高分子合成材料抗腐蚀涂层处理工艺的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及真空薄膜领域(如触摸屏Touch panel、光学镜头、家电面板、商标logo、车标装饰件、眼镜等)，具体涉及一种高分子合成材料(俗称塑料或树脂)抗腐蚀涂层处理工艺。
【背景技术】
[0002]高分子合成材料(俗称塑料或树脂，以下简称塑料)，被广泛应用于生产日常生活中的各种产品。为达到表面装饰及一些功能方面的需求，产品后续还需要进行印刷、喷涂、激光雕刻等很多加工。虽然塑料本身具有一定的抗腐蚀性能，但由于印刷、喷涂等后续加工使用的油墨、稀释剂、固化剂具有很强的腐蚀性，容易对产品产生侵蚀，而导致产品外观出现裂纹、水纹印等不良现象。
[0003]概括地说，现有工艺直接在塑料件表面印刷、喷涂，尽管其生产成本较低，但存在以下缺点:1、工艺不稳定，生产过程难控制；2、制程良率低；3、产品表面容易产生腐蚀痕迹等外观不良；4、材料应用受限制，部分塑料件不能进行后续加工。
【发明内容】
[0004]本发明提供一种高分子合成材料抗腐蚀涂层处理工艺，其目的主要针对塑料表面耐腐蚀性能的提高而开发。
[0005]为达到上述目的，本发明采用的技术方案是:一种高分子合成材料抗腐蚀涂层处理工艺，包括以下步骤:
[0006]步骤一、离子风枪表面去静电处理:
[0007]将待处理的材料加工面朝上固定在生产夹具中，使用离子风枪对表面进行往复式清洁，所述离子风枪的工作电压为5.5-7KV，工作电流为200UA，气流速度>10m/s，时间不少于3秒，以去除材料的表面静电和附着的颗粒；
[0008]步骤二、射频表面处理:
[0009]将材料搬运至射频发生设备内，在真空环境下冲入高纯气体，利用射频发生器产生大量的等离子体，在磁场的作用下，对材料进行等离子蚀刻，消除表面应力，并再次清洁，以提尚下道工序的涂层附着力；
[0010]步骤三、第一次过渡涂层镀膜:
[0011]将射频处理后的产品搬入镀膜设备中，同样在真空环境下冲入流量在100-300Sccm的反应气体，利用直流电源对气体电离，电子在磁场的作用下，加速轰击溅射材料，同时冲入流量在100-300Sccm的氧气对材料进行氧化，在材料表面沉积一层氧化或半氧化的复合薄膜，以提高材料的抗腐蚀性；
[0012]步骤四、第二次过渡涂层镀膜:
[0013]一次溅射完成后，经过设备搬运过程缓冲，再次进行二次溅射镀膜工艺，该二次溅射镀膜工艺和步骤三相同；二次溅射处理后，在材料表面形成厚度为3000nm?5000nm的高密度薄膜。
[0014]上述技术方案中的有关内容解释如下:
[0015]1、上述方案中，所述高纯气体为纯度99.999 %的Ar或O2。
[0016]2、上述方案中，所述反应气体为Ar或N2。
[0017]3、上述方案中，所述溅射材料为Si或Sn或In或Cr。
[0018]4、上述方案中，还包括步骤五:检查、包装、出货。包括品质检查、性能测试、包装出货；此步骤五根据客户要求设计制定。
[0019]本发明的工作原理及优点如下:
[0020]本发明一种高分子合成材料抗腐蚀涂层处理工艺，通过在塑料件表面溅射耐腐蚀涂层过渡，而具备以下优点:1、加工后材料的耐腐蚀能力更佳，后续加工难度降低，不容易产生腐蚀问题，生产工艺更稳定；2、产品表面不容易产生腐蚀痕迹，制程良率提高；3、增加材料的选择和使用范围，应用产品更广；4、过渡涂层可根据要求调整颜色，达到更好的装饰效果。
【具体实施方式】
[0021]下面结合实施例对本发明作进一步描述:
[0022]实施例:一种高分子合成材料抗腐蚀涂层处理工艺，包括以下步骤:
[0023]步骤一、离子风枪表面去静电处理:
[0024]将待处理的材料加工面朝上固定在生产夹具中，使用离子风枪对表面进行往复式清洁，所述离子风枪的工作电压为5.5-7KV，工作电流为200UA，气流速度>10m/s，时间不少于3秒，以去除材料的表面静电和附着的颗粒；
[0025]步骤二、射频表面处理:
[0026]将材料搬运至射频发生设备内，在真空环境下冲入高纯气体，所述高纯气体为纯度99.999%的Ar或02。利用射频发生器产生大量的等离子体，在磁场的作用下，对材料进行等离子蚀刻，消除表面应力，并再次清洁，以提高下道工序的涂层附着力；
