一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环的制作方法
【专利说明】
[0001]技术领域:本实用新型涉及一种抽气设备，尤其是一种一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环。
[0002]【背景技术】:气相沉积膜设备在沉积时控制密封腔室内需保持一定范围的压力，需要通过抽气设备进行抽气，使腔室达到指定负压力值。目前没有专用的设备进行这种操作，普通的抽气装置一般很难控制气体均匀的抽出。
[0003]【实用新型内容】:针对上述现有技术的不足，本实用新型提供了一种一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环。
[0004]为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是:一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，包括环形的陶瓷环，在陶瓷环上均布抽气小孔，抽气小孔的内壁为圆角。
[0005]优选的，所述的抽气小孔为12至48个圆形的抽气小孔，小孔直径范围由I毫米至12毫米。
[0006]优选的，所述的抽气小孔设置在陶瓷环的中间或上端或下端。
[0007]本实用新型可针对不同沉积反应的真空要求可匹配不同的小孔数量及小孔孔径的陶瓷环，且保证抽气栗抽气时，腔室内部向外部抽气的气流均匀稳定。另外腔室内通入高能量离子时，可避免聚集高能量而产生局部燃烧现象。
【附图说明】
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[0008]图1是本实用新型实施例1的结构示意图。
[0009]图2是抽气小孔处的局部放大图。
[0010]图3是实施例2的结构示意图[0011 ] 图4是实施例3的结构示意图。
【具体实施方式】
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[0012]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清晰、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0013]如图1和图2所示:一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，包括环形的陶瓷环1，在陶瓷环I上均布抽气小孔2，抽气小孔2的内壁为圆角。抽气小孔设置在陶瓷环的中间。薄膜沉积过程中，此陶瓷环与腔室上盖及衬底承载台组合围成一个相对独立的孔间。陶瓷环外侧与抽气栗抽气管路相连，抽气栗工作时产生负压，通过陶瓷环上圆周的小孔将空间内的气体均匀的抽出，使腔室达到指定负压力值。
[0014]薄膜沉积过程中，当腔室内通入高能量离子时，陶瓷环内侧的圆角可避免聚集高能量而产生局部燃烧现象。
[0015]实施例2
[0016]如图3所示:抽气小孔设置在陶瓷环的上端。
[0017]实施例3
[0018]如图4所示:抽气小孔设置在陶瓷环的下端。
【主权项】
1.一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，包括环形的陶瓷环，其特征在于:在陶瓷环上均布抽气小孔，抽气小孔的内壁为圆角。2.如权利要求1所述的一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，其特征在于:所述的抽气小孔为12至48个圆形的抽气小孔，小孔直径范围由I毫米至12毫米。3.如权利要求1所述的一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，其特征在于:所述的抽气小孔设置在陶瓷环的中间或上端或下端。
【专利摘要】一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，包括环形的陶瓷环，在陶瓷环上均布抽气小孔，抽气小孔的内壁为圆角。本实用新型可针对不同沉积反应的真空要求可匹配不同的小孔数量及小孔孔径的陶瓷环，且保证抽气泵抽气时，腔室内部向外部抽气的气流均匀稳定。另外腔室内通入高能量离子时，可避免聚集高能量而产生局部燃烧现象。
【IPC分类】C23C14/56, C23C16/44
【公开号】CN204752844
【申请号】CN201520328483
【发明人】柴智, 刘亿军, 王燚
【申请人】沈阳拓荆科技有限公司
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年5月20日