真空镀膜的喂料装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种真空镀膜的喂料装置，特别是涉及一种可往返于待命位置与喂料位置且可旋转拨动的真空镀膜的喂料装置。
【背景技术】
[0002]真空镀膜装置具备维持真空的蒸镀室与配置于蒸镀室内部的蒸镀源，其利用蒸镀源生成的待镀原料蒸气，使之沉积于设置在蒸镀室的待镀基材上而形成薄膜。因用户各式不同的应用目的，用户可选择适当待镀原料，例如:金属、金属氧化物或有机物等做为待镀原料，以于元件上成长出各式功能性薄膜。另外，真空蒸镀技术可泛指热阻式蒸镀与电子束蒸镀两种，是在真空环境下透过以特定方式加热待镀材料使之升华气化并沉积待镀基材上。此技术可广泛应用于光学、半导体、有机发光二极体、有机太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、薄膜电池等领域。
[0003]在镀膜的过程当中，待镀原料会有用尽的时候，此时需补充待镀原料以供镀膜。有鉴于蒸镀室内往往有配置多组蒸镀源使用的状况，各组蒸镀原材料于工艺过程中耗用量不一。其中一组蒸镀源内待镀原料耗尽并不代表其他组蒸镀源内的待镀原料也被耗尽，而频繁破真空去填充耗用量较大的待镀材料往往会造成工艺进度被迫停摆，更甚者会造成工艺前后批次间元件品质产生微幅差异。此外，部分前瞻应用的材料对于大气中的水氧极其敏感，若此种材料尚未使用完毕而需破真空补充其他种待镀原料之时，因蒸镀源暴露于大气中，材料劣化变质将成为严重问题。因此在传统作法中，公开了一种具有两个真空腔体的喂料装置，其利用开关控制相通与否的第一真空腔体与第二真空腔体，于第一真空腔体中设置有可供定量收容蒸镀源的喂料装置及可将蒸镀源往第二真空腔体递送的导料机构。于第二真空腔体中则设置有可收容来自导料机构的蒸镀源并予以加热以使蒸镀源气化的加热装置，在开关阻隔第一真空腔体与第二真空腔体相通的情形下，位于第一真空腔体中的喂料装置可进行补充待镀原料的作业，而第二真空腔体中的加热装置则可不受影响地继续进行蒸镀作业。然而，此种装置结构所占用的空间相当大而难以将设置空间缩小。而且此装置为移动式蒸镀源，必须设置输送装置而大幅增加成本。再者，因应蒸镀源的大小，开关阻隔阀也会大型化，则不可避免地会有装置的复杂化与大型化的缺陷。
[0004]此外，另一种传统喂料装置的结构是在真空腔体旁边设置另一空腔体，并于此空腔体中设置转动式喂料装置，其透过单组转动器自下方驱动机构旋转至具备导管的落料口，进而将待镀原料传送至蒸镀源。此喂料装置虽可持续补料，但真空腔体需要具备恰当的连结法方能使用，在机构泛用性方面会有所影响。此外，突出的导管结构也会干扰有效蒸镀角，进而影响镀膜均匀性。
[0005]另外，又一种传统喂料装置是利用隔板隔离出多个储料槽的空间，且以垂直滚动的方式来实现补充待镀原料的作动。此结构是将喂料装置设于蒸镀源的上方，经由滚动方式来切换落料口所对应的储料槽。由于此喂料装置固设于蒸镀源的正上方，因此使用时间一久，喂料装置的外表面即会被镀上待镀原料而造成需要定期养护的困扰。此外，由于此结构位于蒸镀源上方，会阻碍蒸镀角并造成镀膜效果不均匀。
[0006]再者，其他先前自动填料技术多半是金属线材补充器，其是将待镀金属线材卷，并透过机构出线、剪线来完成喂料动作。另外，再一现有技术利用震动式颗粒型材料补充器，其是将颗粒型材料放至于真空储存容器内，然后透过震动机构筛出单颗材料来完成喂料动作。此外，一现有技术运用导管式颗粒型材料补充器，其是将颗粒型材料放至于真空储存容器内，透过特殊结构的导管筛出单颗材料来完成喂料动作。然而，这些现有技术都存在机构的结构复杂、体积过大而排挤蒸镀腔体内可用空间、机构位置设置不当阻碍蒸镀角造成镀膜不均匀等问题。
[0007]由上述可知，目前市场上缺乏一种低成本、占用空间小、装置简单、不影响镀膜均匀性、能在真空环境下完成补充填料来延长工艺时间，进而减少破真空补充待镀原料所造成的时间浪费、可充分使用剩余的对水氧极为敏感材料的真空镀膜的喂料装置，故相关业者正在寻求其解决之道。
【实用新型内容】
[0008]因此，本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜的喂料装置，其透过单轴或双轴转动的拨动结构，使移动模块位移于待命位置与喂料位置之间，能在真空环境下迅速补充待镀原料，使工艺可以持续进行而无需破真空补充待镀原料。另外，本装置可弧形或直线地往复位移喂料模块的喂料盘于待命位置与喂料位置之间，其不但能在真空环境下迅速补充待镀原料、延长工艺时间，同时可避免干涉蒸镀角。再者，透过单一转轴结合双拨动件的结构可实现喂料的控制，其无需两个转动器以及两个真空馈孔，仅需一个转动器与一个真空馈孔，其操作简单且可大幅降低喂料装置的制造成本。此外，利用双转动器的结构也可实现喂料的控制，此类结构可以精准地控制各模块的作动时间与对应位置。
