技术总结
本发明公开了一种多晶硅薄膜低温物理气相沉积装置，包括机体、安装架和支撑杆，所述机体的顶部固定有气缸，且气缸的一端连接有推杆，所述推杆上安装有固定箱，且固定箱位于机体内，所述固定箱内设置有电机，所述安装架安装于沉积板内，所述夹块的内侧安装有弹簧，且弹簧的一端连接有卡块，所述支撑杆固定于沉积板的一侧，且支撑杆上安装有滑块，所述机体的内侧开设有凹槽，且凹槽内连接有滑块，所述机体内固定有靶材，且靶材位于沉积板的一侧。该多晶硅薄膜低温物理气相沉积用固定装置，通过设置的气缸和电机，使得多晶硅薄膜的沉积更均匀，可以进行双面沉积，同时可以同时处理多个多晶硅薄膜，提高了沉积效率。
技术研发人员：汪玉洁
受保护的技术使用者：汪玉洁
技术研发日：2018.06.05
技术公布日：2018.09.14