TiAlCrN&MoS<sub>2</sub>/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具及其制备工艺的制作方法
【专利摘要】本发明属于机械制造金属切削刀具领域，特别是涉及一种TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具及其制备工艺。该刀具基体材料为高速钢、硬质合金、陶瓷、金刚石或立方氮化硼，刀具表面为MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层，且由基体到涂层表面依次为Ti过渡层、Ti/Al/Cr过渡层、TiAlCrN硬质涂层与MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层交替的叠层结构涂层。其综合了多元硬质涂层、润滑涂层、叠层结构及三种涂层制备方法的优点，既具有较高的硬度，又具有润滑作用和较低的摩擦系数，使涂层刀具的性能有了显著地提高。
【专利说明】TiAICrN &M0S2/T i /AI /Cr多元叠层润滑涂层刀具及其制备工艺
技术领域
[0001 ]本发明属于机械制造金属切削刀具领域，特别是涉及一种TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具及其制备工艺。
【背景技术】
[0002]根据涂层材料的性质，涂层刀具可分为两大类，即:“高硬度”涂层刀具和“润滑”涂层刀具。“高硬度”涂层刀具其主要优点是硬度高、耐磨性能好，典型的“高硬度”涂层材料有TiN、TiCN、TiAlN和类金刚石等。“润滑”涂层刀具追求的目标是低摩擦系数，典型的“润滑”涂层材料为具有低摩擦系数的固体润滑材料(如:MoS2、WS2、TaS2等硫化物)。当前刀具涂层的发展趋势是:涂层成分趋于多元化和复合化。复合涂层可综合单涂层的优点，复合多涂层及其相关技术的出现，既可提高涂层与基体的结合强度，又兼顾多种单涂层的综合性能，使涂层刀具的性能显著提高。
[0003]中国专利(专利号ZL2006 I 0068975.3)报道了“自润滑复合软涂层刀具及其制备方法”，它是采用中频磁控+多弧法镀膜方法制备的MoS2/Cr复合涂层刀具，刀具表面为MoS2层，MoS2层与刀具基体之间具有Ti过渡层。该刀具在无切削液冷却、润滑的切削过程中，能够在刀具表面能形成具有润滑作用的润滑膜，从而实现刀具自身的润滑功能，但是这种润滑涂层硬度较低而导致刀具涂层尤其是后刀面涂层的使用寿命不长。文献(ActaMaterials.2011,59(1):68-74)报道了TiN硬涂层刀具切削加工时的作用机理及使用性能，但是这种硬涂层由于相对较高的摩擦系数，限制了其广泛使用。中国专利梯度叠层涂层刀具及其制备方法(专利号201110214393.2)制备的ZrTiN复合涂层刀具有较高的硬度和强度、优异的抗磨损和抗腐蚀性能，但是在切削有色金属材料时其摩擦系数较高，刀具使用寿命有待进一步提高。中国专利TiN+MoS2/Zr组合涂层刀具(专利号ZL 201110081977.7)采用中频磁控溅射与电弧镀复合镀膜方法制备的TiN+MoS2/Zr组合涂层刀具，但该组合涂层在干切削超硬材料时刀具使用寿命仍无法满足实际使用需要。
[0004]层状复合材料是近几年发展起来的材料增强增韧新技术，这种结构是通过模仿贝壳而来，因此又叫仿生叠层复合材料。自然界中贝壳的珍珠层是一种天然的层状结构材料，其断裂韧性却比普通单一均质结构高出3000倍以上。因此，通过模仿生物材料结构形式的层间设计，制备出的叠层复合涂层可以显著提高涂层的韧性、结合强度及减摩耐磨性等综合性能。
【发明内容】
[0005]发明的目的在于改善现有涂层刀具的综合性能，结合多元硬质涂层和润滑涂层的优点，提供一种TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具及其制备工艺。
[0006]本发明是通过以下方式实现的:
[0007]TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具，刀具基体材料为高速钢、硬质合金、陶瓷、金刚石或立方氮化硼，刀具表面为MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层，且由基体到涂层表面依次为Ti过渡层、Ti/Al/Cr过渡层、TiAlCrN硬质涂层与MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层交替的叠层结构涂层。
[0008]所述TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具的制备工艺，其沉积方式为采用非平衡磁控溅射+电弧镀+中频磁控溅射的复合镀膜方法，沉积时使用两个非平衡磁控溅射靶:1个Ti靶，I个Al靶，I个电弧Cr靶，2个MoS2中频溅射靶。
