Pvd设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体制造设备技术领域，特别是涉及一种PVD设备。
【背景技术】
[0002]传统的PVD设备(Physical Vapor Deposit1n,简称PVD,物理气相沉积),其工艺腔室由四个子腔室系统A、B、C和D构成，且四个子腔室按圆周方向均布。四个子腔室具有各自独立的工艺系统，在整个设备进行工艺过程时，四个子腔室也可以进行独立的工艺过程。
[0003]四个子腔室系统同时具备各自的上盖，四个上盖开启和关闭完全独立，各自均具有各自的开盖电机，以便对各自的子工艺腔室进行独立的维护。但在成熟半导体设备产品中，维护时间只占设备运行寿命中极少的部分，对设备进行开盖的次数也有限，这就造成了电机资源的浪费。且由于设备使用的开盖电机功率都较大，外形尺寸大、价格昂贵，不仅占用了设备的结构尺寸，而且还增加了设备的成本。
【发明内容】
[0004]基于此，有必要针对传统设备存在电机资源冗余的问题，提供一种有效利用电机资源的PVD设备。
[0005]为实现上述目的，本发明采用如下技术方案:
[0006]一种PVD设备，包括电机和四个子腔室，四个所述子腔室呈田字形排列，各所述子腔室对称设置，所述电机用于开启或关闭所述子腔室的上盖；
[0007]所述电机的数量为两个，分别为第一电机和第二电机，两个所述电机对称的设置在位于同一侧的两个所述子腔室的中间位置；
[0008]位于同一侧的两个所述子腔室的上盖分别连接到所述第一电机的两端，两个所述子腔室的上盖在所述第一电机的驱动下打开或关闭；
[0009]位于另一侧的两个所述子腔室的上盖分别连接到所述第二电机的两端，两个所述子腔室的上盖在所述第二电机的驱动下打开或关闭。
[0010]其中，还包括开盖立柱，所述开盖立柱设置在所述子腔室的侧面；
[0011]所述开盖立柱的数量为多个；每两个所述开盖立柱构成所述子腔室的支撑基座。
[0012]其中，还包括调心轴承座；所述调心轴承座固定在所述开盖立柱的上方；
[0013]所述调心轴承座的数量与所述开盖立柱的数量相同。
[0014]其中，还包括开盖焊接支架和上电极系统，所述开盖焊接支架包括转轴和悬臂梁；
[0015]所述转轴的两端分别贯穿设置在同一所述子腔室内的两个所述调心轴承座；
[0016]所述悬臂梁与所述上电极系统固定连接。
[0017]其中，所述上电极系统的数量与所述开盖焊接支架的数量相同，且等于所述子腔室的数量。
[0018]其中，还包括第一电磁制动器和第二电磁制动器；
[0019]所述第一电磁制动器为通电制动式电磁制动器，所述第一电磁制动器的一端与所述转轴固定连接；所述第一电磁制动器的另一端所述第一电机和所述第二电机电连接；
[0020]所述第一电磁制动器通电时，所述第一电磁制动器的另一端与所述第一电机和第二电机的连接轴连接；所述第一电磁制动器断电时，所述第一电磁制动器的另一端与所述第一电机和第二电机的连接轴断开。
[0021]其中，所述第二电磁制动器为断电制动式电磁制动器，所述第二电磁制动器与所示开盖焊接支架电连接；
[0022]所述第二电磁制动器通电时，所述第二电磁制动器与所述开盖焊接支架的转轴断开；所述第二电磁制动器断电时，所述第二电磁制动器与所述开盖焊接支架的转轴连接。
[0023]其中，还包括电磁制动器固定座，所述电磁制动器固定座设置在远离所述电机的开盖立柱的外侧；
[0024]所述第二电磁制动器设置在所述电磁制动器固定座上；所述电磁制动器固定座的数量与所述第二电磁制动器数量相同。
[0025]其中，还包括电机固定座，所述电机固定座的数量为多个；
[0026]多个所述电机固定座分别设置在接近所述电机的开盖立柱的外侧。
[0027]其中，还包括腔室观察窗，所述腔室观察窗的数量与所述子腔室的数量相同。
[0028]本发明的有益效果是:
[0029]本发明的PVD设备，通过一个电机控制两个子腔室的上盖的开启和关闭，减少了电机的使用数量，实现了电机资源的有效利用。同时，由于电机数量的减少，减小了设备的结构尺寸，降低了设备的成本。
【附图说明】
[0030]图1为本发明的PVD设备一实施例的整体结构示意图；
[0031]图2为图1中的局部结构示意图；
[0032]图3为图2的俯视图。
【具体实施方式】
[0033]为了使本发明的技术方案更加清楚，以下结合附图，对本发明的PVD设备作进一步详细的说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明并不用于限定本发明。
