蒸镀装置的制作方法

文档序号:14923831发布日期:2018-07-13 09:12

本发明涉及一种蒸镀装置,属于显示产品周边蒸镀设备技术领域。



背景技术:

OLED,即有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode),又称为有机电激光显示(Organic Electroluminesence Display,OELD)。OLED显示技术与传统的LCD显示方式不同,无需背光灯,采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基层,当有电流通过时,这些有机材料就会发光。而且OLED显示屏幕可以做得更轻更薄,可视角度更大,并且能够显著节省电能。OLED由N×M(N和M均为自然数)个发光象素单元按照矩阵结构排列组合而成,对于彩色OLED每个发光象素单元又包括红色子象素单元、绿色子象素单元和蓝色子象素单元。OLED的根据驱动方式分为主动式驱动(有源驱动)OLED(AMOLED)和被动式驱动(无源驱动)OLED(PMOLED)。

无论是AMOLED和PMOLED,其有机发光材料层一般都通过对有机材料进行真空蒸发镀膜形成,为了在基板上形成显示面板的各种细节构造,一般采用掩膜板来控制有机材料在基板上的镀膜位置,由于OLED需要R/G/B子像素单元分别显示才能完美地显示现实的图像,而R/G/B子像素单元都是不同的有机发光材料,所以需要采用金属材料的掩膜板来对R/G/B子像素单元分别蒸镀有机材料。目前,有机发光材料层主要采用加热蒸发镀膜的方式进行生长。现有技术提供的真空蒸镀装置,包括真空腔体、设于真空腔体内部的蒸镀源,在蒸镀有机发光材料时,将掩膜板和基板置于蒸镀源上方,掩膜板位于基板与蒸镀源之间,基板欲沉积蒸镀材料的一面朝向蒸镀源。对蒸镀源内的蒸镀材料进行加热,蒸镀材料受热成为材料蒸汽喷射进入真空腔体内,材料蒸汽通过掩膜板的开口区沉积在基板上。

掩膜板上具有多个长条形缺口,长条形缺口贯穿覆盖一列同色子象素单元。由于长条形缺口过于狭长,在将掩膜板安装并向四方张紧受力后,掩膜板易变形,不容易控制,为了防止掩膜板变形,就需要保证其机械强度,这就需要使掩膜板具有足够的厚度,但在蒸镀有机发光材料过程中又会因为掩膜板的厚度影响而存在阴影(shadow)现象,即每个子像素单元的边缘蒸镀厚度会明显低于子像素中间的蒸镀厚度,出现蒸发角,从而影响显示效果。为了防止阴影现象,掩膜板一般都是制作得越薄越好,但掩膜板过薄又存在机械强度不够的问题,且用于蒸镀大尺寸基板的掩膜板本身的尺寸也较大,在大尺寸掩膜板的机械强度不够的情况下还会出现中部下垂变形而影响对位精度等问题。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种蒸镀装置,可用于蒸镀大尺寸基板,其蒸镀材料垂直蒸镀到基板上,没有蒸发角的影响,有效防止了阴影现象。

本发明实施例提供一种蒸镀装置,用于将有机材料蒸镀到基板上,所述蒸镀装置包括真空腔室,设置在所述真空腔室内的材料槽、掩膜板和加热结构;所述材料槽与所述掩膜板之间形成有扁平的蒸发腔,所述有机材料设置在所述蒸发腔内,所述加热结构套设在所述材料槽的外侧以使所述蒸发腔内形成一致温度将所述有机材料垂直蒸镀到所述基板上。

在使用这种蒸镀装置在蒸镀过程中,在材料槽的底部整面加热有机材料,掩膜板与材料槽接合形成扁平的蒸发腔使得蒸发距离较短,有机材料汽化后垂直蒸镀到基板上,没有蒸发角的影响,有效地防止了阴影现象。

