一种高光精洗复合清洗工艺的制作方法

文档序号:9781317阅读:608来源:国知局
一种高光精洗复合清洗工艺的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明属于化工清洗领域,具体设及一种高光精洗复合清洗工艺。
【背景技术】
[0002] 现有技术中,对金属材质(侣材、不诱钢等)的清洗流程多为:超声波清洗、超声波 清洗、热风循环干燥。所使用的清洗剂为溶剂型清洗剂。作用原理:相似相溶。但该工艺清洗 后阳极氧化产品中有30%左右的白雾白点不良,品质不稳定,清洗剂不够环保,对人体、大 气都有影响;清洗一层,产率低,因此导致成本高。因此寻找一种清洗效果好、回收率高、节 能环保、无污染的新的侣件清洗工艺,是本领域目前刻不容缓的事情。

【发明内容】

[0003] 为此,本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术中清洗后易出现白雾白点不 良、清洗剂不够环保,从而提出一种清洗效果好、环保节能、对人体无害、成本低、产能高的 高光精洗复合清洗工艺。
[0004] 为解决上述技术问题,本发明的公开了一种高光精洗复合清洗工艺,所述工艺依 次包括如下步骤:水基清洗、真空切水、真空碳氨超声波清洗、蒸汽浴洗真空干燥。
[0005] 所述的高光精洗复合清洗工艺,其中,所述的水基清洗、真空切水、真空碳氨超声 波清洗的次数均为两次。
[0006] 所述的高光精洗复合清洗工艺,其中,所述的水基清洗所用的清洗剂为环保水基 清洗剂,所述环保水基清洗剂中的清洗成分为表面活性剂。
[0007] 所述的高光精洗复合清洗工艺,其中,所述的真空切水所用的清洗剂为碳氨切水 剂。
[000引所述的高光精洗复合清洗工艺,其中,所述的真空碳氨超声波清洗、蒸汽浴洗真空 干燥所用的清洗剂都为碳氨清洗剂。
[0009] 所述的高光精洗复合清洗工艺,其中,所述的水基清洗中第一次清洗的清洗剂浓 度为5-10%。
[0010] 所述的高光精洗复合清洗工艺,其中,所述的水基清洗中第二次清洗的清洗剂浓 度为1-3%。
[0011] 所述的高光精洗复合清洗工艺,其中,所述的真空切水的的真空度为-80Kpa。
[0012] 所述的高光精洗复合清洗工艺,其中,所述的真空碳氨超声波清洗的超声波频率 40KHZ。
[0013] 所述的高光精洗复合清洗工艺,其中,所述的蒸汽浴洗真空干燥的干燥溫度90- 110°C。
[0014] 本发明的上述技术方案相比现有技术具有W下优点:使用复合清洗工艺后白点、 白雾不良率下降到3%左右,保证品质稳定;所有工序都使用真空清洗,选用环保清洗剂,对 人体和环境影响极小;具有极大的市场前景和经济价值。
【具体实施方式】
[0015] 实施例1本实施例公开了一种高光精洗复合清洗工艺,所述工艺依次包括如下步 骤:第一次水基清洗、第二次水基清洗、第一次真空切水、第二次真空切水、第一次真空碳氨 超声波清洗、第二次真空碳氨超声波清洗、蒸汽浴洗真空干燥。所述的水基清洗所用的清洗 剂为环保水基清洗剂,所述环保水基清洗剂中的清洗成分为表面活性剂。
[0016] 所述的第一次水基清洗中:液体设定溫度65-75°C;清洗剂浓度5-10% ;清洗时间 60-240S;真空度-40Kpa。
[0017] 所述的第二次水基清洗中:液体设定溫度55-65°C;清洗剂浓度1-3%;清洗时间 60-240S;真空度-40Kpa。
[0018] 所述的第一次真空切水中:液体设定溫度40-45°C;清洗时间60-240S;真空度- 80Kpa〇
[0019] 所述的第二次真空切水中:液体设定温度40-45°C;清洗时间60-240S;真空度- 80Kpa〇
[0020] 所述的第一次真空碳氨超声波清洗中:液体设定溫度40-45°C;清洗时间60-240S; 脱气次数1-4次;真空清洗时间3s ;入气清洗时间10s ;超声波频率40KHZ ;超声波大小0- 50%;真空度-75Kpa。