[0009]首先采用非平衡磁控溅射沉积Ti过渡层，其次采用非平衡磁控溅射+电弧离子镀复合沉积Ti/Al/Cr过渡层，然后交替沉积TiAlCrN硬质涂层与MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层交替的叠层结构涂层，最后表面为MoS2/Ti/Al/Cr复合润滑涂层。
[0010]具体包括以下步骤:
[0011 ] (I)前处理:将刀具基体表面抛光，去除表面杂质，然后依次放入酒精和丙酮中，超声清洗，经干燥后迅速放入镀膜机，抽真空至7.0 X 10—3Pa，加热至300°C，保温35?40min;
[0012](2)离子清洗:通Ar气，其压力为1.5Pa，开启偏压电源，电压900V，占空比0.3，辉光放电清洗20min;降低偏压至700V，开启离子源离子清洗lOmin，开启Ti靶的非平衡磁控溅射靶电源，靶电流30A，偏压400V，离子轰击Ti靶I?2min;
[0013](3)沉积Ti过渡层:Ar气压0.5?0.6Pa，偏压降至250V，Ti靶电流35A，沉积温度2500C，非平衡磁控溅射Ti过渡层8?1min;
[0014](4)沉积Ti/Al/Cr过渡层:Ar气压0.5?0.6Pa，偏压250V，Ti靶电流40A，非平衡磁控溅射Al靶电流30A，电弧Cr靶电流为40A，复合沉积Ti/Al/Cr过渡层5?6min;
[0015](5)沉积TiAlCrN硬质涂层:开启N2，N2气压为1.5Pa，Ar气压0.5Pa，偏压200V，Ti靶的靶电流50A，A1靶电流40A，Cr靶电流50A;沉积温度260?280°C，复合沉积TiAlCrN硬质涂层4?5min;
[0016](6)沉积MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层:关闭N2，开启MoS2靶中频磁控溅射电源，电流2.3六，11靶电流4(^，41靶电流354，0靶电流4(^，偏压调至230￥，沉积温度240?250°(:，复合沉积MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层4?5min;
[0017](7)沉积TiAlCrN硬质涂层:重复(5);
[0018](8)沉积MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层:重复(6);
[0019](9)重复(5)、(6)、(5)...:交替沉积TiAlCrN、MoS2/Ti/Al/Cr...TiAlCrN涂层共 120min;
[0020](10)后处理:关闭各电源、离子源及气体源，涂层结束。
[0021]与现有技术相比，本发明具有如下优异技术效果:
[0022]本发明采用非平衡磁控溅射+电弧镀+中频磁控溅射三种沉积方式复合的镀膜方法制备了 TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具。该刀具综合了多元硬质涂层、润滑涂层、叠层结构及三种涂层制备方法的优点，既具有较高的硬度，又具有润滑作用和较低的摩擦系数，使涂层刀具的性能有了显著地提高。基体上的Ti过渡层和Ti/Al/Cr过渡层主要作用是减缓因涂层成分突变造成的层间应力，提高多元叠层润滑涂层与刀具基体间的结合性能。同时，叠层结构可使涂层刀具在涂层使用寿命周期中始终保持良好的减摩润滑性，延长润滑涂层的使用周期，并且保持多元硬质涂层优异的抗磨损及高硬度的特点，显著提高了现有多元及复合润滑涂层刀具的切削性能。另外，叠层结构通过不同材料结构和成分组成的层间界面可以减缓涂层的过早剥落和裂纹的扩展。用这种多元叠层润滑涂层刀具进行干切削时，由于表面MoS2/Ti/Al/Cr涂层本身具有润滑作用，可以减小刀具与切肩之间的摩擦;且通过采用三种制备方法复合制备的TiAlCrN高硬度涂层可提高MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层的整体强度，减缓由于MoS2/Ti/Al/Cr涂层本身硬度较低而造成的刀具涂层过早磨损。用这种多元叠层润滑涂层刀具进行干切削时，与TiN+MoS2/Zr涂层刀具(专利号ZL201110081977.7)相比，耐磨性提高了 30-40%，涂层刀具使用寿命提高了 30%以上；与ZrTiN复合涂层刀具(专利号201110214393.2)相比，表面摩擦系数降低35-40%，减摩耐磨性提高30-35%，切削力和切削温度降低25-30%，涂层刀具使用寿命提高30-40%，且提高了涂层刀具的使用范围，可更广泛应用于包括有色金属在内的各种材料的干切削加工及绿色切削加工。
【附图说明】
[0023]图1为本发明的软硬复合涂层刀具的涂层结构示意图。
