蒸镀装置的制造方法

文档序号:10506375阅读:360来源:国知局
蒸镀装置的制造方法
【专利摘要】本发明提供一种蒸镀装置,包括:真空腔(11)、设于所述真空腔(11)内的蒸发源(12)、以及设于所述蒸发源(12)上方的坩埚切换装置(13),其中,所述坩埚切换装置(13)包括:坩埚载盘(10)、设于所述坩埚载盘(10)上的多个坩埚(30)、以及设于所述坩埚载盘(10)底部与所述坩埚载盘(10)垂直相连的运动轴(20),通过控制所述运动轴带动所述坩埚载盘旋转和升降运动实现在真空环境下完成蒸镀源上的坩埚切换,实现一个蒸镀源对应多个坩埚,从而增加坩埚载入的数量,减少蒸镀源的数量,延长开腔加料的周期,提高生产效率,降低设备成本。
【专利说明】
蒸镀装置
技术领域
[0001]本发明涉及OLED显示制造技术领域,尤其涉及一种蒸镀装置。
【背景技术】
[0002]近年来,液晶显示(Liquid Crystal Display,LCD)器和有机发光二极管(OrganicLight Emitting D1de,0LED)显示器等平板显示器已经逐步取代CRT显示器,成为显示器市场中的主流产品。其中,OLED显示器具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽,可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点,被业界公认为是最有发展潜力的显示器。
[0003]OLED显示器件通常由阳极、阴极、以及夹在阳极和阴极之间的有机电致发光材料层构成,有机电致发光材料层又包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层及电子注入层。OLED显示器件的发光机理是从阴、阳两极分别注入电子和空穴,被注入的电子和空穴经传输在发光层内复合,从而激发发光层分子产生单态激子,单态激子辐射衰减而发光。
[0004]目前,制备OLED显示器件主流方式是真空加热镀膜,即在真空腔体内使用坩祸加热OLED材料,使其在一定温度下升华或者熔融汽化成蒸汽,透过金属掩膜板上的开孔沉积在基板上。
[0005]请参阅图1,图1为现有的一种OLED蒸镀装置的结构示意图,该OLED蒸镀装置为点源的OLED蒸镀设备,包括:真空腔体1、设于所述真空腔体I内的多个蒸镀源2、以及与所述蒸镀源2—一对应的多个坩祸(未图示),受限于真空腔体I的大小,该OLED蒸镀装置中所能够布置的蒸发源2的数量是有限的(一般不超过10个),也即每次载入坩祸的数量也是有限的,当坩祸中的材料蒸发完后,无法在真空的环境下实现新坩祸的载入与替换,只能切换到下一个蒸发源使用或者重新开腔加料。举例来说,假设该OLED蒸镀装置包含10个蒸镀源和10个坩祸,每个坩祸可填充100克的有机材料,按照正常镀率蒸镀,每小时消耗3克有机材料计算,10个坩祸中的全部有机材料都使用完的时间约为333小时,约合14天,即最多每隔两周就必须开腔加料,如果镀率再提高的话,这个周期也将变得更短,开腔加料作业必须打开真空腔体,在大气状态下进行材料的添加或替换,然后重新抽取真空才可继续工作,极大的影响生产效率和量产的连续性。同时该OLED蒸镀装置中每增加一个坩祸就需要增加一个蒸发源,导致其设备成本高居不下。

【发明内容】

[0006]本发明的目的在于提供一种蒸镀装置,能够增加坩祸载入的数量,减少蒸镀源的数量,延长开腔加料的周期,提高生产效率,降低设备成本。
[0007]为实现上述目的,本发明提供一种蒸镀装置,包括:真空腔、设于所述真空腔内的蒸发源、以及设于所述蒸发源上方的坩祸切换装置;
[0008]所述坩祸切换装置包括:坩祸载盘、设于所述坩祸载盘上的多个坩祸、以及设于所述坩祸载盘底部与所述坩祸载盘垂直相连的运动轴;
[0009]所述坩祸载盘上设有多个通孔,每一个通孔内对应放置有一个坩祸;
[0010]所述运动轴带动所述坩祸载盘绕所述运动轴的轴线旋转,使得坩祸载盘上的坩祸与蒸发源对位,所述运动轴带动所述坩祸载盘沿所述运动轴的轴向进行上升或下降,使得坩祸与蒸发源分离或将坩祸放入蒸发源内。
[0011]所述坩祸载盘的形状为圆形,所述多个通孔均匀分布于一所述坩祸载盘的同心圆的圆周上,所述运动轴设于所述坩祸载盘的底部的中心点。
