一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统及其净化方法_2

文档序号:9467199阅读:来源:国知局
孔的外径小于旋转中轴的凸缘外径,其中,旋转中轴的上凸缘抵在镀膜机炉体I上表面,下凸缘抵在镀膜治具2下表面。
[0020]所述的氮气装置4和离子装置5安装在镀膜机炉体I的底部,氮气装置4主要由相互连接的氮气源发生器和供氮管道、气体流量调节阀、调压阀、单向阀组成,氮气源发生器通过气体流量调节阀、调压阀而调节氮气流速与氮气压力;离子装置5主要由电性连接的离子推进器和离子转换器组成;所述对镀膜产品二次清洁的离子净化系统需要在氮气环境下进行,因此氮气装置4可提供安全可靠的净化环境;所述的电子束蒸发装置3固定安装在镀膜机炉体I的底部,通过电子束蒸发装置3加热镀膜材料后蒸发镀膜到产品表面。
[0021]所述的净化除尘装置6设置在镀膜治具2的邻近处,主要由离子棒61、吸尘管62、高压电源、离子针63和固定件65组成,离子棒61为细长条管状,轴套安装在吸尘管62内,吸尘管62管壁开设有10-20个纵向排列的通孔为吸风口 64,离子针63设置在离子棒61上,且离子针63针向正对吸风口 64,净化除尘装置6通过固定件65焊接或紧扣连接有除尘装置支撑架7 ;所述的净化除尘装置6通过除尘装置支撑架7倾斜或水平安装在镀膜机炉体I内,除尘装置支撑架7包括横向支撑杆与竖直支撑杆,竖直支撑杆底部固定在炉体底面,顶部与横向支撑杆铰接连接,形成横向支撑杆可沿铰接点转动的安装结构;所述镀膜机炉体I内的净化除尘装置6设置有1-3个,除尘装置支撑架7对应设置有1-3个。
[0022]—种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统的净化方法,所述的净化方法包括以下步骤:
1)将镀膜机炉体I调至真空环境,使炉体为无压状态;
2)开启氮气源发生器,为离子净化系统供给氮气源,氮气源为产品清洁工作提供安全可靠的净化环境;
3)开启离子推进器的电源,使其离子源引出离子束流,以完成产品表面净化工作,离子推进器可通过离子转换器转换离子;
4)启动净化除尘装置6,设定净化时间,完成产品表面二次净化清洁工作。
[0023]当所述离子净化系统设置有2-3个净化除尘装置6时,净化除尘装置6的工作次序为:首先启动第一个净化除尘装置6,设定其净化时间,在净化时间临近结束时,关闭第一个净化除尘装置6,启动另一个净化除尘装置6,同时设定其净化时间,以此循环,使得各个净化除尘装置6相互配合持续工作,而且可以保证使用性能以及延长使用寿命。
[0024]以上所述,仅是本发明的较佳实施例,并非对本发明的技术范围作任何限制,本行业的技术人员,在本技术方案的启迪下,可以做出一些变形与修改,凡是依据本发明的技术实质对以上的实施例所作的任何修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统,离子净化系统安装在镀膜机炉体内,其特征在于:所述的离子净化系统主要包括镀膜治具、电子束蒸发装置、氮气装置、离子装置和净化除尘装置,其中, 所述的镀膜治具为安装在镀膜机炉体内顶部的大型伞形状,镀膜治具的中轴处连接有旋转中轴,通过旋转中轴使镀膜治具活动安装在镀膜机炉体顶壁中央,镀膜治具表面印设有适配产品排列定位的型印; 所述的氮气装置和离子装置安装在镀膜机炉体的底部,氮气装置主要由相互连接的氮气源发生器和供氮管道、气体流量调节阀、调压阀、单向阀组成,氮气源发生器通过气体流量调节阀、调压阀而调节氮气流速与氮气压力;离子装置主要由电性连接的离子推进器和离子转换器组成; 所述的净化除尘装置设置在镀膜治具的邻近处,主要由离子棒、吸尘管、高压电源、离子针和固定件组成,离子棒为细长条管状,轴套安装在吸尘管内,吸尘管管壁开设有10-20个纵向排列的通孔为吸风口,离子针设置在离子棒上,且离子针针向正对吸风口,净化除尘装置通过固定件焊接或紧扣连接有除尘装置支撑架。2.根据权利要求1所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统,其特征在于:所述的净化除尘装置通过除尘装置支撑架倾斜或水平安装在镀膜机炉体内,除尘装置支撑架包括横向支撑杆与竖直支撑杆,竖直支撑杆底部固定在炉体底面,顶部与横向支撑杆铰接连接,形成横向支撑杆可沿铰接点转动的安装结构。3.根据权利要求2所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统,其特征在于:所述镀膜机炉体内的净化除尘装置设置有1-3个,除尘装置支撑架对应设置有1-3个。4.根据权利要求1所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统,其特征在于:所述的镀膜机炉体顶壁安装有与旋转中轴电连接的旋转驱动装置。5.根据权利要求1或4所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统,其特征在于:所述旋转中轴成形为包括一中间轴段与两端凸缘的线圈状,其中间轴段贯穿镀膜机炉体与镀膜治具开设的中轴孔,同时中轴孔的外径小于旋转中轴的凸缘外径,其中,旋转中轴的上凸缘抵在镀膜机炉体上表面,下凸缘抵在镀膜治具下表面。6.根据权利要求3所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统,其特征在于:所述的电子束蒸发装置固定安装在镀膜机炉体的底部,通过电子束蒸发装置加热镀膜材料后蒸发镀膜到产品表面。7.一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统的净化方法,其特征在于,所述的净化方法包括以下步骤: 1)将镀膜机炉体调至真空环境,使炉体为无压状态; 2)开启氮气源发生器,为离子净化系统供给氮气源; 3)开启离子推进器的电源,使其离子源引出离子束流,以完成产品表面净化清洁工作; 4)启动净化除尘装置,设定净化时间,完成产品表面二次净化清洁工作。8.根据权利要求7所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统的净化方法,其特征在于:当所述离子净化系统设置有2-3个净化除尘装置时,净化除尘装置的工作次序为:首先启动第一个净化除尘装置,设定其净化时间,在净化时间临近结束时,关闭第一个净化除尘装置,启动另一个净化除尘装置,同时设定其净化时间,以此循环。
【专利摘要】本发明涉及一种在真空状态的镀膜腔室下可对镀膜产品进行表面清洁的净化设备,尤指一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统及其净化方法,安装在镀膜机炉体内,主要包括镀膜治具、电子束蒸发装置、氮气装置、离子装置和净化除尘装置,镀膜治具为安装在镀膜机炉体内顶部的大型伞形状,镀膜治具通过中轴处连接的旋转中轴使镀膜治具活动安装在镀膜机炉体顶壁中央,氮气装置主要由相互连接的氮气源发生器和供氮管道、气体流量调节阀、调压阀、单向阀组成,离子装置主要由电性连接的离子推进器和离子转换器组成;净化除尘装置设置在镀膜治具的邻近处;本发明具有安装维护方便、维护成本低等特点,同时工艺操作简单、产能最大化、效率高、节约人力。
【IPC分类】C23C14/30
【公开号】CN105220115
【申请号】CN201510722667
【发明人】刘双良
【申请人】东莞市华星镀膜科技有限公司, 东莞市华星纳米科技有限公司
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2015年10月31日
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