磁性材料真空镀膜装置的制造方法

文档序号:10467933阅读:477来源:国知局
磁性材料真空镀膜装置的制造方法
【专利摘要】本发明为磁性材料真空镀膜装置,解决表面热浸电镀铝造成大量污染的问题。水平对称布置的第一、二网状滚筒(5、6)位于中孔状隔板(2)中孔部,在上室水平布置两根棒式等离子发生装置(7、8),若干BN蒸发舟(9)设置在下室(3)并与第一、二网状滚筒(5、6)之间相隔一定的蒸发距离,第一、二网状滚筒(5、6)的下部分处于蒸发舟(9)的蒸镀范围内,送丝机构(10)与BN蒸发舟(9)、蒸发电极(11)连接为一个整体,旋片真空泵(12)、罗茨真空泵(13)、高真空油扩散泵(14)、超低温装置(15)、充氩气装置(16)分别通过管道与真空室连接,每个网状滚筒又设置多个独立的装载区,网状滚筒通过变频减速电机驱动实现转动并可实现转速可调。
【专利说明】
磁性材料真空镀膜装置
[0001 ] 技术领域:
本发明与NdFeB永磁体真空镀膜装置有关【背景技术】:
NdFeB永磁体自20世纪80年代问世以来,因其具备较高的综合磁性能,相对低廉的价格和充足的资源储备而迅速取代传统的Sm-Co永磁体,获得广泛应用。
[0002]NdFeB永磁体在通常环境中很容易被腐蚀,尤其是当温度升高和湿度较大时其被氧化速度加快,永磁体性能严重恶化和结构失效。因此抗高温高湿氧化性便成为NdFeB永磁体的主要发展方向。
[0003]现阶段改善NdFeB永磁体抗氧化性的方法主要为表面热浸电镀铝,但电镀会产生大量污水,污水中含大量强酸、强碱及重金属离子甚至氰化物等有害化学品,这些有毒有害物质通过废水和废渣排入环境,造成大量污染。
[0004]
【发明内容】
:
本发明的目的是提供一种操作简单方便,生产效率高,蒸镀厚度均匀,表面外观优良的磁性材料真空镀膜装置。
[0005]本发明是这样实现的:
真空室I由中孔状隔板2分隔为上室3和下室4,水平布置的至少一个网状滚筒位于中孔状隔板2中孔部,在上室水平布置至少一个等离子发生装置,若干BN蒸发舟9设置在下室3并与网状滚筒之间相隔蒸发距离,网状滚筒的下部分处于蒸发舟9的蒸镀范围内,下室有送丝机构10、蒸发电极11与BN蒸发舟9配合,真空室I外有真空栗、充氩气装置16分别通过管道与真空室连接,网状滚筒分隔成若干独立的磁性材料装载区。
[0006]在网状滚筒独立的装载区中添加陪镀体与NdFeB永磁体共存,所述陪镀体为金属或非金属材质粒状体。
[0007]所述真空栗包括旋片真空栗12、罗茨真空栗13、高真空油扩散栗14,旋片真空栗12与罗茨真空栗13接,罗茨真空栗13分别通过第一、二阀门与下室4、高真空油扩散栗14连接,高真空油扩散栗14通过第三阀门与上室3连接。
[0008]网状滚筒通过变频减速电机驱动实现转动并可实现转速可调。
[0009]上室有超低温装置15。
[0010]网状滚筒由径向隔板分隔成若干独立的磁性材料装载区。
[0011]所述网状滚筒为水平对称布置的第一、二网状滚筒5、6,在上室水平对称布置两根棒式等离子发生装置7、8。
[0012]本发明有如下优点:
操作简单方便,生产效率高,蒸镀铝膜层的厚度均匀性和表面外观优良;另外,设备上设置的等离子清洗装置,可实现对磁性材料在镀膜前的表面前处理以及镀膜中的等离子效应,可大幅提高铝膜在NdFeB永磁体表面的附着力;其次,在网状滚筒中添加金属或非金属材质的陪镀体,可减少NdFeB永磁体之间以及与网状滚筒之间的相互摩擦,最终把铝膜层表面的划伤等缺陷降低到最低程度。
【附图说明】
[0013]图1为本发明的构造图。
[0014]【具体实施方式】:
真空室I由中孔状隔板2分隔为上室3和下室4,水平对称布置的第一、二网状滚筒5、6位于中孔状隔板2中孔部,在上室水平布置两根棒式等离子发生装置7、8,若干BN蒸发舟9设置在下室3并与第一、二网状滚筒5、6之间相隔一定的蒸发距离,该蒸发局距离可进行调整,第一、二网状滚筒5、6的下部分处于蒸发舟9的蒸镀范围内,送丝机构10与BN蒸发舟9、蒸发电极11连接为一个整体,旋片真空栗12、罗茨真空栗13、高真空油扩散栗14、超低温装置15、充氩气装置16分别通过管道与真空室连接,每个网状滚筒又设置多个独立的装载区,网状滚筒通过变频减速电机驱动实现转动并可实现转速可调。