[0021] 所述的第二次真空碳氨超声波清洗中:液体设定溫度40-45°C;清洗时间60-240S; 脱气次数1-4次;真空清洗时间3s ;入气清洗时间10s ;超声波频率40KHZ ;超声波大小0- 50%;真空度-75Kpa。
[0022] 所述的蒸汽浴洗真空干燥中:蒸汽导热溫度设定100-130°C;蒸汽溫度90-110°C; 蒸汽真空度设定-90邸a;真空蒸洗计数1-5次;入蒸汽时间15-30S;入蒸汽延时时间15-30S; 蒸馈导热溫度设定110-130°C;干燥真空度-lOOKPa;干燥时间90-360S;干燥溫度90-110°C。
[0023] 对比例将本实施例与现有技术作对比,得出如下对比表格,见表1:
[0024] 表 1
[0025]
[00%] 本发明所述工艺中通过表面活性剂的乳化、渗透、清洗等作用进行预清洗,再经过 碳氨切水剂的置换作用,将产品表面的水基清洗剂和脏污剥落,然后再经过真空碳氨清洗 剂加强清洗,达到彻底清除高光面上脏污的目的。并且,设备配有真空循环蒸馈系统,根据 碳氨清洗剂和脏污的沸点差将碳氨清洗剂与脏污分离,碳氨清洗剂气体通过冷凝系统再回 收利用,不断补充到6#清洗槽,保证最后清洗槽非常洁净,运样既保证品质稳定,同时大大 降低清洗剂成本。
[0027]显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对 于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可W做出其它不同形式的变化或 变动。运里无需也无法对所有的实施方式予W穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或 变动仍处于本发明创造的保护范围之中。
【主权项】
1. 一种高光精洗复合清洗工艺,其特征在于,所述工艺依次包括如下步骤:水基清洗、 真空切水、真空碳氢超声波清洗、蒸汽浴洗真空干燥。2. 如权利要求1所述的高光精洗复合清洗工艺,其特征在于,所述的水基清洗、真空切 水、真空碳氢超声波清洗的次数均为两次。3. 如权利要求2所述的高光精洗复合清洗工艺,其特征在于,所述的水基清洗所用的清 洗剂为环保水基清洗剂,所述环保水基清洗剂中的清洗成分为表面活性剂。4. 如权利要求3所述的高光精洗复合清洗工艺,其特征在于,所述的真空切水所用的清 洗剂为碳氢切水剂。5. 如权利要求4所述的高光精洗复合清洗工艺,其特征在于,所述的真空碳氢超声波清 洗、蒸汽浴洗真空干燥所用的清洗剂都为碳氢清洗剂。6. 如权利要求5所述的高光精洗复合清洗工艺,其特征在于,所述的水基清洗中第一次 清洗的清洗剂浓度为5-10%。7. 如权利要求5所述的高光精洗复合清洗工艺,其特征在于,所述的水基清洗中第二次 清洗的清洗剂浓度为1-3%。8. 如权利要求5所述的高光精洗复合清洗工艺,其特征在于,所述的真空切水的真空度 为-80Kpa。9. 如权利要求5所述的高光精洗复合清洗工艺,其特征在于,所述的真空碳氢超声波清 洗的超声波频率40KHz。10. 如权利要求5所述的高光精洗复合清洗工艺,其特征在于,所述的蒸汽浴洗真空干 燥的干燥温度90-110°C。
【专利摘要】本发明属于化工清洗领域,具体涉及一种高光精洗复合清洗工艺。所述工艺依次包括如下步骤:水基清洗、真空切水、真空碳氢超声波清洗、蒸汽浴洗真空干燥。使用复合清洗工艺后白点、白雾不良率下降到3%左右,保证品质稳定;所有工序都使用真空清洗,选用环保清洗剂,对人体和环境影响极小;具有极大的市场前景和经济价值。
【IPC分类】B08B3/12, B08B3/08, C23G1/00
【公开号】CN105543860
【申请号】CN201511003683
【发明人】李辉, 李立良, 胡俊, 张欣欣, 闵元元, 卢加傲
【申请人】深圳市鑫承诺环保产业股份有限公司
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2015年12月29日
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