[0024]图中:I为刀具基体、2为Ti过渡层、3为Ti/Al/Cr过渡层、4为TiAlCrN硬质涂层、5为MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层、6为TiAlCrN与MoS2/Ti/Al/Cr交替的叠层结构涂层。
【具体实施方式】
[0025]下面给出本发明的最佳实施例:
[0026]实施例一
[0027]一种TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具，该刀具为普通的铣刀片，其基体材料为:硬质合金YT15。沉积方式为采用非平衡磁控溅射+电弧镀+中频磁控溅射的复合镀膜方法，沉积时使用两个非平衡磁控溅射靶:I个Ti靶，I个Al靶，I个电弧Cr靶，2个MoS2中频溅射靶。首先采用非平衡磁控溅射沉积Ti过渡层，其次采用非平衡磁控溅射+电弧离子镀复合沉积Ti/Al/Cr过渡层，然后交替沉积TiAlCrN与MoS2/Ti/Al/Cr的多元叠层涂层，最后表面为MoS2/Ti/Al/Cr复合润滑涂层。其制备工艺为:
[0028](I)前处理:将刀具基体表面抛光，去除表面油污、锈迹等杂质，然后依次放入酒精和丙酮中，超声清洗各35min，去除刀具表面油污和其它附着物，电吹风干燥充分后迅速放入镀膜机，抽真空至7.0 X 10—3Pa，加热至300°C，保温35?40min ；
[0029 ] (2)离子清洗:通Ar气，其压力为1.5Pa，开启偏压电源，电压900V，占空比0.3，辉光放电清洗20min;降低偏压至700V，开启离子源离子清洗lOmin，开启Ti靶的非平衡磁控溅射靶电源，靶电流30A，偏压400V，离子轰击Ti靶I?2min;
[0030](3)沉积Ti过渡层:Ar气压0.5?0.6Pa，偏压降至250V，Ti靶电流35A，沉积温度2500C，非平衡磁控溅射Ti过渡层8?1min;
[0031](4)沉积Ti/Al/Cr过渡层:Ar气压0.5?0.6Pa，偏压250V，Ti靶电流40A，非平衡磁控溅射Al靶电流30A，电弧Cr靶电流为40A，复合沉积Ti/Al/Cr过渡层5?6min;
[0032](5)沉积TiAlCrN层:开启N2，N2气压为1.5Pa，Ar气压0.5Pa，偏压200V，Ti靶的靶电流50A，A1靶电流40A，Cr靶电流50A;沉积温度260?280°C，复合沉积TiAlCrN 4?5min;
[0033](6)沉积Mo S2/T i /Al /Cr层:关闭N2，开启Mo S2靶中频磁控溅射电源，电流2.3A，T i靶电流40A，A1靶电流35A，Cr靶电流40A，偏压调至230V，沉积温度240?250°C，复合沉积MoS2/Ti/Al/Cr 4?5min;
[0034](7)沉积 TiAlCrN 层:重复(5);
[0035](8)沉积MoS2/Ti/Al/Cr层:重复(6);
[0036](9)重复(5)、(6)、(5)...:交替沉积TiAlCrN、MoS2/Ti/Al/Cr...TiAlCrN涂层共 120min;
[0037](10)后处理:关闭各电源、离子源及气体源，涂层结束。
[0038]实施例二
[0039]一种TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具，该刀具为普通麻花钻，其刀具基体材料为:高速钢W18Cr4V。沉积方式为采用非平衡磁控溅射+电弧镀+中频磁控溅射的复合镀膜方法，沉积时使用两个非平衡磁控溅射靶:I个Ti靶，I个Al靶，I个电弧Cr靶，2个MoS2中频溅射靶。首先采用非平衡磁控溅射沉积Ti过渡层，其次采用非平衡磁控溅射+电弧离子镀复合沉积Ti/Al/Cr过渡层，然后交替沉积TiAlCrN与MoS2/Ti/Al/Cr的多元叠层涂层，最后表面为MoS2/Ti/Al/Cr复合润滑涂层。其制备工艺为:
[0040](I)前处理:将刀具基体表面抛光，去除表面油污、锈迹等杂质，然后依次放入酒精和丙酮中，超声清洗各35min，去除刀具表面油污和其它附着物，电吹风干燥充分后迅速放入镀膜机，抽真空至7.0 X 10—3Pa，加热至300°C，保温35?40min ；
[0041 ] (2)离子清洗:通Ar气，其压力为1.5Pa，开启偏压电源，电压900V，占空比0.3，辉光放电清洗20min;降低偏压至700V，开启离子源离子清洗lOmin，开启Ti靶的非平衡磁控溅射靶电源，靶电流30A，偏压400V，离子轰击Ti靶I?2min;
[0042](3)沉积Ti过渡层:Ar气压0.5?0.6Pa，偏压降至250V，Ti靶电流35A，沉积温度2500C，非平衡磁控溅射Ti过渡层8?1min;
[0043](4)沉积Ti/Al/Cr过渡层:Ar气压0.5?0.6Pa，偏压250V，Ti靶电流40A，非平衡磁控溅射Al靶电流30A，电弧Cr靶电流为40A，复合沉积Ti/Al/Cr过渡层5?6min;
