多源蒸镀装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种多源蒸镀装置。
【背景技术】
[0002]蒸镀法是一种在半导体或太阳能等产业中已经被广泛使用的镀膜技术，如图1所示，一般常见的蒸镀装置通常包含一个真空腔体91，以及一个安装于所述真空腔体91内且可对一膜料93加热的加热件92。
[0003]在使用时，先将一个欲进行镀膜的工件94放入所述真空腔体91内，接着令所述真空腔体91内抽真空，然后通过所述加热件92将所述膜料93加热达到熔化，使所述膜料93蒸发产生蒸气原子，并通过蒸气原子沉积凝结在所述工件94之一表面941而生成膜层，便完成镀膜作业。
[0004]然而所述蒸镀装置在实际应用上，由于所述膜料93加热蒸发时，其蒸气原子的动作路径有一定的范围，如图1所示地，越靠近所述膜料93则可蒸镀之面积越小，越远离所述膜料93则可蒸镀之面积越大。换句话说，当所述工件94的尺寸越大时，所述工件94的表面941之面积也越大，因此所述2工件94就必须要相当远离所述膜料93，才能使所述表面941完全蒸镀。不过，为了能让工件94有足够的空间与所述膜料93间隔，在拉长所述工件94与所述膜料93之间的距离的同时，所述真空腔体91的体积也需要随着变大改变。
[0005]如此一来，将会增加所述真空腔体91抽真空的时间，进而降低工作效率、生产效率与使用方便性，若为了增加抽真空的速度而采用抽气速率较高的泵浦，又不可避免地会增加设备成本。
【实用新型内容】
[0006]本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种可在近距离处均匀镀膜，并能维持较佳的制造质量、工作效率与生产效率且方便使用的多源蒸镀装置。
[0007]本实用新型所采用的技术方案是:本实用新型多源蒸镀装置可在一个工件的一个加工面上蒸镀膜层，所述加工面包括第一面部、第二面部与第三面部，而所述多源蒸镀装置包含:
[0008]一中空腔体，包括一个可被抽真空且可供所述工件容置的容置空间；
[0009]一蒸镀源机构，包括一个位于所述容置空间内且可被加热而朝所述工件的加工面上蒸镀膜层的膜料单元，所述膜料单元具有一个可在所述第一面部与所述第二面部上蒸镀膜层的第一膜料以及一个可在所述第二面部与所述第三面部上蒸镀膜层的第二膜料；及
[0010]一遮挡机构，包括一个可遮挡所述第一膜料与所述第二膜料的其中一个蒸镀膜层于所述第二面部上的遮挡件。
[0011]进一步的，所述遮挡机构还包括一个与所述中空腔体结合安装而可驱动所述遮挡件绕一轴线旋转的驱动单元。
[0012]进一步的，所述遮挡机构的驱动单元具有一个与所述中空腔体结合安装的驱动件以及一个连接于所述驱动件与所述遮挡件之间的传动件，所述传动件可被所述驱动件驱动而绕所述轴线转动，进而带动所述遮挡件旋转。
[0013]进一步的，所述蒸镀源机构还包括一个与所述中空腔体结合安装的加热单元，所述加热单元具有数个安装于所述容置空间内而分别用于加热所述第一膜料与所述第二膜料的加热座。
[0014]进一步的，每一个所述加热座皆具有一个电子枪，所述电子枪分别可对所述第一膜料与所述第二膜料轰击电子。
[0015]进一步的，所述中空腔体内设置有一个安装于所述容置空间内而用于承载所述工件的承载单元。
[0016]进一步的，所述中空腔体还设置有数个安装于所述容置空间内的离子枪，所述离子枪分别可对所述工件的加工面轰击离子。