[0027]步骤三、第一次过渡涂层镀膜:
[0028]将射频处理后的产品搬入镀膜设备中，同样在真空环境下冲入流量在100-300Sccm的反应气体，所述反应气体为Ar或N2。利用直流电源对气体电离，电子在磁场的作用下，加速轰击溅射材料，所述溅射材料为Si或Sn或In或Cr。同时冲入流量在100-300Sccm的氧气对材料进行氧化，在材料表面沉积一层氧化或半氧化的复合薄膜，以提高材料的抗腐蚀性；
[0029]步骤四、第二次过渡涂层镀膜:
[0030]一次溅射完成后，经过设备搬运过程缓冲，再次进行二次溅射镀膜工艺，该二次溅射镀膜工艺和步骤三相同；二次溅射处理后，在材料表面形成厚度为3000nm?5000nm的高密度薄膜。
[0031]步骤五:检查、包装、出货。(包括品质检查、性能测试、包装出货；此步骤五根据客户要求设计制定。)
[0032]本发明一种高分子合成材料抗腐蚀涂层处理工艺，通过在塑料件表面溅射耐腐蚀涂层过渡，而具备以下优点:1、加工后材料的耐腐蚀能力更佳，后续加工难度降低，不容易产生腐蚀问题，生产工艺更稳定；2、产品表面不容易产生腐蚀痕迹，制程良率提高；3、增加材料的选择和使用范围，应用产品更广；4、过渡涂层可根据要求调整颜色，达到更好的装饰效果。
[0033]上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种高分子合成材料抗腐蚀涂层处理工艺，其特征在于:包括以下步骤: 步骤一、离子风枪表面去静电处理: 将待处理的材料加工面朝上固定在生产夹具中，使用离子风枪对表面进行往复式清洁，所述离子风枪的工作电压为5.5-7KV，工作电流为200UA，气流速度>10m/s，时间不少于3秒，以去除材料的表面静电和附着的颗粒； 步骤二、射频表面处理: 将材料搬运至射频发生设备内，在真空环境下冲入高纯气体，利用射频发生器产生大量的等离子体，在磁场的作用下，对材料进行等离子蚀刻，消除表面应力，并再次清洁，以提高下道工序的涂层附着力； 步骤三、第一次过渡涂层镀膜: 将射频处理后的产品搬入镀膜设备中，同样在真空环境下冲入流量在100-300Sccm的反应气体，利用直流电源对气体电离，电子在磁场的作用下，加速轰击溅射材料，同时冲入流量在100-300Sccm的氧气对材料进行氧化，在材料表面沉积一层氧化或半氧化的复合薄膜，以提高材料的抗腐蚀性； 步骤四、第二次过渡涂层镀膜: 一次溅射完成后，经过设备搬运过程缓冲，再次进行二次溅射镀膜工艺，该二次溅射镀膜工艺和步骤三相同；二次溅射处理后，在材料表面形成厚度为3000nm?5000nm的高密度薄膜。2.根据权利要求1所述的处理工艺，其特征在于:所述高纯气体为纯度99.999%的Ar或02。3.根据权利要求1所述的处理工艺，其特征在于:所述反应气体为Ar或N2。4.根据权利要求1所述的处理工艺，其特征在于:所述派射材料为Si或Sn或In或Cr。5.根据权利要求1所述的处理工艺，其特征在于:还包括步骤五:检查、包装、出货。
【专利摘要】一种高分子合成材料抗腐蚀涂层处理工艺，其特征在于包括：一、离子风枪表面去静电处理：将待处理的材料加工面朝上固定在生产夹具中，使用离子风枪对表面进行往复式清洁；二、射频表面处理：将材料搬运至射频发生设备内，利用射频发生器产生大量的等离子体对材料进行等离子蚀刻，消除表面应力，再次清洁；三、第一次过渡涂层镀膜：将射频处理后的产品搬入镀膜设备中，利用直流电源对气体电离，加速轰击溅射材料，在材料表面沉积一层复合薄膜；四、第二次过渡涂层镀膜：一次溅射完成后，经过设备搬运过程缓冲，再次进行二次溅射镀膜工艺，二次溅射处理后，在材料表面形成厚度为3000～5000nm的高密度薄膜。本发明可大幅提高塑料表面的耐腐蚀性能。
【IPC分类】C23C14/02, C23C14/20, C23C14/34
【公开号】CN104975265
【申请号】CN201510354804
【发明人】刘林兴, 张义亮
【申请人】苏州爱迪尔镀膜科技有限公司
【公开日】2015年10月14日
【申请日】2015年6月25日