一种用于fa端面研磨的滴液循环及防护装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及机械加工设备领域，具体为一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置。
【背景技术】
[0002]随着科技的高速发展，人们的生活水平大幅度提升，出现了各种各样的通信方式，其中光通信占据着主导地位。
[0003]在光通信产品PLC(Planar Lightwave Circuit Splitter，平面光波导分路器)的生产过程中，需要首先制作FA (Fiber Array,光纤阵列)，把光纤精密组装定位到一个石英基材上的间距为250um或127um的精密V槽里，上面覆盖上一块石英盖板，最后点入UV胶水并紫外固化。再对FA端面进行研磨抛光。端面质量的好坏直接决定了 FA是否好用，PLC光学性能是否合格。
[0004]在研磨抛光的过程中，需要定时定量的加研磨液与抛光液。常规的方式采取手动添加。这样就会存在一些问题，研磨液、抛光液沉积，且手动添加存在一定的误差导致研磨后的端面一致性差，研磨质量不稳定；可能忘记添加研磨液导致研磨质量差，进而影响产品的性能。
[0005]光纤研磨机是一个偏向盘插入三个轴做偏心运动，研磨盘放在精度较高的底座环上，研磨盘的运行精度就在于底座环，所以保护底座环就是保护研磨机，目前不管四角加压还是中心加压都没有保护措施，研磨时有各种液体流到底座环，腐蚀或磨损底座环，导致机器报废；同时研磨液没有进行收集和循环利用，造成浪费，增大成本。
【实用新型内容】
[0006]本实用新型的目的是提供一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置，可以自动的定时定量的对研磨抛光过程添加研磨液与抛光液，同时对研磨液和抛光液搅拌，防止沉积，保证研磨后的端面一致性好，提高研磨质量；可以保护底座环不被腐蚀和磨损，进而保护加工的精度；还能将研磨液和抛光液进行收集和循环利用。
[0007]为实现以上目的，本实用新型采用的技术方案是:一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置，它包括主体(I)和设置在其上的底座环(13)，所述的底座环(13)上设置有与其同轴的研磨盘(14)和防水罩(16)，所述的防水罩(16)的上表面设置有固定圈(15);所述的底座环(13)、防水罩(16)、固定圈(15)通过定位销(17)相固定；所述的研磨盘(14)正上方设置有供液管(5)的出液口( 502)，所述的供液管(5)的进液口( 501)设置在烧杯(3)中，所述的烧杯(3)底部设置有搅拌子(4)，且烧杯(3)设置在磁力搅拌机(2)上，所述的搅拌子(4)和磁力搅拌机(2)通过磁力相配合；所述的供液管(5)在进液口(501)和出液口(502)之间还依次连接有供液泵(6)、控制开关(8)和压力控制阀(9);主体(I)的侧面设置有收集合(12)，所述的收集合(12)通过回液管(18)与烧杯(3)连通，且回液管(18)中间接有过滤装置(19)和回液泵(20)。
[0008]进一步的，所述的防水罩(16)和固定圈(15)均设置在研磨盘(14)外围且相互接触，中间没有间隙。
[0009]进一步的，所述的防水罩(16)侧面为锥形，且主体(I)与防水罩(16)底部外侧接触的地方开有水槽(11)，所述的水槽(11)与收集合(12)连通。
[0010]进一步的，所述的水槽(11)包括环形水槽(1101)和直型水槽(1102 )，所述的直型水槽(1102)与收集合进口(1201)相连。
[0011]进一步的，所述的直型水槽(1102)底部为斜面，靠近收集合(12)的一端深。
[0012]进一步的，所述的收集合进口(1201)为斜面，且其宽度为直型水槽(1102)宽度的2-5 倍。
[0013]进一步的，所述的磁力搅拌机(2)的侧面设置有转速调节开关(201)和磁力调节开关(202)。
[0014]进一步的，所述的供液泵(6)为蠕动泵，且其还连接有流量调节器(7)。
[0015]进一步的，进入到研磨机中的供液管(5)、控制开关(8)和压力控制阀(9)均固定在研磨臂(10)上，且出液口(502)为可以任意弯折的柔性管道。
[0016]进一步的，所述的过滤装置(19)包括有沉淀池一(1901)、粗过滤器(1902)、沉淀池二( 1903)和精过滤器(1904)，沉淀池一(1901)与粗过滤器(1902)相连，粗过滤器(1902)与沉淀池二( 1903)相连，沉淀池二( 1903)与精过滤器(1904)相连，且沉淀池一(1901)与收集合(12)相连。
[0017]本实用新型的有益效果:1、本实用新型一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置，设置了防水罩，可以防止研磨时各种液体流到底座环上，保护底座环不被腐蚀和磨损，进而保护加工的精度。
[0018]2、设置了控制开关和压力控制阀，可以自动的定时定量的对研磨抛光过程添加研磨液与抛光液，保证适时适量的添加研磨液和抛光液，进而保证研磨的质量。
[0019]3、主体上设置了水槽，并且连接到收集合，可以将研磨液进行收集，并且设置了回液管，可以将收集的研磨液循环利用。
[0020]4、设置了搅拌装置，可以防止研磨液和抛光液沉积，进而保证研磨后的产品端面一致性良好，提尚广品的质量。
[0021]5、采用的是磁力搅拌机进行搅拌，节省了人力，同时设置了转速调节开关和磁力调节开关，可以控制搅拌子的转速和高度，防止研磨液和抛光液逸出烧杯。
[0022]6、蠕动泵连接有流量调节器，可以控制泵的抽液流量，保证泵的抽液量处于一个合适的值，不会损坏压力控制阀和控制开关。
[0023]7、回液管中间连接了过滤装置，且过滤装置中设置了粗过滤器和精过滤器，能很好的将收集的研磨液中的残渣除掉。
【附图说明】
[0024]图1为一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置的结构示意图。
[0025]图2为搅拌部分的立体示意图。
[0026]图3为防护部分的俯视图。
[0027]图4为图1中A的局部放大图。
[0028]图5为过滤装置的结构示意图。
[0029]图中所述文字标注表示为:1、主体；2、磁力搅拌机；3、烧杯；4、搅拌子；5、供液管；6、供液泵；7、流量调节器；8、控制开关；9、压力控制阀；10、研磨臂；11、水槽；12、收集合；13、底座环；14、研磨盘；15、固定圈；16、防水罩；17、定位销；18、回液管；19、过滤装置；20、回液泵；201、转速调节开关；202、磁力调节开关；501、进液口 ；502、出液口 ；1101、环形水槽；1102、直型水槽；1201、收集合进口 ；1901、沉淀池一 ；1902、粗过滤器；1903、沉淀池二 ；1904、精过滤器。
【具体实施方式】
[0030]为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本实用新型的保护范围有任何的限制作用。
[0031]如图1至图5所示，本实用新型的具体结构为:一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置，它包括主体I和设置在其上的底座环13，所述的底座环13上设置有与其同轴的研磨盘14和防水罩16，所述的防水罩16的上表面设置有固定圈15 ;所述的底座环13、防水罩16、固定圈15通过定位销17相固定；所述的研磨盘14正上方设置有供液管5的出液口 502，所述的供液管5的进液口 501设置在烧杯3中，所述的烧杯3底部设置有搅拌子4，且烧杯3设置在磁力搅拌机2上，所述的搅拌子4和磁力搅拌机2通过磁力相配合；所述的供液管5在进液口 501和出液口 502之间还依次连接有供液泵6、控制开关8和压力控制阀9 ;主体I的侧面设置有收集合12，所述的收集合12通过