[0009]本实用新型的一实施方式为一种真空镀膜的喂料装置，其设置于真空腔体且可控制待镀原料喂料于蒸镀源的时机。此真空镀膜的喂料装置包含喂料模块以及移动模块。其中喂料模块包含喂料盘，此喂料盘包含若干个储料槽，而待镀原料预置于储料槽内。再者，移动模块包含旋臂。喂料盘受旋臂连接带动而变换定位在待命位置或喂料位置。其中喂料位置位于有效蒸镀角涵盖区域内，而待命位置则位于有效蒸镀角涵盖区域之外。旋臂使移动模块位移至喂料位置而释放待镀原料于蒸镀源内，且旋臂随后会连接带动此移动模块位移至待命位置上。
[0010]借此，本实用新型的真空镀膜的喂料装置可弧形地往复位移喂料模块的喂料盘于待命位置与喂料位置之间，此喂料装置能在真空环境下迅速补充待镀原料，使工艺得以持续进行而不中断。
[0011]依据前述实施方式的其他实施例如下:前述移动模块可包含转动器，此转动器枢转旋臂，使喂料盘可限位地往复位移于待命位置与喂料位置之间。喂料盘的位移路径呈弧形，且喂料位置位于蒸镀源的中心上方。再者，前述喂料模块可包含本体，此本体呈圆槽状且具有喂料孔，喂料孔对应蒸镀源。另外，喂料盘可包含多个拨杆，各拨杆对应各储料槽，且喂料盘枢设于本体上。
[0012]本实用新型的另一实施方式为一种真空镀膜的喂料装置，其设置于真空腔体且可控制待镀原料喂料于蒸镀源的时机。此真空镀膜的喂料装置包含喂料模块与移动模块。其中喂料模块包含喂料盘，且喂料盘包含多个储料槽，待镀原料预置于储料槽内。此外，移动模块包含位移件，前述喂料盘受位移件直线地位移变换定位于待命位置或喂料位置。喂料位置位于有效蒸镀角涵盖区域内，而待命位置则位于有效蒸镀角涵盖区域之外。再者，位移件使喂料盘直线地位移至喂料位置而释放待镀原料于蒸镀源内，且位移件随后可连接带动喂料盘直线地位移至待命位置。
[0013]借此，本实用新型的真空镀膜的喂料装置可直线地往复位移喂料模块的喂料盘于待命位置与喂料位置之间。此喂料装置既能在真空环境下迅速补充待镀原料，也能使工艺持续地进行而无需破真空补充待镀原料。
[0014]依据前述实施方式的其他实施例如下:前述位移件可具有转移部，此转移部使喂料盘可限位地往复直线位移于待命位置与喂料位置之间，其中喂料位置位于蒸镀源的中心上方。前述喂料模块可包含本体，本体呈圆槽状且具有喂料孔，当喂料盘位移至喂料位置时，喂料孔对应蒸镀源。此外，喂料盘可包含多个拨杆，各拨杆对应各储料槽，且喂料盘枢设于本体上。
[0015]本实用新型的又一实施方式为一种真空镀膜的喂料装置，其设置于真空腔体且可控制待镀原料喂料于蒸镀源的时机。此真空镀膜的喂料装置包含喂料模块、拨动模块、移动模块以及弹性件。其中喂料模块包含喂料盘，此喂料盘包含若干个储料槽，而待镀原料预置于储料槽内。另外，拨动模块包含第一拨动件、第二拨动件、转轴以及转动器。其中第一拨动件与第二拨动件同轴枢接于转轴且彼此相交固定角。而转动器则连动转轴而使第一拨动件与第二拨动件同步转动。再者，移动模块包含旋臂，第一拨动件贴抵拨动旋臂转动。在第一拨动件转动的过程中，喂料盘受旋臂连接带动而从待命位置变换定位于喂料位置。喂料位置位于有效蒸镀角涵盖区域内，而待命位置则位于有效蒸镀角涵盖区域之外。第二拨动件则拨动喂料盘，使喂料盘旋转角度而使待镀原料释放至蒸镀源内。此外，弹性件可连动旋臂而使喂料模块位移至待命位置。
[0016]借此，本实用新型的真空镀膜的喂料装置透过单一转轴结合双拨动件的结构来实现喂料的控制，其无需两个转动器以及两个真空馈孔，而仅需一个转动器与一个真空馈孔，不但操作简单、可节省真空腔体内有限的空间，而且可大幅降低喂料装置的制造成本。
[0017]依据前述实施方式的其他实施例如下:前述喂料模块可包含本体，此本体呈圆槽状且具有本体中心轴与喂料孔。当喂料盘位移至喂料位置时，喂料孔对应蒸镀源，喂料盘枢设于本体中心轴上，且喂料位置位于蒸镀源的中心上方。再者，前述喂料盘可包含多个拨杆，各拨杆对应本体中心轴与各储料槽。当第二拨动件拨动其中一个拨杆时，拨杆会旋转角度。前述旋臂可呈弧形。此外，前述喂料盘可包含多个凹处，这些凹处位于喂料盘的外侧表面且对应于本体中心轴，且凹处的总数量等于拨杆的总数量。另外，前述本体设有至少一个