一种真空溅射镀膜装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于镀膜装置领域，具体涉及一种真空溅射镀膜装置。
【背景技术】
[0002]溅射镀膜被广泛应用在玻璃、陶瓷、半导体等领域，溅射镀膜是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程，属于物理气相沉积(PVD)制备薄膜技术的一种，但是现有的真空溅射镀膜装置的腔体与挡板之间存在导电性，而且溅射腔的上半部分的不锈钢挡板吸附溅射物质的能力有限，导致溅射物质掉落，若落在产品的表面导致后面的膜层溅射不能完全附着在产品上，影响产品的质量。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种真空溅射镀膜装置，以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本实用新型提供一种技术方案:一种真空溅射镀膜装置，包括真空腔、阳极、进气口、传递辊、阴极靶材和阴极，所述真空腔由上半部的U形阴极盖板和下半部的U形阳极板框连接而成，且连接处设有密封件，所述阴极盖板的内侧通过螺栓安装有连接钢板，连接钢板的内侧焊接有不锈钢网，所述阴极盖板内设有阴极，所述阴极与阴极电源连接，所述阴极的的下方设有阴极靶材，所述阳极板框的两侧分别设有入料口与出料口，入料口与出料口的上方各设有一个阳极，所述阳极连有阳极电源，所述真空腔的底部安装有多个传递辊，传递辊之间固定有固定板，固定板通过固定板上的固定孔固定在阳极板框的底部，所述固定板上通过紧固件固定有绝缘块，所述绝缘块的两侧通过紧固件固定有侧板，绝缘块的上方通过紧固件固定有基板，所述真空腔的内部设有多组左右对称的进气口。
[0005]优选的，所述基板的高度低于传递辊的高度。
[0006]优选的，所述基板与侧板为一体结构，且侧板与固定板之间设有间隙。
[0007]优选的，所述进气口的大小形状各不相同，且进气口处安装有气体流量控制器。
[0008]本实用新型的技术效果和优点:一种真空溅射镀膜装置的阴极盖板的内侧通过螺栓安装有连接钢板，连接钢板的内侧焊接有不锈钢网，增加了对溅射物质的吸附力，减少了溅射物质的掉落，而且清洁方便，固定板上通过紧固件固定有绝缘块，绝缘块的两侧通过紧固件固定有侧板，绝缘块的上方通过紧固件固定有基板，保证了基板与真空腔的绝缘性，同时方便基板与侧板的更换，真空腔的内部设有多组左右对称的进气口，进气口的大小形状各不相同，且进气口处安装有气体流量控制器，通过气体流量控制装置调整各个进气口的气体流量，从而适应不同的工艺要求。
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型结构示意图。
[0010]图中:1、真空腔；101、阴极盖板；102、阳极板框；2、连接钢板；3、不锈钢网；4、密封件；5、阳极电源；6、阳极；7、入料口 ；8、进气口 ；9、传递辊；10、固定板；11、紧固件；12、固定孔；13、侧板；14、绝缘块；15、基板；16、出料口 ；17、阴极靶材；18、阴极；19、阴极电源。
【具体实施方式】
[0011]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0012]本实用新型提供了如图1所示的一种真空溅射镀膜装置，包括真空腔1、阳极6、进气口 8、传递辊9、阴极靶材17和阴极18，真空腔I由上半部的U形阴极盖板101和下半部的U形阳极板框102连接而成，且连接处设有密封件4，阴极盖板101的内侧通过螺栓安装有连接钢板2，连接钢板2的内侧焊接有不锈钢网3，阴极盖板101内设有阴极18，所述阴极18与阴极电源19连接，阴极18的的下方设有阴极靶材17，阳极板框102的两侧分别设有入料口 7与出料口 16，入料口 7与出料口 16的上方各设有一个阳极6，阳极6连有阳极电源5，真空腔I的底部安装有多个传递辊9，传递辊9之间固定有固定板10，固定板10通过固定板上的固定孔12固定在阳极板框102的底部，固定板10上通过紧固件11固定有绝缘块14，绝缘块14的两侧通过紧固件11固定有侧板13，绝缘块14的上方通过紧固件11固定有基板15，基板15与侧板13为一体结构，且侧板13与固定板10之间设有间隙，基板15的高度低于传递辊9的高度，真空腔I的内部设有多组左右对称的进气口 8，进气口 8的大小形状各不相同，且进气口 8处安装有气体流量控制器。
[0013]工作原理，阴极盖板101的内侧通过螺栓安装有连接钢板2，连接钢板2上焊接有不锈钢网3，增加了吸附能力，当溅射物质吸附在不锈钢网3上时，可以卸下连接钢板2，对不锈钢网3进行清洁处理，根据不同的工艺要求，通过气体流量控制装置调整各个进气口 8的气体流量。
[0014]最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种真空溅射镀膜装置，包括真空腔(1)、阳极￠)、进气口(8)、传递辊(9)、阴极靶材(17)和阴极(18)，其特征在于:所述真空腔(I)由上半部的U形阴极盖板(101)和下半部的U形阳极板框(102)连接而成，且连接处设有密封件(4)，所述阴极盖板(101)的内侧通过螺栓安装有连接钢板(2)，连接钢板(2)的内侧焊接有不锈钢网(3)，所述阴极盖板(101)内设有阴极(18)，所述阴极(18)与阴极电源(19)连接，所述阴极(18)的的下方设有阴极靶材(17)，所述阳极板框(102)的两侧分别设有入料口(7)与出料口(16)，入料口(7)与出料口(16)的上方各设有一个阳极(6)，所述阳极(6)连有阳极电源(5)，所述真空腔(I)的底部安装有多个传递辊(9)，传递辊(9)之间固定有固定板(10)，固定板(10)通过固定板上的固定孔(12)固定在阳极板框(102)的底部，所述固定板(10)上通过紧固件(11)固定有绝缘块(14)，所述绝缘块(14)的两侧通过紧固件(11)固定有侧板(13)，绝缘块(14)的上方通过紧固件(11)固定有基板(15)，所述真空腔(I)的内部设有多个进气口2.根据权利要求1所述的一种真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述基板(15)的高度低于传递辊(9)的高度。3.根据权利要求1所述的一种真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述基板(15)与侧板(13)为一体结构，且侧板(13)与固定板(10)之间设有间隙。4.根据权利要求1所述的一种真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述进气口(8)的大小形状各不相同，且进气口(8)处安装有气体流量控制器。
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空溅射镀膜装置，包括真空腔、阳极、进气口、传递辊、阴极靶材和阴极，所述真空腔由上半部的U形阴极盖板和下半部的U形阳极板框连接而成，所述阴极盖板的内侧通过螺栓安装有连接钢板，连接钢板的内侧焊接有不锈钢网，所述真空腔的底部安装有多个传递辊，传递辊之间固定有固定板，固定板通过固定板上的固定孔固定在阳极板框的底部，所述固定板上通过紧固件固定有绝缘块，所述绝缘块的两侧通过紧固件固定有侧板，绝缘块的上方通过紧固件固定有基板，所述真空腔的内部设有多组左右对称的进气口。该真空镀膜装置不仅减少了溅射物质的掉落，保证了绝缘性，而且可以适应不同的工艺要求。
【IPC分类】C23C14/34, C23C14/54
【公开号】CN204803396
【申请号】CN201520489263
【发明人】闫都伦, 王克斌, 吴细标, 唐贵民
【申请人】深圳新南亚技术开发有限公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年7月9日