一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备的制作方法

本实用新型属于真空镀铝设备技术领域，尤其涉及一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备。

背景技术：

真空镀铝设备是在纸质或塑料材质薄膜上均匀镀上一层铝的设备。主要是在真空室内，借助蒸发器使蒸镀材料蒸发，被蒸发的材料在真空室内自由运动，当蒸发材料接触某个表面，例如被镀薄膜卷材基材时，就会冷却形成镀层。

真空镀铝薄膜是在真空状态下将高纯度的铝线在蒸发器加热气化后附着在基材薄膜表面所制成的薄膜。真空镀铝薄膜具有氧气、水蒸气阻隔性能高、光泽度高、光阻隔等特点。由于现有技术所生产的镀铝薄膜镀铝层与基材薄膜之间只是简单的物理附着，因此镀铝层在基材薄膜表面的附着力较低只有1.5n/15mm以下，这样会导致镀铝薄膜与其它薄膜进行干式复合时镀铝层容易发生转移，剥离强度低，从而导致包装制袋后发生分层或封口强度差等不良；bopet镀铝膜与卡纸湿式复合后，进行各种类型的印刷后制成各种包装彩盒，制盒过程常常由于铝层附着力问题造成油墨、铝层与薄膜分离脱墨等不良；给制袋、制盒的产品质量造成严重影响和效益的下降。在蒸发器工作初期，蒸发材料尚未处于所要求稳定蒸发状态，蒸发器温度很高，离镀铝卷材比较近，此时软绕系统尚未开启工作，所以，必须用挡板隔离隔离铝蒸发材料与镀铝薄膜。另外，在蒸镀结束后，由于同样的原因，也必须用挡板隔离隔离铝蒸发材料与镀铝薄膜。在整个过程中，会存在如下这样的问题：由于蒸发器温度很高(最高大约1550℃)，挡板位于蒸发器正上方，使得挡板会因热变形，向下方拱起；而为保证蒸发材料不会过多的从蒸发器溢出，挡板与蒸发器上轨距离很近(小于1cm)；这样导致在挡板的遮挡过程中，会有大量铝蒸发材料附着在挡板下方，造成挡板在薄膜镀铝开始前需要移开时，卡住，无法移开。但现有技术中的挡板无法解决上述的问题。

技术实现要素：

鉴于上述现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，利用等离子处理基材，提高膜表面张力，有利于提高铝层在膜表面的附着力，保证设备稳定及产品质量。

为解决上述的技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：

本实用新型为一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，具有真空室，真空室中包括有膜导向机构，蒸发器及挡板驱动机构，于蒸发器上方为左右对向设置的旋转挡板，挡板驱动机构通过转轴驱动旋转挡板旋转，所述膜导向机构引导基材依次经过等离子发射器、蒸发器，旋转挡板内部中空，旋转挡板中空部分设置有若干纵横交错呈网格状的加强筋，还包括分别位于横向布置的加强筋上下方的水管，所述旋转挡板端部具有台阶位，两左右对向设置的旋转挡板的台阶位能够相互契合衔接。

本实用新型的旋转挡板厚度为8-10cm，旋转挡板内部中空且中空位置厚度为4-5cm。

本实用新型的水管直径为16mm。

本实用新型的水管在若干纵向布置的加强筋中呈蛇形布置。

本实用新型的水管两端部贯穿旋转挡板的两侧分别为进水头与出水头。

本实用新型的等离子发射器中采用的气体介质为氩气和氧气的混合气体。

本实用新型的有益效果为：

（1）等离子处理所使用的气体介质为氩气和氧气的混合气体，同时产生反应型的氧等离子体和非反应型的氩等离子体，既能够使基材薄膜表面发生化学反应而产生极性，表面张力提高，又能够使基材薄膜表面发生交联和刻蚀作用改善表面的接触角和表面能，附着力从原来的1.5n/15mm提高到2.7n/15mm，镀铝层的附着力明显的提高；

（2）薄膜在真空室内进行等离子处理后同时进行镀铝，两个加工过程一次完成，既提高效率又降低成本；

（3）双面冷却水路设计，双数冷却水路相对于转轴对称设置，可以实现旋转挡板两面均可与转轴匹配连接，当旋转挡板一面拱起程度达到一定限度时，拆卸反转使用另一面，延长了挡板的使用周期，节约了生产成本；