[0034]参见图1至图3，如图1所示，本发明的PVD设备一实施例的整体结构示意图包括子腔室A、子腔室B、子腔室C、子腔室D、第一电机1la和第二电机101b。其中，四个子腔室对称设置，形成田字形。两个电机相对于子腔室A和子腔室D的轴线对称设置。且子腔室A和子腔室B共用第一电机1la,第一电机1la设置在子腔室A和子腔室B的中间位置，用于驱动子腔室A和子腔室B的上盖的开启和关闭。相应地，子腔室C和子腔室D共用第二电机101b，第二电机1lb设置在子腔室C和子腔室D的中间位置，用于驱动子腔室C和子腔室D的上盖的开启和关闭。这样使得电机的数量比现有技术减少了一半，大大降低了设备成本，并且结构更为紧凑，减小了设备的结构尺寸。
[0035]通过一个电机控制两个子腔室的上盖的开启和关闭，减少了电机的使用数量，实现了电机资源的有效利用。同时，由于电机数量的减少，减小了设备的结构尺寸，降低了设备的成本。
[0036]如图2所示，本发明的PVD设备一实施例的局部结构示意图，包括第一电机101a、第一电磁制动器205a、第二电磁制动器205b、开盖焊接支架103、调心轴承座104、开盖立柱106、腔室观察室107、电磁制动器固定座208和电机固定座209。
[0037]作为一种可实施方式，开盖立柱106设置在子腔室的侧面，且开盖立柱106的数量为多个。在本实施例中，开盖立柱106的数量为八个,并且两个开盖立柱106构成各子腔室的支撑承座。如图2中，共有四个开盖立柱106，其中两个开盖立柱106构成子腔室A的支撑承座，另外两个开盖立柱106构成子腔室B的支撑承座。
[0038]较优地，调心轴承座104设置在开盖立柱106的上方,且调心轴承座104的数量与开盖立柱106的数量相同。在本实施例中，调心轴承座104的数量为八个，这样使得每一个开盖立柱106的上方均安装有一个调心轴承座104。
[0039]较优地，开盖焊接支架103的数量与子腔室的数量相同，即每个子腔室内均设置有一个开盖焊接支架103。其中，每个开盖焊接支架103均包括转轴和悬臂梁。转轴的两端分别贯穿设置在同一子腔室内的两个调心轴承座104。每个开盖焊接支架103的悬臂梁的数量为两个，两个悬臂梁与上电极系统固定连接。在本实施例中，上电极系统的数量为四个，分别为上电极系统105A、上电极系统105B、上电极系统105C和上电极系统10?。这样使得每一个子腔室均有一个上电极系统，从而实现单个子腔室的上盖的开启。
[0040]作为一种可实施方式，电磁制动器为第一电磁制动器205a和第二电磁制动器205b，且第一电磁制动器和第二电磁制动器的数量均为四个。图2中，两个第一电磁制动器205a分别与第一电机1la电连接。相应的，两个第二电磁制动器205b分别与开盖焊接支架103电连接。
[0041]较优地,第一电磁制动器205a为通电制动式电磁制动器,且第一电磁制动器的一端与开盖焊接支架103的转轴固定连接。当第一电磁制动器通电时，第一电磁制动器的另一端与第一电机和第二电机的连接轴连接，当第一电磁制动器断电时，第一电磁制动器的另一端与第一电机和第二电机的连接轴断开。这样在第一电磁制动器上电后，第一电磁制动器与电机的连接轴抱紧，进而实现电机与开盖焊接支架103的转轴相连接。这样通过电机转动的角度控制开盖焊接支架103能够沿设置在同一子腔室内的两个调心轴承座104的轴线旋转，从而使与开盖焊接支架103的悬臂梁固定连接的上电极系统开启，实现开盖的功能。图2中，两个第一电磁制动器205a分别与第一电机1la电连接,第一电磁制动器上电后，第一电磁制动器与第一电机1la的连接轴抱紧，进而实现第一电机与开盖焊接支架103的转轴相连接。
[0042]较优地，第二电磁制动器205b为断电制动式电磁制动器，且第二电磁制动器与开盖焊接支架103电连接。即当第二电磁制动器通电时，第二电磁制动器与开盖焊接支架103的转轴断开；当第二电磁制动器断电时，第二电磁制动器与开盖焊接支架103的转轴连接。且在同一子腔室中，第二电磁制动器与第一电磁制动器相对于开盖焊接支架103的转轴的中心位置对称设置。图2中，针对子腔室A区域，第一电磁制动器205a与第二电磁制动器205b相对于开盖焊接支架103的转轴的中心位置对称设置。在其他子腔室中，第一电磁制动器与第二电磁制动器的设置与子腔室A相同。
[0043]较优地，电磁制动器固定座208设置在远离电机的开盖立柱的外侧。应当清楚的是，本实施例中所指的外侧是相对开盖焊接支架103的转轴而言的。转轴主体所在的一侧为开盖立柱的内侧，相应的，转轴贯穿开盖立柱后伸出部分所在的一侧为开盖立柱的外侧。第二电磁制动器设置在电磁制动器固定座208上,且第二电磁制动器与第一电磁制动器相对