影响。屏蔽层32采用铜网等金属材料，绝缘层33选用聚酰亚胺等非金属绝缘材料。在绝缘层33的外部即为真空波纹管3。
[0036]作为一个优选的实施例，该真空波纹管3为可伸缩装置，通过调节真空波纹管3的伸缩度来带动设置在其内部的离子源31以及屏蔽层32和绝缘层33移至或移出真空腔体
7。该真空波纹管3采用四支螺丝杆6固定在无缝真空管I的一端，并且该螺丝杆6可调节推拉，以控制真空波纹管3向前、后的伸缩度，且螺丝杆6上设置的刻度可以标记真空波纹管3的伸缩程度。在进行离子束溅射镀膜工艺时，调节螺丝杆6，使真空波纹管3压缩，以带动离子源31连同其外部的屏蔽层32和绝缘层33 —起推进真空腔体7内部；而当离子源31 (包括射频离子源或者直流离子源)需要维护，即进行离子源维护操作时，通过调节螺丝杆6，使真空波纹管3拉伸，以带动离子源31连同屏蔽层32和绝缘层33 —起移出真空腔体7，并且关闭插板阀2，以使得离子源31连同屏蔽层32和绝缘层33、真空波纹管3以及无缝真空管I形成密闭的离子源维护腔。
[0037]需要注意的是，螺丝杆6的硬度较大，起到固定支撑的作用；同时，又起到推拉的作用。因此，该螺丝杆6可替换为其它的推拉装置，只要其既能固定支撑又能推拉即可。
[0038]当离子源31 (包括石英腔或者电阻丝)需要维护时，调节螺丝杆6，控制真空波纹管3的拉伸，以使得离子源31连同屏蔽层32和绝缘层33 —起移出真空腔体7，此时离子源31连同屏蔽层32和绝缘层33、真空波纹管3以及无缝真空管I形成离子源维护腔；接着关闭插板阀2，使离子源维护腔与真空腔体7分隔开，形成两个独立的密闭腔室，此时离子源维护腔与真空腔体7完全独立。
[0039]之后，打开真空接口 5，将保护气体(优选为惰性气体，例如干燥氮气等)注入离子源维护腔中直至大气压下，拧下真空法兰4的螺丝，打开离子源维护腔，持续通入干燥氮气，使得后续的维护操作一直处于干燥氮气环境中；即可进行维护操作了。
[0040]进一步的，根据需要维护的程度，拆卸绝缘层33和屏蔽层32，更换电阻丝(直流离子源)或清洗石英腔(射频离子源)，以对射频离子源或直流离子源进行一系列的维护操作。
[0041]维护完毕后，安装屏蔽层32和绝缘层33，并安装真空法兰4，同时关闭氮气注入接口，将真空接口 5连接至真空泵组，对离子源维护腔进行抽真空操作；当离子源维护腔中的真空度与真空腔体7相当时，打开插板阀2，连通离子源维护腔与真空腔体7，则整个维护过程结束。
[0042]最后，将离子源31 (包括石英腔或者电阻丝)连同屏蔽层32和绝缘层33 —起推入到真空腔体7中，以方便进行离子束溅射镀膜工艺。
[0043]综上所述，本发明公开了一种离子源维护装置及离子源维护方法，通过插板阀将离子源维护腔与真空腔体分隔设置，在不将真空腔体暴露于大气环境下对离子源进行维护，避免了真空腔体的污染；并且由于离子源外侧加装了隔离保护套，使得离子源不会干扰腔体内带电粒子正常的运动，并且在镀膜操作时离子源可在真空腔体内部进行移动，可调节靶源距离，改变束斑大小和束流空间分布，进而调节薄膜沉积质量和空间分布情况。
[0044]本领域技术人员应该理解，本领域技术人员在结合现有技术以及上述实施例可以实现所述变化例，在此不做赘述。这样的变化例并不影响本发明的实质内容，在此不予赘述。
[0045]以上对本发明的较佳实施例进行了描述。需要理解的是，本发明并不局限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例，这并不影响本发明的实质内容。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。
【主权项】
