一种半自动立式单门真空磁控溅射带蒸发镀膜设备的制作方法

文档序号:11742834阅读:368来源:国知局
一种半自动立式单门真空磁控溅射带蒸发镀膜设备的制作方法与工艺

本实用新型涉及镀膜设备技术领域,具体为一种半自动立式单门真空磁控溅射带蒸发镀膜设备。



背景技术:

真空蒸发镀膜技术是 PVD(物理气相沉积)技术中发展最早,应用领域很广的镀膜技术。其工作原理是将膜材置于真空镀膜设备的蒸发源(用来加热膜材使之气化蒸发的装置)中,在高真空条件下通过蒸发源加热膜材使之蒸发形成蒸气,蒸气到达被镀的基材表面后由于基材温度较低,蒸气便凝结在基材表面形成薄膜。目前广泛应用的是箱式蒸发镀膜机,这种箱式蒸发镀膜机主要采用电阻加热蒸发源和电子束加热蒸发源(由电子枪和坩埚组成)两种蒸发源。这种镀膜机主要包括真空室、抽气系统、蒸发源、膜厚测量系统、离子源、加热器等。传统的真空磁控溅射带蒸发镀膜设备结构复杂,功能单一,不能适应多种底色的塑料制品的表面镀膜处理,满足不了消费者的需求。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种半自动立式单门真空磁控溅射带蒸发镀膜设备,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种半自动立式单门真空磁控溅射带蒸发镀膜设备,包括机体,所述机体上安装有罗茨泵,且机体内部设置有真空室,所述真空室下方安装有分子泵,且分子泵通过波纹管与抽气管道固定连接,所述真空室通过压缩装置与磁控溅射仓相连接,所述磁控溅射仓顶部分别设置有加热组件和轰击组件,且加热组件设在轰击组件左侧,所述轰击组件上安装有中频靶,且中频靶右侧设置有中心靶,所述磁控溅射仓下方分别设置有充气组件和大门刹车,所述机体内设置有镀膜室,且镀膜室下方安装有滑阀泵。

优选的,所述抽气管道与真空室相通,且抽气管道下方设有支座。

优选的,所述压缩装置上设置有螺栓固件,且压缩装置通过导线与电源相连。

优选的,所述大门刹车下方设置有底座。

优选的,所述滑阀泵下方安装有旋片泵,且滑阀泵右侧设有蒸发仓。

优选的,所述蒸发仓左侧设置有加热器。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型集蒸发镀膜与磁控溅射镀膜于一体,适合多类塑料(ABS、PS、PP、PC、PVC)、尼龙、树脂、玻璃等工件表面工艺处理,既有高效快节拍蒸发镀高反射铝膜,也可直流磁控溅射镀不锈钢膜、钛膜或中频磁控溅射镀铝膜,镀膜过程可选择开启高压离子轰击辅助清洗,增加膜层牢固度;该设备主要大量应用于任意底色的塑料制品的表面镀膜处理成金、银、红、紫、蓝、灰、黑、七彩等多种颜色,增加表面金属质感,提高产品档次、外观更显华贵,深受消费者青睐,便于大规模进行推广和使用。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型镀膜室的连接结构示意图;

图3为本实用新型A处的局部放大图。

图中:1-机体;2-罗茨泵;3-真空室;4-压缩装置;5-加热组件;6-轰击组件;7-中频靶;8-中心靶;9-镀膜室;10-抽气管道;11-分子泵;12-波纹管;13-底座;14-充气组件;15-大门刹车;16-磁控溅射仓;17-滑阀泵;18-加热器;19-旋片泵;20-蒸发仓。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3,本实用新型提供的一种实施例:一种半自动立式单门真空磁控溅射带蒸发镀膜设备,包括机体1,机体1上安装有罗茨泵2,且机体1内部设置有真空室3,真空室3下方安装有分子泵11,且分子泵11通过波纹管12与抽气管道10固定连接,真空室3通过压缩装置4与磁控溅射仓16相连接,磁控溅射仓16顶部分别设置有加热组件5和轰击组件6,且加热组件5设在轰击组件6左侧,轰击组件6上安装有中频靶7,且中频靶7右侧设置有中心靶8,磁控溅射仓16下方分别设置有充气组件14和大门刹车15,机体1内设置有镀膜室9,且镀膜室9下方安装有滑阀泵17,抽气管道10与真空室3相通,且抽气管道10下方设有支座,压缩装置4上设置有螺栓固件,且压缩装置4通过导线与电源相连,大门刹车15下方设置有底座13,滑阀泵17下方安装有旋片泵19,且滑阀泵17右侧设有蒸发仓20,蒸发仓20左侧设置有加热器18。

本实用新型在使用时,机体1上安装有罗茨泵2,由于罗茨泵2转子的不断旋转,被抽气体从进气口吸入到转子与泵壳之间的空间内,再经排气口排出,机体1内部设置有真空室3,真空室3下方安装有分子泵11,分子泵11利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子,使之获得定向速度,从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走,分子泵11通过波纹管12与抽气管道10固定连接,真空室3通过压缩装置4与磁控溅射仓16相连接,磁控溅射仓16顶部分别设置有加热组件5和轰击组件6,机体1内设置有镀膜室9,镀膜室9下方安装有滑阀泵17,抽气管道10与真空室3相通,抽气管道10内设有阀门,通过打开阀门将真空室3内的空气抽出,保证作业环境处于完全真空中,镀膜室9可以高效快节拍蒸发镀高反射铝膜,磁控溅射仓16也可直流磁控溅射镀不锈钢膜、钛膜或中频磁控溅射镀铝膜,镀膜过程可选择开启高压离子轰击组件6来进行辅助清洗,增加膜层牢固度。

对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

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