[0012]所述坩祸的顶部直径大于所述坩祸的底部直径,所述通孔的直径大于所述坩祸的底部直径小于所述坩祸的顶部直径。
[0013]所述蒸发源的数量为2到10个,所述坩祸切换装置的数量小于或等于所述蒸发源的数量,每一坩祸切换装置的坩祸载盘上的坩祸的数量为2到10个。
[0014]所述蒸发源均匀分布于一个圆的圆周上。
[0015]所述坩祸切换装置的数量小于所述蒸发源的数量,每一坩祸切换装置对应多个蒸发源。
[0016]所述坩祸切换装置的数量等于所述蒸发源的数量,每一坩祸切换装置对应一个蒸发源。
[0017]所述蒸发源和坩祸切换装置的数量均为3个。
[0018]每一坩祸切换装置的坩祸载盘上的坩祸的数量为10个。
[0019]本发明的有益效果:本发明提供的蒸镀装置,包括:真空腔、设于所述真空腔内的蒸发源、以及设于所述蒸发源上方的坩祸切换装置,其中,所述坩祸切换装置包括:坩祸载盘、设于所述坩祸载盘上的多个坩祸、以及设于所述坩祸载盘底部与所述坩祸载盘垂直相连的运动轴,通过控制所述运动轴带动所述坩祸载盘旋转和升降运动实现在真空环境下完成蒸镀源上的坩祸切换,实现一个蒸镀源对应多个坩祸,从而增加坩祸载入的数量,减少蒸镀源的数量,延长开腔加料的周期,提高生产效率,降低设备成本。
【附图说明】
[0020]为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
[0021]附图中,
[0022]图1为现有的蒸镀装置的结构示意图;
[0023]图2为本发明的蒸镀装置的结构示意图;
[0024]图3为本发明的蒸镀装置中坩祸切换装置与蒸发源的立体结构图;
[0025]图4为本发明的蒸镀装置中坩祸的结构示意图。
【具体实施方式】
[0026]为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
[0027]请参阅图2,本发明提供一种蒸镀装置,包括:真空腔11、设于所述真空腔11内的蒸发源12、以及设于所述蒸发源12上方的坩祸切换装置13。
[0028]具体地,请参阅图3,所述坩祸切换装置13包括:坩祸载盘10、设于所述坩祸载盘10上的多个坩祸30、以及设于所述坩祸载盘10底部与所述坩祸载盘20垂直相连的运动轴20。
[0029]进一步地,所述坩祸载盘10上设有多个通孔50,每一个通孔50内对应放置有一个坩祸30,结合图4,所述坩祸30的顶部直径D大于所述坩祸30的底部直径d,所述通孔50的直径大于所述坩祸30的底部直径d小于所述坩祸30的顶部直径D,从而使得坩祸30平稳放置于通孔50上,且不会掉落,并且在下降时能够与蒸发源12接触。
[0030]具体地,所述蒸镀装置的坩祸切换过程为:首先,所述运动轴20带动所述坩祸载盘10上升使得已经蒸发完的坩祸30与所述蒸镀源12分离,然后,所述运动轴20带动所述坩祸载盘10绕所述运动轴20的轴线旋转,使得坩祸载盘10上的另一个坩祸30与蒸发源12对位,所述运动轴20带动所述坩祸载盘10沿所述运动轴20的轴向下降,将另一个坩祸30放入蒸发源12中,完成坩祸的切换。整个切换过程不需要打开真空腔11,在真空环境下即可完成,简单快捷。
[0031 ]进一步地,所述运动轴20包括:旋转轴21、以及套设于所述旋转轴21内的升降轴22,所述升降轴22与所述坩祸载盘10连接,带动所述坩祸载盘10上下升降,所述旋转轴21带动所述升降轴22和坩祸载盘10旋转。
[0032]具体地,所述坩祸载盘10的形状为圆形,所述多个通孔50均匀分布于一所述坩祸载盘10的同心圆的圆周上,所述运动轴20设于所述坩祸载盘10的底部的中心点。
[0033]具体地,所述蒸发源12的数量根据所述真空腔11的大小进行选择,至少为2个,最多不能超过所述真空腔11所能容纳的上限(如10个),而所述坩祸切换装置13的数量小于或等于所述蒸发源12的数量。其中,当所述坩祸切换装置13的数量小于所述蒸发源12的数量时,每一坩祸切换装置13对应多个蒸发源12,当所述坩祸切换装置13的数量等于所述蒸发源12的数量时,每一坩祸切换装置13对应一个蒸发源12。
[0034]优选地,每一坩祸切换装置13的坩祸载盘10上的坩祸30的数量为2到10个,所述蒸发源12均匀分布于一个圆的圆周上。
