部201，且在第二固定部202的两端设置有多个上述安装孔203。
[0022]进一步地，如图5所示，镀膜基片架还包括用于将每一竖杆2分别滑动连接在横杆3上的滑块5。具体地，滑块5包括滑动部51和与滑动部51固定连接的夹持部52。
[0023]进一步地，如图6所不，在本发明的一个实施例中，在每一横杆3沿其长度方向开设有凹槽31，上述滑动部51用于滑动连接在凹槽31内，夹持部52用于夹持竖杆2的第二连接部201。
[0024]具体地，横杆3包括第一固定部301和层叠在第一固定部301上方且与第一固定部301 —体成型的第一连接部302，该第一连接部302上设置有上述凹槽31，另外，第一固定部301的长度大于第一连接部302，且在第一固定部301的两端设置有上述U形螺孔21。
[0025]在本发明的另一个实施例中，在每一竖杆2沿其长度方向开设有凹槽31，上述滑动部51用于滑动连接在凹槽31内，夹持部52用于夹持横杆3。
[0026]优选地，当在横杆3上开设凹槽31时，横杆3设置在竖杆2的下方，以方便滑动竖杆2 ;当在竖杆2上开设凹槽31时，竖杆2设置在横杆3的下方，以方便滑动横杆3。
[0027]进一步优选地，凹槽31的横截面呈梯形。相应地，滑动部51的横截面也呈梯形且尺寸与凹槽31匹配。
[0028]进一步地，夹持部52的横截面呈梯形，且夹持部52的梯形横截面所在的平面垂直于滑动部51的梯形横截面所在的平面。具体地，夹持部52内设置有横截面呈梯形的夹持槽501，该夹持槽501可用于夹持上述竖杆2的第二连接部201，此时第二连接部201的横截面也呈梯形。
[0029]优选地，本发明实施例的镀膜基片架用于高温真空镀膜领域，其材质为高温无氧铜或高强度不锈钢材料。
[0030]本发明还提供了一种真空镀膜设备，其包括上述所述的镀膜基片架。
[0031]本发明通过将内部框架4设于外部框架1之上，同时通过紧固螺丝固定，解决了玻璃基片的支撑和传送的问题。同时由于内部框架4采用至少两个横杆3和至少两个竖杆2相互之间滑动的方式自由组合，可方便快捷的形成各种尺寸。在在线生产的情况下，可快速地把内部框架4调节成需要的尺寸，通过滑动横杆3和竖杆2，完成内部框架4的调节，再通过紧固螺丝把内部框架4固定在外部框架1上，整个操作过程在等候基片装载段即可完成，节约了生产时间。同时省去了备用的多套相应尺寸基片架，节约了生产成本。
[0032]以上材料的研究和试验均由国家高技术研究发展计划(863计划)中课题“高性能低成本多点触摸电容屏产业化关键技术”的经费资助，课题编号:2013AA030602。
[0033]以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种镀膜基片架，其特征在于，包括用于传动和支撑的外部框架(1)和设置在所述外部框架(1)内的至少两个竖杆(2)和至少两个横杆(3)，每相邻的两个所述竖杆(2)和每相邻的两个所述横杆(3)围合成尺寸可调的内部框架(4);每一所述竖杆(2)与每一所述横杆(3)滑动连接，每一所述竖杆(2)可沿所述横杆(3)的长度方向滑动，每一所述横杆(3)可沿所述竖杆(2)的长度方向滑动，以调节所述内部框架(4)的尺寸。2.如权利要求1所述的镀膜基片架，其特征在于，所述镀膜基片架还包括用于将每一所述竖杆(2)分别滑动连接在所述横杆(3)上的滑块(5)。3.如权利要求2所述的镀膜基片架，其特征在于，每一所述横杆(3)沿其长度方向开设有凹槽(31)，所述滑块(5)包括与所述凹槽(31)匹配且用于滑动连接在所述凹槽(31)内的滑动部(51)和与所述滑动部(51)固定连接且用于夹持所述竖杆(2)的夹持部(52)。4.如权利要求2所述的镀膜基片架，其特征在于，每一所述竖杆(2)沿其长度方向开设有凹槽(31)，所述滑块(5)包括与所述凹槽(31)匹配且用于滑动连接在所述凹槽(31)内的滑动部(51)和与所述滑动部(51)固定连接且用于夹持所述横杆(3)的夹持部(52)。5.如权利要求2或3所述的镀膜基片架，其特征在于，所述凹槽(31)的横截面呈梯形。6.如权利要求5所述的镀膜基片架，其特征在于，所述夹持部(52)的横截面呈梯形，且所述夹持部(52)的梯形横截面所在的平面垂直于所述滑动部(51)的梯形横截面所在的平面。7.如权利要求1所述的镀膜基片架，其特征在于，每一所述横杆(3)和竖杆(2)的两端均设置有U形螺孔(21);所述镀膜基片架还包括与所述U形螺孔(21)配合且用于在所述内部框架(4)的尺寸确定时将所述横杆(3)和竖杆(2)固定在所述外部框架(1)上的紧固螺钉。8.如权利要求1所述的镀膜基片架，其特征在于，所述镀膜基片架包括两个所述竖杆(2)和两个所述横杆(3)。9.如权利要求1所述的镀膜基片架，其特征在于，所述镀膜基片架由高温无氧铜材料或不锈钢材料制成。10.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的镀膜基片架。
【专利摘要】本发明适用于真空镀膜技术领域，公开了一种镀膜基片架及真空镀膜设备，所述镀膜基片架包括用于传动和支撑的外部框架和设置在外部框架内的至少两个竖杆和至少两个横杆，每相邻的两个竖杆和每相邻的两个横杆围合成尺寸可调的内部框架；每一竖杆与每一横杆滑动连接，每一竖杆可沿横杆的长度方向滑动，每一横杆可沿竖杆的长度方向滑动，以调节内部框架的尺寸。本发明通过将至少两个横杆和至少两个竖杆滑动连接在外部框架内，可自由组合成各种尺寸的内部框架，再将横杆和竖杆固定在镀膜基片架外部框架上，即可开始放玻璃片进行镀膜，可快速在线切换产品尺寸；同时，本发明在实际镀膜生产中的应用，既节约了生产成本也提高了生产效率。
【IPC分类】C03C17/00, C23C14/50
【公开号】CN105316641
【申请号】CN201510759845
【发明人】董清世, 邵世强, 李晓东, 韦珂珂
【申请人】信义光伏产业(安徽)控股有限公司
【公开日】2016年2月10日
【申请日】2015年11月9日