[0015]旋片真空栗12与罗茨真空栗13连接,罗茨真空栗13分别通过第一、二阀门与下室
4、高真空油扩散栗14连接,高真空油扩散栗14通过第三阀门与上室3连接。
[0016]本发明的真空排气系统采用旋片真空栗12、罗茨真空栗13、高真空油扩散栗14,并增设超低温装置15进行辅助排气。
[0017]蒸发源系统采用BN蒸发舟9,其数量及间距设置合理,铝丝输送采用步进电机对输送速度进行高精度控制,可实现连续蒸镀铝膜并对铝丝输送速度进行实时调整,解决NdFeB永磁体表面对铝膜层厚度均匀性的要求。
[0018]NdFeB永磁体装载系统采用双网状滚筒结构,每个滚筒又设置多个独立的装载区,在网状滚筒独立的装载区中添加陪镀体与NdFeB永磁体共存,所述陪镀体为金属或非金属材质粒状体。
[0019]滚筒采用变频减速电机进行驱动旋转,可实现很好的铝膜层厚度均匀性和表面外观优良。
[0020]镀膜前的表面前处理以及镀膜中的等离子发生装置7、8可采用DC电源或MF电源或RF电源,在蒸发前或蒸发过程中充入一定流量的氩气,开启电源形成等离子体,从而提高铝膜层在NdFeB永磁体表面的附着力。
[0021 ] 工作流程如下:
1.开启旋片真空栗及罗茨真空栗进行粗真空排气,当真空度到达5Pa时,使用扩散栗进行高真空排气,并辅以超低温装置提高系统排气能力,缩短真空排气时间。
[0022]2.粗真空排气结束后冲入氩气,开启电机驱动网状滚筒旋转,并开启等离子发生装置电源,对NdFeB永磁体表面进行前处理。
[0023]3.对NdFeB永磁体表面进行前处理一定时间后,且当真空室的压力到达1.0E_2Pa以下后,开启蒸发电源对BN蒸发舟进行预热,当BN蒸发舟温度合适后开启送丝机构进行连续送丝,待膜厚合适后停止送丝并停止对BN蒸发舟加热,生产结束。
【主权项】
1.磁性材料真空镀膜装置,其特征在于真空室(I)由中孔状隔板(2)分隔为上室(3)和下室(4),水平布置的至少一个网状滚筒位于中孔状隔板(2)中孔部,在上室水平布置至少一个等离子发生装置,若干BN蒸发舟(9)设置在下室(3)并与网状滚筒之间相隔蒸发距离,网状滚筒的下部分处于蒸发舟(9)的蒸镀范围内,下室有送丝机构(10)、蒸发电极(11)与BN蒸发舟(9)配合,真空室(I)外有真空栗、充氩气装置(16)分别通过管道与真空室连接,网状滚筒分隔成若干独立的磁性材料装载区。2.根据权利要求1所述的磁性材料真空镀膜装置,其特征在于在网状滚筒独立的装载区中添加陪镀体与NdFeB永磁体共存,所述陪镀体为金属或非金属材质粒状体。3.根据权利要求1所述的磁性材料真空镀膜装置,其特征在于所述真空栗包括旋片真空栗(12)、罗茨真空栗(13)、高真空油扩散栗(14),旋片真空栗(12)与罗茨真空栗(13)连接,罗茨真空栗(13)分别通过第一、二阀门与下室(4)、高真空油扩散栗(14)连接,高真空油扩散栗(14)通过第三阀门与上室(3)连接。4.根据权利要求1所述的磁性材料真空镀膜装置,其特征在于网状滚筒通过变频减速电机驱动实现转动并可实现转速可调。5.根据权利要求1所述的磁性材料真空镀膜装置,其特征在于上室有超低温装置(15)。6.根据权利要求2所述的磁性材料真空镀膜装置,其特征在于网状滚筒由径向隔板分隔成若干独立的磁性材料装载区。7.根据权利要求1所述的磁性材料真空镀膜装置,其特征在于所述网状滚筒为水平对称布置的第一、二网状滚筒(5、6),在上室水平对称布置两根棒式等离子发生装置(7、8)。
【文档编号】C23C14/24GK105821381SQ201610245766
【公开日】2016年8月3日
【申请日】2016年4月20日
【发明人】张果, 蓝峰, 王伟, 何林, 周景波, 李多磊
【申请人】爱发科东方真空(成都)有限公司
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