真空双极溅射餐具镀膜方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及餐具镀膜，具体涉及一种真空双极溅射餐具镀膜方法。
【背景技术】
[0002]利用双极溅射技术进行真空镀膜的过程中，靶材消耗很快，尤其对于铜、铬、锆甚至金等非常贵重的靶材，局部刻蚀会使刻蚀部位加速凹陷，使用不久就会击穿靶材，则靶材利用率非常低，只能达到30%左右，造成产品生产成本居高不下。为了提高靶材利用率，降低生产成本，本公司研发设计了动态单极靶运动系统。
【发明内容】
[0003]本发明主要针对普通单极靶消耗过快，造成靶材利用率低、生产成本高的缺点，发明了利用一种采用单极靶形成可移动磁场使餐具上的镀层均匀一致的真空双极溅射餐具镀膜方法，可移动的磁场是通过运动的单极靶形成的，主要通过设计摆线减速机动力装置，动力装置带动单极靶缓慢转动，转动过程通过强制调节机构调整磁场，使定磁场与单极靶始终保持水平状态，最终形成了定磁场围绕单极靶均匀做圆周运动。因此，在磁控溅射过程中靶材的刻蚀位置是不断变化的，靶材表面均匀消耗。
[0004]本发明的上述技术问题是通过以下技术方案得以实施的:一种真空双极溅射餐具镀膜方法，包括封闭的溅射室，溅射室的中间为带负极的金属柱体，即单极靶，所述单极靶设置成中空，且单极靶内设置有磁块，由磁块形成定磁场，所述单极靶由一动力装置驱动，在动力装置的驱动下单极靶进行自转运动，而定磁场围绕单极靶做圆周运动；
所述溅射室内、单极靶的周围设置带正极的工架；
具体镀膜步骤如下:
步骤一:将餐具放在溅射室内的工架上，关闭溅射室，形成封闭的溅射空间；
步骤二:抽气，利用抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，使溅射室内的真空度达到0.008 ?0.015Pa ；
步骤三:向溅射室内充入惰性气体，并保持真空度在0.25?0.35Pa ；
步骤四:镀膜，给溅射室内的单极靶通高压电，电压为700伏，使溅射室内的氩气电离，电离出的氩气分子在正负极的作用下，从正极向负极运动，即氩气分子从四周向中间的单极靶运动，对单极靶形成冲击；单极靶受到氩气分子的冲击，金属分子被反弹至餐具上。
[0005]作为优选，所述抽气步骤包括:粗抽、半精抽、精抽；其中，粗抽是利用抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，使溅射室内的真空度达到75?85Pa ；
半精抽是利用罗茨泵对封闭的溅射室进行第二次抽气，使溅射室内的真空度达到2.5 ?3.5Pa ；
精抽是利用罗茨泵对封闭的溅射室进行第三次抽气，使溅射室内的真空度达到0.008 ?0.015Pao
[0006]作为优选，所述惰性气体为氩气。
[0007]作为优选，所述单极靶为不锈钢材料或铜材料或银材料。
[0008]作为优选，所述步骤四中，单极靶保持自转。
[0009]作为优选，所述步骤四中，工架以单极靶为中心，围绕其公转，公转速度为15?25
转/分。
[0010]作为优选，所述步骤四中，工架还进行自转，自转速度为周期为55?65转/分。
[0011]作为优选，镀膜完成后，开启溅射室，取出镀膜后的餐具。
[0012]综上所述，本发明与现有技术相比具有如下优点:
本发明利用一种采用单极靶形成可移动磁场使餐具上的镀层均匀一致的真空双极溅射餐具镀膜方法，可移动的磁场是通过运动的单极靶形成的，主要通过设计摆线减速机动力装置，动力装置带动单极靶缓慢转动，转动过程通过强制调节机构调整磁场，使定磁场与单极靶始终保持水平状态，最终形成了定磁场围绕单极靶均匀做圆周运动。因此，在磁控溅射过程中靶材的刻蚀位置是不断变化的，靶材表面均匀消耗。
【具体实施方式】
[0013]下面结合实施例对本发明进一步说明。
[0014]实施例1:一种真空双极溅射餐具镀膜方法，包括封闭的溅射室，溅射室的中间为带负极的304不锈钢柱体，即单极靶，所述单极靶设置成中空，且单极靶内设置有磁块，由磁块形成定磁场，所述单极靶由一动力装置驱动，在动力装置的驱动下单极靶进行自转运动，而定磁场围绕单极革E做圆周运动；
所述溅射室内、单极靶的周围设置带正极的工架；
具体镀膜步骤如下:
步骤一:将餐具放在溅射室内的工架上，关闭溅射室，形成封闭的溅射空间；
步骤二:粗抽，利用抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，用时约4分钟，使溅射室内的真空度达到75Pa ；
步骤三:半精抽，利用罗茨泵对封闭的溅射室进行第二次抽气，用时约I分钟，使溅射室内的真空度达到25Pa ；
步骤四:精抽，利用罗茨泵对封闭的溅射室进行第三次抽气，用时约6分钟，使溅射室内的真空度达到0.008Pa ；
步骤五:向溅射室内充入氩气，保持溅射室内的工作真空度在0.25Pa ；
步骤六:镀膜，给溅射室内的单极靶通高压电，电压为700伏，使溅射室内的氩气电离，电离出的氩气分子在正负极的作用下，从正极向负极运动，即氩气分子从四周向中间的单极靶运动，对单极靶形成冲击；单极靶受到氩气分子的冲击，不锈钢分子被反弹至餐具上。
[0015]在镀膜过程中，工架以单极靶为中心，围绕其公转，公转速度为15转/分。
[0016]在镀膜过程中，工架还进行自转，即放置在工架上的餐具随之旋转，工架的自转速度为周期为55转/分。
[0017]镀膜过程用时约6分钟，镀膜完成后，开启溅射室，取出镀膜后的餐具。
[0018]实施例2:—种真空双极溅射餐具镀膜方法，包括封闭的溅射室，溅射室的中间为带负极的304不锈钢柱体，即单极靶，所述单极靶设置成中空，且单极靶内设置有磁块，由磁块形成定磁场，所述单极靶由一动力装置驱动，在动力装置的驱动下单极靶进行自转运动，而定磁场围绕单极革E做圆周运动；
所述溅射室内、单极靶的周围设置带正极的工架；
具体镀膜步骤如下:
步骤一:将餐具放在溅射室内的工架上，关闭溅射室，形成封闭的溅射空间；
步骤二:粗抽，利用抽气泵对封闭的溅射室进行抽气，用时约2分钟，使溅射室内的真空度达到85Pa ；
步骤三:半精抽，利用罗茨泵对封闭的溅射室进行第二次抽气，用时约I分钟，使溅射室内的真空度达到35Pa ；
步骤四:精抽，利用罗茨泵对封闭的溅射室进行第三次抽气，用时约5分钟，使溅射室内的真空度达到0.015Pa;
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