一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，具体的说是一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置。
【背景技术】
[0002]电弧离子真空镀膜机现均采用工件转架连接偏压电源，对镀膜工件施加偏压，让蒸发的金属离子以较大的能量轰击工件的表面，从而提高膜层的附着力。但这种工艺只能适合对金属或其它耐温材料镀膜，并不适合塑料等材料使用电弧离子真空镀膜工艺。因为工件在电流通过时会产生热量，如果是塑料类材料就会被烧坏。
[0003]基于以上原因，需要一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置被设计出来，通过在蒸发源和镀膜工件的一侧，安装偏压辅助装置；不让电流通过工件，但也能靠偏压辅助装置提高蒸发金属离子的能量，有效避免了因为工件在电流通过时会产生热量，如果是塑料类材料就会被烧坏的情况，即一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置。
【实用新型内容】
[0004]为了解决上述现有真空镀膜机存在的技术问题，本实用新型提供一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置。
[0005]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
[0006]一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置，包括:真空室和工件转架，所述工件转架固定安装在真空室内部，所述工件转架内部安装有偏压辅助装置，所述工件转架表面放置有镀膜工件；所述真空室的边缘处固定设置有电弧蒸发源，所述真空室的下方分别设置有偏压电源和电弧蒸发源，所述偏压电源通过偏压电源线路分别和真空室、偏压辅助装置固定连接；所述电弧蒸发电源通过电弧蒸发源线路分别和真空室、电弧蒸发源固定连接。
[0007]作为本实用新型的优选方案，在电弧离子真空镀膜机的蒸发源和工件转架的一侦牝安装偏压辅助装置，让偏压电源在偏压辅助装置和真空室之间形成电流回路。本装置也可在电阻蒸发真空镀膜机和磁控溅射真空镀膜机上使用。
[0008]本实用新型的有益效果是:一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置，通过在蒸发源和镀膜工件的一侧安装偏压辅助装置，增强电弧离子真空镀膜机的使用功能，让电弧离子真空镀膜机也能在塑料或其它不耐温材料表面镀制膜层，本实用新型结构较为简单，实用性较高，适合推广使用。
【附图说明】
[0009]下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
[0010]图1是本实用新型的结构示意图。
[0011]图中:1、真空室，2、偏压电源，3、电弧蒸发电源，4、偏压电源线路，5、电弧蒸发源线路，6、电弧蒸发源，7、工件转架，8、偏压辅助装置，9、镀膜工件，10、蒸发金属离子。
【具体实施方式】
[0012]为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0013]如图1所示，本实用新型所述的一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置，包括:真空室I和工件转架7，所述工件转架7固定安装在真空室I内部，所述工件转架7内部安装有偏压辅助装置8，所述工件转架7表面放置有镀膜工件9 ;所述真空室I的边缘处固定设置有电弧蒸发源6，所述真空室I的下方分别设置有偏压电源2和电弧蒸发源3，所述偏压电源2通过偏压电源线路4分别和真空室1、偏压辅助装置8固定连接；所述电弧蒸发电源3通过电弧蒸发源线路5分别和真空室1、电弧蒸发源6固定连接；所述工件转架7上每次放置的镀膜工件9数量为六块；所述电弧蒸发源6的数量为六个。
[0014]作为本实用新型一个较佳的实施例，如图1所示，本实用新型在工作时，不让偏压电流通过工件，靠偏压辅助装置来提高蒸发金属离子的能量，加速向工件表面沉积，最终达到工件镀膜效果。
[0015]作为本实用新型另一个较佳的实施例，通过在电弧离子真空镀膜机的蒸发源和工件转架的一侧，安装偏压辅助装置，让偏压电源在偏压辅助装置和真空室之间形成电流回路。本装置也可在电阻蒸发真空镀膜机和磁控溅射真空镀膜机上使用。
[0016]以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
【主权项】
1.一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置，其特征在于:包括真空室(I)和工件转架(7)，所述工件转架(7)固定安装在真空室(I)内部，所述工件转架(7)内部安装有偏压辅助装置(8)，所述工件转架(7)表面放置有镀膜工件(9);所述真空室(I)的边缘处固定设置有电弧蒸发源￠)，所述真空室(I)的下方分别设置有偏压电源(2)和电弧蒸发源(3)，所述偏压电源(2)通过偏压电源线路(4)分别和真空室(I)、偏压辅助装置(8)固定连接；所述电弧蒸发电源(3)通过电弧蒸发源线路(5)分别和真空室(I)、电弧蒸发源(6)固定连接。
【专利摘要】本实用新型涉及一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置，包括：真空室和工件转架，所述工件转架固定安装在真空室内部，所述工件转架内部安装有偏压辅助装置，所述工件转架表面放置有镀膜工件；所述真空室的边缘处固定设置有电弧蒸发源，所述真空室的下方分别设置有偏压电源和电弧蒸发源，所述偏压电源通过偏压电源线路分别和真空室、偏压辅助装置固定连接；所述电弧蒸发电源通过电弧蒸发源线路分别和真空室、电弧蒸发源固定连接；本实用新型通过在蒸发源和镀膜工件的一侧安装偏压辅助装置，增强电弧离子真空镀膜机的使用功能，让电弧离子真空镀膜机也能在塑料或其它不耐温材料表面镀制膜层，本实用新型结构较为简单，实用性较高，适合推广使用。
【IPC分类】C23C14-32
【公开号】CN204589290
【申请号】CN201520261691
【发明人】成林
【申请人】昆山浦元真空技术工程有限公司
【公开日】2015年8月26日
【申请日】2015年4月27日