真空提供装置，所述真空提供装置提供所述反应腔体内的真空；源供给装置，所述源供给装置将反应气体供给到所述反应腔体中；管状加热器，所述管状加热器处于所述反应腔体内，具有开放的两端和用于容纳生长基底的管腔；催化剂传送装置，所述催化剂传送装置处于所述反应腔体中，用于将催化剂传送经过管腔。本发明还提供所述设备用于制备二维六方氮化硼‑二维石墨烯叠层结构的用途。本发明还提供一种化学气相沉积方法。
技术研发人员：郭国平;杨晖;李海欧;曹刚;肖明;郭光灿
受保护的技术使用者：中国科学技术大学
技术研发日：2017.10.24
技术公布日：2018.03.20