[0035]需要说明的是,若所述蒸发源12和坩祸切换装置13的数量均为3个,每一坩祸切换装置13的坩祸载盘10上的坩祸30的数量为10个,则一个真空腔11可载入30个坩祸30,是现有技术的3倍,极大的增加了坩祸30的载入量,而30个坩祸30只需要3个蒸发源2,蒸发源2数量是现有技术的1/10,该30个坩祸可通过坩祸切换装置在真空环境下完成切换,也就是说一次开腔加料作业可以填充30个坩祸的材料,在镀率相同的情况下,大大延长了开腔加料的周期,从而提高生产效率,降低设备成本。
[0036]综上所述,本发明的蒸镀装置,包括:真空腔、设于所述真空腔内的蒸发源、以及设于所述蒸发源上方的坩祸切换装置,其中,所述坩祸切换装置包括:坩祸载盘、设于所述坩祸载盘上的多个坩祸、以及设于所述坩祸载盘底部与所述坩祸载盘垂直相连的运动轴,通过控制所述运动轴带动所述坩祸载盘旋转和升降运动实现在真空环境下完成蒸镀源上的坩祸切换,实现一个蒸镀源对应多个坩祸,从而增加坩祸载入的数量,减少蒸镀源的数量,延长开腔加料的周期,提高生产效率,降低设备成本。
[0037]以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。
【主权项】
1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:真空腔(U)、设于所述真空腔(11)内的蒸发源(12)、以及设于所述蒸发源(12)上方的坩祸切换装置(13); 所述坩祸切换装置(13)包括:坩祸载盘(10)、设于所述坩祸载盘(10)上的多个坩祸(30)、以及设于所述坩祸载盘(10)底部与所述坩祸载盘(20)垂直相连的运动轴(20); 所述坩祸载盘(10)上设有多个通孔(50),每一个通孔(50)内对应放置有一个坩祸(30); 所述运动轴(20)带动所述坩祸载盘(10)绕所述运动轴(20)的轴线旋转,使得坩祸载盘(10)上的坩祸(30)与蒸发源(12)对位,所述运动轴(20)带动所述坩祸载盘(10)沿所述运动轴(20)的轴向进行上升或下降,使得坩祸(30)与蒸发源(12)分离或将坩祸(30)放入蒸发源(12)内。2.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述坩祸载盘(10)的形状为圆形,所述多个通孔(50)均匀分布于一所述坩祸载盘(10)的同心圆的圆周上,所述运动轴(20)设于所述坩祸载盘(1)的底部的中心点。3.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述坩祸(30)的顶部直径大于所述坩祸(30)的底部直径,所述通孔(50)的直径大于所述坩祸(30)的底部直径且小于所述坩祸(30)的顶部直径。4.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸发源(12)的数量为2到10个,所述坩祸切换装置(13)的数量小于或等于所述蒸发源(12)的数量,每一坩祸切换装置(13)的坩祸载盘(10)上的坩祸(30)的数量为2到10个。5.如权利要求4所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸发源(12)均匀分布于一个圆的圆周上。6.如权利要求4所述的蒸镀装置,其特征在于,所述坩祸切换装置(13)的数量小于所述蒸发源(12)的数量,每一坩祸切换装置(13)对应多个蒸发源(12)。7.如权利要求4所述的蒸镀装置,其特征在于,所述坩祸切换装置(13)的数量等于所述蒸发源(12)的数量,每一坩祸切换装置(13)对应一个蒸发源(12)。8.如权利要求7所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸发源(12)和坩祸切换装置(13)的数量均为3个。9.如权利要求8所述的蒸镀装置,其特征在于,每一坩祸切换装置(13)的坩祸载盘(10)上的坩祸(30)的数量为10个。
【文档编号】C23C14/24GK105861992SQ201610251510
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年4月20日
【发明人】李奂钦
【申请人】深圳市华星光电技术有限公司
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