[0044](5)沉积TiAlCrN层:开启N2，N2气压为1.5Pa，Ar气压0.5Pa，偏压200V，Ti靶的靶电流50A，A1靶电流40A，Cr靶电流50A;沉积温度260?280°C，复合沉积TiAlCrN 4?5min;
[0045](6)沉积此32/1^/^1/0层:关闭N2，开启MoS2靶中频磁控溅射电源，电流2.3A，Ti靶电流40A，A1靶电流35A，Cr靶电流40A，偏压调至230V，沉积温度240?250°C，复合沉积MoS2/Ti/Al/Cr 4?5min;
[0046](7)沉积 TiAlCrN 层:重复(5);
[0047](8)沉积MoS2/Ti/Al/Cr层:重复(6);
[0048](9)重复(5)、(6)、(5)...:交替沉积TiAlCrN、MoS2/Ti/Al/Cr...TiAlCrN涂层共 120min;
[0049](10)后处理:关闭各电源、离子源及气体源，涂层结束。
【主权项】
1.TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具，刀具基体材料为高速钢、硬质合金、陶瓷、金刚石或立方氮化硼，其特征在于，刀具表面为MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层，且由基体到涂层表面依次为Ti过渡层、Ti/Al/Cr过渡层、TiAlCrN硬质涂层与MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层交替的叠层结构涂层。2.如权利要求1所述TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具的制备工艺，其特征在于，沉积方式为采用非平衡磁控溅射+电弧镀+中频磁控溅射的复合镀膜方法，沉积时使用两个非平衡磁控溅射靶:1个Ti靶，I个Al靶，I个电弧Cr靶，2个MoS2中频溅射靶。3.根据权利要求2所述TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具的制备工艺，其特征在于，首先采用非平衡磁控溅射沉积Ti过渡层，其次采用非平衡磁控溅射+电弧离子镀复合沉积Ti/Al/Cr过渡层，然后交替沉积TiAlCrN硬质涂层与MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层交替的叠层结构涂层，最后表面为MoS2/Ti/Al/Cr复合润滑涂层。4.根据权利要求2或3所述TiAlCrN&MoS2/Ti/Al/Cr多元叠层润滑涂层刀具的制备工艺，其特征在于，具体包括以下步骤: (1)前处理:将刀具基体表面抛光，去除表面杂质，然后依次放入酒精和丙酮中，超声清洗，经干燥后迅速放入镀膜机，抽真空至7.0 X 10—3Pa，加热至300°C，保温35?40min; (2)离子清洗:通Ar气，其压力为1.5Pa，开启偏压电源，电压900V，占空比0.3，辉光放电清洗20min;降低偏压至700V，开启离子源离子清洗lOmin，开启Ti靶的非平衡磁控溅射靶电源，靶电流30A，偏压400V，离子轰击Ti靶I?2min ； (3)沉积Ti过渡层:Ar气压0.5?0.6Pa，偏压降至250V，Ti靶电流35A，沉积温度250°C，非平衡磁控派射Ti过渡层8?1min; (4)沉积Ti/Al/Cr过渡层:Ar气压0.5?0.6Pa，偏压250V，Ti靶电流40A，非平衡磁控溅射Al靶电流30A，电弧Cr靶电流为40A，复合沉积Ti/Al/Cr过渡层5?6min; (5)沉积TiAlCrN硬质涂层:开启N2，N2气压为1.5Pa，Ar气压0.5Pa，偏压200V，Ti靶的靶电流50A，Al靶电流40A，Cr靶电流50A;沉积温度260?280 °C，复合沉积TiAlCrN硬质涂层4?5min； (6)沉积MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层:关闭N2，开启MoS2靶中频磁控溅射电源，电流2.3A，Ti靶电流40A，A1靶电流35A，Cr靶电流40A，偏压调至230V，沉积温度240?250°C，复合沉积MoS2/Ti/Al/Cr 润滑涂层 4 ?5min; (7)沉积TiAlCrN硬质涂层:重复(5); (8)沉积MoS2/Ti/Al/Cr润滑涂层:重复(6); (9)重复(5)、(6)、(5)...:交替沉积TiAlCrN、MoS2/Ti/Al/Cr...TiAlCrN涂层共120min； (10)后处理:关闭各电源、离子源及气体源，涂层结束。
【文档编号】C23C14/06GK105862004SQ201610428788
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年6月15日
【发明人】宋文龙, 邓建新, 王首军, 郭宗新, 周珂, 李小冬
【申请人】济宁学院