一种纯水压元件的qpq盐浴复合处理工艺的制作方法

文档序号:9763136阅读:715来源:国知局
一种纯水压元件的qpq盐浴复合处理工艺的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明属于金属元件制造加工业技术领域,具体涉及一种纯水压元件的QPQ盐浴复合处理工艺。
【背景技术】
[0002]水压传动具有无污染、安全、清洁卫生、结构简单、效率高等突出优越性,符合清洁生产及可持续发展的要求。但是,水压技术需要解决诸如密封与润滑、磨损与腐蚀等关键问题。磨损、腐蚀和断裂是机械零件材料失效的三种主要形式,其中磨损失效是材料失效的主要原因。在水压元件中,磨损与腐蚀并存,且相互促进。
[0003]为了解决水压元件的磨损与腐蚀问题,目前,大多用耐蚀合金、工程陶瓷、高分子及其复合材料、以及表面工程材料等作为水压元件材料,为水压元件的生产与使用奠定了基础。但是,随着水压传动技术的不断发展,其应用范围越来越广泛,对水压元件材料提出了新的要求。例如,在水压冲击器中,冲击机构的工作条件比较复杂,不仅要求材料具有较好的耐磨性、抗蚀性,而且要求有较高的强度和韧性。

【发明内容】

[0004]为了解决纯水压元件的强度和韧性问题,本发明提供了一种纯水压元件的QPQ盐浴复合处理工艺。加工工艺简单,经复合处理的水压元件的耐磨性和防腐蚀性能均大幅度提尚O
[0005]为了实现上述发明目的,本发明采用如下的技术方案:
一种纯水压元件的QPQ盐浴复合处理工艺,其特征在于:工艺步骤如下:
4)清洗
在水基清洗剂的作用下,以100?150 A/dm2的电流密度清洗0.05-0.1s;
2)预热
在350-400°C的温度下,在空气炉中对工件加热10-20min;
3)盐浴氮化
温度400-450°C,时间150?180min,目的是形成氮化层和扩散层;
所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30-50%、Na2C03 4-8%,K2CO3 6-10%,Li2CO35-10%、KCN0 12-25%、NaCN0 8_15%、NaCl 5-8%;
优选地,按质量计,配方组成为:尿素30-40%、Na2C03 4-6%,K2CO3 6-8%,LI2CO3 8-10%,KCNO 20-25%、NaCN0 8_10%、NaCl 6-8%ο
[0006]4)盐浴氧化
所述的氧化盐按质量计,配方组成为= Na2CO3 30-40%,Na2NO3 20-30%,NaSO4 20-30%、NaNO2 20-30%;
目的是形成氧化层;
优选地,所述的氧化盐按质量计,配方组成为= Na2CO3 30-35%,Na2NO3 25-30%,NaSO422-25%、NaN02 20-23%。
[0007]5)冷却
在空气下冷却,机械抛光;
冷却使渗层均匀致密并增加扩散层深度;同时分解粘附在工件上的C N。
[0008]6)再氧化
采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后浸油。
[0009]浸油的目的是密封渗层孔隙,以获得更佳的抗蚀能力。
[0010]在两个阶段中间增加一道抛光工序,去除表层较软的多孔性疏松层并使其表面光滑。
[0011]本发明所述的盐浴需要连续通入压缩空气,通气量为400?450L/h,使盐浴适度翻腾。
[0012]优选地,所述的盐要缓慢分批加入,一次性加入量过多会因反应剧烈而溢盐。
[0013]本发明所述的氧化是指在温度380-400°C下,于氧化盐的作用下氧化15-20min,彻底分解工件从渗氮炉带出来的氰根,消除公害;同时在工件表面形成黑色氧化膜,增加防腐能力,对提高耐磨性也有一定好处。
[0014]本发明所述的电解清洗的温度为70_90°C,极板间距为20mm。
[0015]本发明的有益效果在于:
1、本发明采用新型氮化盐,不仅能在400-450°C的较低温度状态下保持一定的氮势,在较高的温度下稳定,还可有效提高处理层的厚度,提高工件的抗腐蚀性能。
[0016]2、纯水压工件经本发明的QPQ盐浴复合处理后在金属表面形成一层铁氮化合物和致密的铁氧化膜,经抛光并再次氧化后,使化合层更致密,氧渗入到化合物厚度的一半以上,并且延伸到更深的孔隙处,吸氧的化合物层进一步钝化,从而使金属表面有更高的耐蚀性和耐磨性。
[0017]3、本发明的氧化盐具有很强的氧化性,能彻底地清除氮化盐浴中带出来的氰根,环保无毒,同时在工件表面形成一层至密的四氧化三铁氧化膜,进一步增加了工作的耐蚀性和耐磨性。
【具体实施方式】
[0018]下面结合【具体实施方式】对本发明的实质性内容作进一步详细的描述。
[0019]实施例1
一种纯水压元件的QPQ盐浴复合处理工艺,工艺步骤如下:
1)清洗
在水基清洗剂的作用下,以I ΟΟΑ/dm2的电流密度清洗0.1s;
2)预热
在350°C的温度下,在空气炉中对工件加热20min;
3)盐浴氮化
温度400°C,时间 150min;
所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30%、Na2C03 4%,K2CO3 6%,Li2CO3 5%,KCNOI2%^NaCNO 8%、NaCl 5%。
[0020] 4)盐浴氧化
所述的氧化盐按质量计,配方组成为= Na2CO3 30%,Na2NO3 20%,NaSO4 25%,NaNO2 25%;
5)冷却
在空气下冷却,机械抛光;
6)再氧化
采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后,浸油。
[0021 ] 实施例2
一种纯水压元件的QPQ盐浴复合处理工艺,工艺步骤如下:
1)清洗
在水基清洗剂的作用下,以150A/dm2的电流密度清洗0.05 s;
2)预热
在400°C的温度下,在空气炉中对工件加热1min;
3)盐浴氮化
温度450°C,时间 180min;
所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素50%、Na2C03 8%,K2CO3 10%,Li2CO3 10%,KCNO25%、NaCN0 15%、NaCl 8%。
[0022]4)盐浴氧化
所述的氧化盐按质量计,配方组成为= Na2CO3 30%,Na2NO3 30%,NaSO4 20%,NaNO2 20%;
5)冷却
在空气下冷却,机械抛光;
6)再氧化
采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后,浸油。
[0023]实施例3
一种纯水压元件的QPQ盐浴复合处理工艺,工艺步骤如下:
1)清洗
在水基清洗剂的作用下,以120A/dm2的电流密度清洗0.06s;
2)预热
在360°C的温度下,在空气炉中对工件加热12min;
3)盐浴氮化
温度420°C,时间 160min;
所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30%、Na2C03 4%,K2CO3 6%,Li2CO3 8%,KCNO20%^NaCNO 8%、NaCl 6%。
[0024]4)盐浴氧化
所述的氧化盐按质量计,配方组成为:Na2C0335%、Na2N03 20%,NaSO4 23%,NaNO2 22%。
[0025]5)冷却
在空气下冷却,机械抛光;
6)再
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