[0017]本实用新型的有益效果是:在所述中空腔体内设置所述第一膜料与所述第二膜料的多源蒸镀结构，使得所述多源蒸镀装置可应用于较大尺寸的工件，并可在近距离处均匀镀膜，且所述容置空间的容积不需增大，故不会增长抽真空的时间而能维持较佳的工作效率与生产效率，并方便使用。此外，所述遮挡机构的遮挡件可遮挡所述第一膜料与所述第二膜料的其中一个蒸镀膜层于所述第二面部上，前述崭新的设计使所述加工面的膜层的厚度均匀，因而能维持较佳的制造质量。
【附图说明】
[0018]图1是现有技术的局部剖视图；
[0019]图2是本实用新型前视剖视示意图；
[0020]图3是本实用新型侧视剖视示意图。
【具体实施方式】
[0021]如图1、图2、图3所示，本实用新型可在一个工件8的一个朝下的加工面81上蒸镀膜层，所述工件8的加工面81包括依序连接设置的一个第一面部811、一个第二面部812与一个第三面部813。而所述多源蒸镀装置包含:一个中空腔体1、一个蒸镀源机构2以及一个遮挡机构3，其中，所述蒸镀源机构2及所述遮挡机构3皆与所述中空腔体I结合安装。
[0022]所述中空腔体I包括一个基座单元11、一个由所述基座单元11界定而成且可供所述工件8容置的容置空间12、一个安装于所述容置空间12内而用于承载固定所述工件8的承载单元13以及数个安装于所述容置空间12内且间隔地位于所述承载单元13之下方的离子枪14。所述离子枪14分别可将氩气解离成氩离子与电子，并将所述氩离子轰击所述工件8的加工面81，不仅可作为清洁用途，带有的高能量所述氩离子轰击所述工件8之后，可增加所述加工面81的热能，进而有助于后续所述蒸镀源机构2蒸镀膜层的附着度与均匀度。
[0023]在实施上，所述基座单元11具有一个可被驱动而对所述容置空间12抽气的泵浦，通过所述泵浦维持所述容置空间12在预定的真空压力值下，前述预定的真空压力值可依实际需求调整，不需限制。至于所述中空腔体I的细部结构、所述容置空间12如何被抽真空、所述承载单元13如何承载固定所述工件8，以及所述离子枪14的细部构造，皆非本新型改良之重点，不再各别详述。
[0024]所述蒸镀源机构2位于所述工件8的下方，并包括一个与所述中空腔体I结合安装的加热单元21以及一个位于所述容置空间12内且位于所述承载单元13下方的膜料单元22。所述膜料单元22可被所述加热单元21加热，而朝所述工件8的加工面81上蒸镀膜层。所述膜料单元22具有一个可在所述第一面部811与所述第二面部812上蒸镀膜层的第一膜料221以及一个可在所述第二面部812与所述第三面部813上蒸镀膜层的第二膜料 222。
[0025]所述加热单元21具有数个安装于所述容置空间12内而分别用于加热所述第一膜料221与所述第二膜料222的加热座211，其中，所述第一膜料221与所述第二膜料222可为金属或有机材料等，而所述等加热座211可通过电阻加热、电感加热或以电子束加热等方式，不需限制。
[0026]在本实施例中，所述等加热座211是采用电子束加热的方式来加热所述第一膜料221与所述第二膜料222，并相较其他加热方式具有较佳的加热效率。每一个加热座211皆具有一个电子枪212，所述电子枪212分别可对所述第一膜料221与所述第二膜料222轰击电子，藉此加热所述第一膜料221与所述第二膜料222以使其蒸发。
[0027]所述遮挡机构3包括一个位于所述工件8与所述膜料单元22之间的遮挡件31以及一个与所述中空腔体I结合安装的驱动单元32。所述遮挡件31可遮挡所述第一膜料221与所述第二膜料222的其中一个蒸镀膜层于所述第二面部812上，而所述驱动单元32可驱动所述遮挡件31绕一轴线7旋转。所述驱动单元32具有一个与所述中空腔体I结合安装的驱动件321以及一个连接于所述驱动件321与所述遮挡件31之间的传动件322。所述第一膜料221与所述第二膜料222分别位于所述轴线7的左右侧，所述等离子枪14则分别位于所述轴线7的前后侧，