进一步地,所述材料槽包括槽底和侧壁,所述侧壁由所述槽底的边缘向垂直于所述槽底的方向向外延伸形成容置槽。

进一步地,所述加热结构包括加热底板和加热侧板,所述加热底板设置在所述材料槽的槽底远离所述掩膜板的外侧表面,所述加热侧板设置在所述材料槽的侧壁的外侧。

进一步地,所述掩膜板包括掩膜基板和边框,所述边框围绕在所述掩膜基板的边缘向垂直于所述掩膜基板的方向向外延伸、并与材料槽的侧壁相接合形成所述蒸发腔。

进一步地,所述掩膜板为一体成型的结构。

进一步地,所述掩膜板采用激光铸造。

进一步地,在蒸镀过程中,所述基板设置在所述掩膜板远离所述材料槽一侧的上方,所述蒸发腔的底部到所述基板的距离H小于1000mm。

进一步地,所述蒸镀装置还包括槽盖,在所述有机材料未达到蒸发点时,所述槽盖设置在所述材料槽的上方并与所述材料槽形成密封腔室。

进一步地,所述真空腔室内还设有槽盖放置结构,在所述有机材料达到蒸发点时,所述槽盖移动至所述槽盖放置结构上。

进一步地,所述蒸镀装置还包括放置台,所述材料槽和所述加热结构设置在所述放置台上。

附图说明

图1为本发明较佳实施例的蒸镀装置的结构示意图。

图2为本发明较佳实施例的蒸镀装置的局部结构示意图。

图3为本发明较佳实施例的蒸镀装置的掩膜板的结构示意图。

图4为本发明较佳实施例的蒸镀装置的在蒸镀过程中的结构示意图。

图5为本发明较佳实施例的蒸镀装置的材料槽与槽盖的结构示意图。

图6为沿图5的A-A线的剖面结构示意图。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术方式及功效,以下结合附图及实施例,对本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如后。

图1为本发明较佳实施例的蒸镀装置的结构示意图,图2为本发明较佳实施例的蒸镀装置的局部结构示意图,请参图1和图2,蒸镀装置100适合用于将有机材料200蒸镀到基板300上。

蒸镀装置100包括真空腔室101,设置在真空腔室101内的材料槽110、掩膜板120和加热结构130。其中,材料槽110与掩膜板120之间形成有蒸发腔140,有机材料200设置在蒸发腔140内。

材料槽110包括槽底111和侧壁112,侧壁112由槽底111的边缘向垂直于槽底111的方向向外延伸形成用于放置有机材料200的容置槽。该容置槽也是蒸发腔140的一部分。

图3为本发明较佳实施例的蒸镀装置的掩膜板的结构示意图,请一并参阅图1至图3,掩膜板120包括掩膜基板121和边框122,边框122围绕在掩膜基板121的边缘向垂直于掩膜基板121的方向向外延伸。本实施例中,掩膜板120的边框122与材料槽110的侧壁112相接合使掩膜板120和材料槽110形成封闭的蒸发腔140。

掩膜基板121上还设有多个蒸镀通孔123以及多条凹槽124。蒸镀通孔123为长条形缺口,蒸镀通孔123贯穿掩膜基板121的两侧表面。该多个蒸镀通孔123呈阵列排布设置在掩膜基板121,蒸镀通孔123对应于基板300上待蒸镀的同色子象素单元。

本实施例的掩膜板120为一体成型的结构。掩膜板120可采用激光铸造成型,强度较高,制作成大尺寸时也不会出现中部下垂的现象。

蒸发腔140的腔室呈扁平状,即掩膜板120的掩膜基板121与材料槽110的槽底111之间的距离较近。有机材料200平铺在材料槽110内。在蒸镀过程中,基板300设置在掩膜板120远离材料槽110一侧的上方,本实施例中,蒸发腔140的底部到基板的距离H小于1000mm,优选地,200mm<H<500mm。在有机材料200受热汽化成为材料蒸汽后,材料蒸汽垂直地(如图1和图2中键头方向)蒸镀到基板300上,在基板上所形成的有机发光层不会生成蒸发角,阴影现象较小。

本实施例中,加热结构130套设在材料槽110的外侧以使蒸发腔140内形成一致温度将有机材料200垂直蒸镀到基板300上。

具体地,加热结构130包括加热底板131和加热侧板132,加热底板131设置在材料槽110的槽底111远离掩膜板120的外侧表面,加热侧板132设置在材料槽110的侧壁112的外侧。加热结构130包覆在材料槽110的整个外侧使得材料槽110内的的温度一致,有机材料200受热均匀。

图4为本发明较佳实施例的蒸镀装置的在蒸镀过程中的结构示意图,图5为本发明较佳实施例的蒸镀装置的材料槽与槽盖的结构示意图,图6为沿图5的A-A线的剖面结构示意图,请一并参阅图1、图4至图6,蒸镀装置100还包括槽盖150,在有机材料200未达到蒸发点时,槽盖150设置在材料槽110的上方并与材料槽110形成密封腔室。

真空腔室101内还设有槽盖放置结构160,在有机材料200达到蒸发点时,槽盖150移动至槽盖放置结构160上。

本实施例中,蒸镀装置100还包括放置台102,材料槽110和加热结构130设置在放置台102上。槽盖放置结构160上设置在材料槽110的旁边。

本发明的蒸镀装置100在蒸镀过程中,在材料槽110的底部整面加热有机材料200,在有机材料200加热未蒸发时,材料槽110用槽盖150盖住,在有机材料200达到蒸发点时,槽盖150打开,将掩膜板120与材料槽110接合形成扁平的蒸发腔140,由于蒸发距离较短,有机材料200汽化后垂直蒸镀到基板300上,没有蒸发角的影响,有效地防止了阴影现象。

以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。

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