本实用新型涉及一种镜片镀膜装置。
背景技术：
当光线进入不同传递物质时，大约有5％会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30％至40％。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜。镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镀膜设备应用广泛。需要镀膜的镜片一般称之为基片，镀膜所采用的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。镀膜设备主要包括真空离子蒸发、磁控溅射两大类。发射源将靶材发射到基片上进行镀膜。镀膜时，基片一般放置在镀膜伞上。然而目前的镀膜设备往往存在一个问题，就是镀膜效果不理想，基片的镀膜层不均匀，甚至有的位置镀不到膜。这是因为目前的镀膜伞的形状采用的是弧形的伞状结构，基片放置于镀膜伞的弧形面上，而发射源在镀膜伞的下面，发射源将靶材从下面往上发射，由于镀膜伞是弧形面，导致基片的有些位置存在死角，靶材不能喷射到基片的各个位置，特别是弧形的基片放置在弧形的镀膜伞的情况更容易出现镀膜死角。
技术实现要素：
为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种镀膜均匀，不存在镀膜死角的镜片镀膜装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种镜片镀膜装置，包括真空腔体以及放置于该真空腔体内的发射源和镀膜伞，发射源设置在真空腔体的底部，镀膜伞设置在真空腔体的顶部。镀膜伞包括基片安装面以及围板，基片安装面设置有若干基片安装位，基片安装面为平面，镀膜伞的上方连接旋转机构，该旋转机构安装在真空腔体的顶部，旋转机构在真空腔体的顶部旋转。
作为本实用新型的进一步改进，真空腔体的底部设置有若干支撑柱，该支撑柱的顶端安装有发射源固定板，发射源安装发射源固定板的下面。
本实用新型的有益效果是：由于镀膜伞基片安装面为平面，待镀膜的基片放置于镀膜伞基片安装面上，发射源将靶材从下面往上发射，基片的每个位置都可以喷射得到，不存在镀膜死角，同时镀膜伞的上方连接旋转机构，旋转机构可带动镀膜伞旋转，更加促进基片的镀膜接触面，使镀膜更加均匀。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的立体示意图。
具体实施方式
在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本实用新型，但并不构成对本实用新型的限定。
参照图1，本实用新型的一种镜片镀膜装置，包括真空腔体3以及放置于该真空腔体3内的发射源5和镀膜伞4，发射源5设置在真空腔体3的底部，镀膜伞4设置在真空腔体3的顶部。镀膜伞4包括基片安装面41以及围板43，基片安装面41设置有若干基片安装位42，基片安装面41为平面，镀膜伞4的上方连接旋转机构6，该旋转机构6安装在真空腔体3的顶部，旋转机构6在真空腔体3的顶部旋转，旋转机构6带动镀膜伞4旋转。真空腔体3的底部设置有若干支撑柱1，该支撑柱1的顶端安装有发射源固定板2，发射源5安装发射源固定板2的下面，这样可以以简单的结构使得发射源5稳定的固定在真空腔体3的底部。
参照图1，由于镀膜伞4的基片安装面41为平面，待镀膜的基片放置于基片安装面41的安装位42上，发射源5从底部将靶材从下面往上发射，这样的结构可以保证基片的每个位置都可以喷射得到，不存在镀膜死角。同时镀膜伞4的上方连接旋转机构6，旋转机构6可带动镀膜伞4旋转，更能促进基片的镀膜接触面，使镀膜更加均匀。
以上所述仅为本实用新型的实施方式而已，并不限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。