1.一种离子源维护装置，其特征在于，基于真空腔体进行镀膜操作后的维护，所述离子源维护装置包括: 无缝真空管，具有两开口端，且一所述开口端通过真空法兰与所述真空腔体贯通连接； 真空波纹管，可伸缩地插接于所述无缝真空管的另一所述开口端； 离子源隔离保护套，所述离子源隔离保护套内设置有离子源，且该离子源隔离保护套设置于所述真空波纹管内部，通过所述真空波纹管的伸缩带动所述离子源隔离保护套以及内部的离子源移至所述真空腔体以进行所述镀膜操作，或带动所述离子源隔离保护套以及内部的离子源移出所述真空腔体以进行所述维护操作；并且 所述真空法兰上设置有插板阀，用于在所述维护操作时将所述离子源隔离保护套与所述真空腔体隔离。2.如权利要求1所述的离子源维护装置，其特征在于，所述离子源隔离保护套中的离子源为射频离子源或直流离子源。3.如权利要求1所述的离子源维护装置，其特征在于，所述离子源隔离保护套包括: 屏蔽层，包裹于所述离子源的外表面，以屏蔽所述离子源产生的电磁效应； 绝缘层，包裹于所述屏蔽层的外表面，以将所述屏蔽层与所述真空波纹管隔离。4.如权利要求1所述的离子源维护装置，其特征在于，所述离子源维护装置还包括: 推拉装置，固定设置于所述真空波纹管外部且与所述无缝真空管的另一所述开口端连接，通过调节所述推拉装置来控制所述真空波纹管的伸缩度，从而带动所述离子源隔离保护套以及内部的离子源移至所述真空腔体中或从所述真空腔体中移出。5.如权利要求4所述的离子源维护装置，其特征在于，所述推拉装置为既能固定支撑又能推拉的螺丝杆、弹性可伸缩结构或记忆合金，以支撑所述真空波纹管并控制所述真空波纹管的伸缩程度，并且 所述推拉装置上设置有刻度，用以标记所述真空波纹管的伸缩程度。6.如权利要求1所述的离子源维护装置，其特征在于，所述无缝真空管上设置有一真空接口，以用于抽真空或填充保护气体。7.一种离子源维护方法，其特征在于，基于上述权利要求1-6中任意一项所述的离子源维护装置，所述方法包括: 通过所述真空波纹管的伸缩将所述离子源隔离保护套以及内部的离子源移出所述真空腔体后，关闭所述插板阀，所述离子源隔离保护套以及内部的离子源和所述真空波纹管以及所述无缝真空管形成与所述真空腔体隔离的密闭真空的离子源维护腔； 在所述离子源维护腔中填充保护气体至大气压后，拆卸所述真空法兰以打开所述离子源维护腔，对所述离子源隔离保护套中的离子源进行维护操作；并且 所述维护操作过程中持续通入所述保护气体，使所述离子源维护腔处于保护气体气氛下。8.如权利要求7所述的离子源维护方法，其特征在于，所述保护气体为氮气、氩气或其他惰性保护气体。9.如权利要求7所述的离子源维护方法，其特征在于，所述维护操作包括清洗所述离子源、更换离子源部件或更换所述离子源。10.如权利要求7所述的离子源维护方法，其特征在于，还包括: 于所述维护操作完成后，停止填充保护气体，安装所述真空法兰； 对所述离子源维护腔进行抽真空以使所述离子源维护腔的真空度与所述真空腔体的真空度相当时，开启所述插板阀，使所述离子源与所述真空腔体连通。
【专利摘要】本发明涉及离子束溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种离子源维护装置及离子源维护方法，通过插板阀将离子源维护腔与真空腔体分隔设置，在不将真空腔体暴露于大气环境下对离子源进行维护，避免了真空腔体的污染；并且由于离子源外侧加装了隔离保护套，使得射频离子源不会干扰腔体内带电粒子的正常运动，在进行镀膜工艺时离子源可在真空腔体内部进行移动，可调节靶源距离，改变束斑大小和束流空间分布，进而调节薄膜沉积质量和空间分布情况。
【IPC分类】C23C14/46
【公开号】CN104988467
【申请号】CN201510408020
【发明人】闫宗楷, 向勇, 徐子明
【申请人】宁波英飞迈材料科技有限公司
【公开日】2015年10月21日
【申请日】2015年7月10日