一种柔性BTS/BZT/BTS多层薄膜变容管的制备方法与流程

文档序号:15457828发布日期:2018-09-15 01:40阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
一种柔性BTS/BZT/BTS多层薄膜变容管的制备方法,先将铜箔柔性衬底和Sb掺杂的SnO2即ATO靶材装入脉冲激光沉积系统的靶头上;再将脉冲激光沉积系统的本底真空度抽至3.0×10‑3Pa以下,沉积得到50~1000nm厚的ATO薄膜层;再将BTS和BZT靶材分别装入脉冲激光沉积系统的靶头上,沉积得到100~500nm的BTS、BZT和BTS薄膜层,然后取出制品,在BTS薄膜和底电极ATO层表面上制备金属电极,实现柔性BTS/BZT/BTS多层薄膜变容管的整体制备。本发明介电调谐率≥50%@100kHz,介电损耗≤0.01,在柔性曲率半径为5.0mm时,性能变化率≤10%,器件性能优良,适合在柔性电子技术中应用。

技术研发人员:于仕辉;刘荣闯;赵乐;李玲霞;孙永涛
受保护的技术使用者:天津大学
技术研发日:2018.03.28
技术公布日:2018.09.14
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