连续型同步镀膜设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种镀膜设备，特别是涉及一种连续型(in-line)同步镀膜设备。
【背景技术】
[0002]目前真空溅镀(sputtering)技术的应用日渐广泛，举凡在可携式3C电子产品外壳上镀覆防电磁波干扰(EMI)镀膜的3C产业，甚或是在透明镜片上镀覆有光学镀膜(optical film)的光学镜片产业，无不使用到真空溅镀设备。在各种真空溅镀设备中又以连续型多腔体(mult1-chambers)的镀膜设备因为具备有速度快、产量高、镀覆质量优良，以及能大幅地降低生产成本等优点，因而广泛地应用于大量镀膜的制程中。
[0003]参阅图1，中国台湾第M258101核准公告号实用新型专利案(以下称前案)公开一种一般的连续型镀膜设备9，包含一个真空腔体91、一个能在该真空腔体91内沿一方向Y移动且载放有一待镀物(图未示)的载具92、多个设置在该真空腔体91内的传输机构93、一前升降单元94、一后升降单元95，及一个设置在该真空腔体91下的回传模块96。
[0004]该真空腔体91沿该方向Y依序包括一个进料区间911、一个设置有多个阴极溅镀靶的镀膜区间912，及一个出料区间913。该前升降单元94与该后升降单元95是分别邻设于该真空腔体91的进料区间911与出料区间913。
[0005]该载放有该待镀物的载具92是先通过该前升降单元94导入至该真空腔体91的该进料区间911，以通过设置于该真空腔体91内的所述传输机构93传送进入该镀膜区间912经由所述阴极溅镀靶进行多道镀膜程序并制得一镀覆有一多层膜的完成品后，被传送进入该出料区间913以通过该出料区间913内的传输机构93导出该出料区间913并位于该后升降单元95上。最后，通过人工或机械手臂拿取该完成品后，以经由该后升降单元95使净空后的该载具92向下位移并导入该回传模块96，且通过该回传模块96重新回到该前升降单元94上，再放置另一个待镀物以形成一个循环。如此，不断重复上述的各道镀膜程序，以依序生广出完成品。
[0006]然而，由于该一般的连续型镀膜设备9内所配置的载具92的数量仅有一个，该载放有该待镀物的载具92必须完成各道镀膜程序后，才能在净空后的载具92上载放另一个待镀物以重新进行各道镀膜程序。因此，当该载具92在该镀膜区间912内的其中一阴极溅镀靶进行其中一道镀膜程序时，将造成其他阴极溅镀靶闲置，无法有效地提高产能并缩减量产的工时。
[0007]经上述说明可知，改良连续型镀膜设备的结构，以解决阴极溅镀靶闲置的问题并借此提高产能使量产的工时得以缩减，是此技术领域的相关技术人员所待突破的难题。
【发明内容】
[0008]本实用新型的目的在于提供一种连续型同步镀膜设备。
[0009]本实用新型的连续型同步镀膜设备，包含:一个真空腔体、η个阴极溅镀靶组合、多个载具，及一个传输机构。该真空腔体包括(n+1)个缓冲区间及η个镀膜区间，所述缓冲区间与所述镀膜区间是沿一排列方向依序轮流设置，η 3 2且是正整数。所述阴极溅镀靶组合分别对应设置在该η个镀膜区间，且每一阴极溅镀靶组合具有至少一种靶材。所述载具分别载放一个待镀物且分别能被控制地于该多个镀膜区间和该多个缓冲区间移动，其中，每一载具于各镀膜区间中执行一镀膜程序时，能于各镀膜区间与各镀膜区间前后的缓冲区间三者间移动。该传输机构设置于该真空腔体，且于所述缓冲区间、所述镀膜区间连续地设置，用以传输所述载具进行各镀膜程序。
[0010]本实用新型的连续型同步镀膜设备，该传输机构包括(2η+1)个输送组件，及(2η+1)个用以分别驱动所述输送组件的马达，该传输机构的(2η+1)个输送组件分别对应设置在所述缓冲区间与所述镀膜区间。
[0011]本实用新型的连续型同步镀膜设备，该传输机构的每一输送组件具有多个滚轮，各输送组件的所述滚轮是用以承托传输所述载具进行各镀膜程序。
[0012]本实用新型的连续型同步镀膜设备，该传输机构还包括(2η+1)个感应单元，该(2η+1)个感应单元分别对应设置在所述缓冲区间与所述镀膜区间，并用以侦测所述载具的位置。
[0013]本实用新型的连续型同步镀膜设备，每一感应单元具有一前传感器，及一后传感器。
[0014]本实用新型的连续型同步镀膜设备，该连续型同步镀膜设备还包含一设置于该真空腔体对应于第一个缓冲区间的一端的入口阀门、一设置于该真空腔体对应于第(n+1)个缓冲区间的另一端的出口阀门，及一衔接该出口阀门与该入口阀门的自动回流单元。
[0015]本实用新型的连续型同步镀膜设备，该自动回流单元包括一与该出口阀门连接的载出腔、一与该入口阀门连接的载入腔，及一连接该载出腔与该载入腔的回送机构。
[0016]本实用新型的连续型同步镀膜设备，该回送机构具有一与该载出腔连接且能操控地使所述载具自该载出腔向下移动的沉降段、一与该载入腔连接且能操控地使所述载具向上移动至该载入腔的攀升段，及一位于该沉降段与该攀升段间的中继段。
[0017]本实用新型的连续型同步镀膜设备，该沉降段、该攀升段、该载出腔，及该载入腔各具有一输送组件，及一用以驱动其输送组件的马达，且该中继段具有至少一输送组件及至少一用以驱动其输送组件的马达。
[0018]本实用新型的连续型同步镀膜设备，该连续型同步镀膜设备还包含至少一连接于该真空腔体的抽真空单元，该自动回流单元的载出腔与载入腔分别具有一抽气泵。
[0019]本实用新型的有益效果在于，借由该真空腔体内的所述缓冲区间与所述镀膜区间的结构改良并配合所述载具的配置，令各载具可同时于各镀膜区间内执行各镀膜程序以妥善地利用每一个镀膜区间，避免了以往因镀膜区间内的阴极溅镀靶闲置而无法有效地提高产能并缩减量产工时的问题。
【附图说明】
[0020]本实用新型的其他的特征及功效，将于参照图式的实施方式中清楚地呈现，其中:
[0021]图1是一侧视示意图，说明中国台湾第M258101核准公告号实用新型专利案所公开的一般的连续型镀膜设备；
[0022]图2是一上视图，说明本实用新型连续型同步镀膜设备的一实施例；
[0023]图3是沿图2的直线II1-1II所取得的一剖视示意图，说明本实用新型该实施例的多个载具于该实施例内的配置关系与移动情形；
[0024]图4是取自图3的一局部放大图，说明本实用新型该实施例的一镀膜区间、部分传输机构及部分回送机构的细部结构；
[0025]图5是一立体图，说明本实用新型该实施例的镀膜区间的细部结构。
【具体实施方式】
[0026]参阅图2、图3与图4，本实用新型的连续型同步镀膜设备的一实施例，包含:一个真空腔体l、n个阴极溅镀靶组合2、多个载具3、一个传输机构4、一个入口阀门5、一个出口阀门6、一个自动回流单元7，及至少一个连接于该真空腔体I的抽真空单元8。
[0027]该真空腔体I包括(n+1)个缓冲区间11及η个镀膜区间12，η兰2且是正整数。所述缓冲区间11与所述镀膜区间12是沿一排列方向X依序轮流设置。所述阴极溅镀靶组合2分别对应设置在该η个镀