（4）挡板的热变形达到阻止其移开的时间从240小时增加到3000小时，无需更换新的挡板。

附图说明：

图1是涉及本实用新型的结构示意图；

图2是涉及本实用新型中蒸发器及旋转挡板的实施状态图；

图3是涉及本实用新型中旋转挡板的俯面结构示意图。

具体实施方式：

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

请参阅图1所示，本实用新型为一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，具有真空室4，真空室4中包括有膜导向机构5，蒸发器1及挡板驱动机构，膜导向机构5通常由进料辊、导料辊及收料辊组成，基材经过蒸发器1上方，于蒸发器1上方为左右对向设置的旋转挡板2，挡板驱动机构通过转轴8驱动旋转挡板2旋转，转轴8带动旋转挡板2向上打开，向下关闭，从而决定铝蒸发材料是否上升作用于基材（薄膜），该部分在现有技术中多有应用，在此不做赘述。

具体的，膜导向机构5引导基材依次经过等离子发射器6、蒸发器1，在真空室4内对镀铝前的基材采用等离子发射器6进行等离子处理，利用等离子体中的高能电子和离子对薄膜表面进行刻蚀，同时，发生化学反应产生极性基团，从而提高薄膜表面的表面张力。薄膜表面的表面张力的提高不仅会增加对铝原子的吸附能力，同时薄膜表面的极性基团与铝分子产生化学结合，提高铝层在薄膜表面的附着力。

等离子处理是等离子体是低气压或常压放电产生的电离气体(等离子体)，在电场作用下，气体中的自由电子从电场获得能量成为高能量电子，这些高能量电子与气体中的分子、原子碰撞，如果电子的能量大于分子或原子的激发能就会产生激发分子或激发原子自由基、离子和具有不同能量的辐射线，低温等离子体中的活性粒子具有的能量一般都接近或超过碳—碳或其它碳键的键能，因此能与导入系统的气体或固体表面发生化学或物理的相互作用。如果采用反应型的氧等离子体，可能与高分子表面发生化学反应而引入大量的氧基团，使其表面分子链上产生极性，表面张力明显提高，即使是采用非反应型的氩等离子体，也能通过表面的交联和蚀刻作用引起的表面物理变化而明显地改善聚合物表面的接触角和表面能。本实施例中，等离子发射器6中采用的气体介质为氩气和氧气的混合气体，既能够使基材薄膜表面发生化学反应而产生极性，表面张力提高，又能够使基材薄膜表面发生交联和刻蚀作用改善表面的接触角和表面能。

如图2、图3所示，旋转挡板2厚度为8-10cm，旋转挡板2内部中空且中空位置厚度为4-5cm，使得旋转挡板2正反两面的厚度均在2-2.5cm之间，较厚的旋转挡板2能够更好的防止形变。

进一步的，旋转挡板2中空部分设置有若干纵横交错呈网格状的加强筋，用于加强旋转挡板2的刚性，使旋转挡板2具有若干个小面积受热面，不易发生大面积形变，能够大大延长其使用寿命。

横向布置的加强筋上下方均分布有水管3，水管3直径为16mm，大直径能够容纳更多冷却水流通循环，加强散热效果，且为了使水管3的冷却面积更好的作用于旋转挡板2，则所有纵向布置的加强筋两端应当不与旋转挡板2的内壁连接，水管3延若干纵向布置的加强筋两端绕行，整体呈蛇形布置。

水管3两端部贯穿旋转挡板2的两侧分别为进水头31与出水头32，横向布置加强筋上下两部分的水管端部可通过金属三通接头对接，这样在贯穿旋转挡板2两侧的端部即为进水头31与出水头32，具体的，进水头31与出水头32通过金属软管与外部的冷却水循环供水设备对接，以此循环供入与供出冷却水。

旋转挡板2端部具有台阶位21，两左右对向设置的旋转挡板2的台阶位21能够相互契合衔接，即左侧旋转挡板2为l型台阶位，则右侧的旋转挡板2为倒l型台阶位，这样两旋转挡板2闭合时，应当左侧旋转挡板2先行下转，右侧旋转挡板2相对后滞下转，能够在两旋转挡板2平行时完全封闭，不留缝隙，避免铝蒸发材料泄露上升。两旋转挡板2打开时，则应当右侧旋转挡板2先行上转，左侧旋转挡板2相对后滞上转。

为了便于旋转挡板2的拆装，完成正反面置换，转轴8具有凸起部81，且凸起部81中设有供旋转挡板2末端插入的插槽82，凸起部81与旋转挡板2末端均开设有若干对应的插销孔，由插销80插入将两者固定，能够在一面产生形变后，拔出插销80对旋转挡板2进行翻面，无需更换新的旋转挡板2。

由本实施例所形成的一种镀铝层高附着力薄膜，特别镀铝层和基膜高附着力镀铝薄膜，可广泛用于食品、药品、日用品、化妆品等包装以防止制袋的干式复合和制盒的湿式复合、印刷的铝层与基膜分离，提高制袋、制盒的产品质量和效益。

应当理解的是，本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。