一种磁控溅射大型镀膜真空腔的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种镀大型板用磁控溅射镀膜真空腔室。
【背景技术】
[0002]传统的磁控溅射镀膜腔室采用平面腔体或者圆柱形腔体，对于大面积待镀基板来说，大型平面和大型圆柱体的镀膜真空腔的密封不易保持，对真空设备的要求较高。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型要解决的技术问题是:将提供一种可以同时镀两张大面积待镀基板磁控溅射镀膜真空腔室。
[0004]为解决上述问题，本实用新型采用的技术方案是:磁控溅射大型镀膜真空腔，包括:腔室，顶板和底板，所述腔室主体为圆环柱体，设有上顶板和底板与圆环柱体密封固定；所述底板上设有与圆环柱体的圆同心的二个圆形槽，所述顶板上设有与底板上二个圆槽相同直径的两个圆形固定槽，两个圆形固定槽中间设有圆形沟槽；圆形沟槽上支承1-5个在圆形沟槽电动滑轮，每个电动滑轮均设有一个靶材固定点。
[0005]本实用新型的优点在于:通过采用圆环柱体的真空腔，降低腔体抽真空的难度，使腔体的密封持久性更好；通过采用两个基板固定沟槽和一个带滑轮靶材固定槽，可将大面积待镀基板卷绕在圆柱环体腔室中，达到同时镀两张膜的效果；顶板上的滑轮装置便于调整靶材位置，使镀膜更加均匀。
【附图说明】
[0006]图1是本实用新型所述圆环柱体空腔的整体构造图，
[0007]图2是本实用新型所述空腔顶板的俯视图。
[0008]图3是本实用新型所述空腔底板的俯视图。
【具体实施方式】
[0009]下面结合附图对本发明作更进一步的说明。
[0010]如图1所示，一种磁控溅射大型镀膜真空腔，包括:腔室(10)，顶板⑴和底板
[11]，所述腔室(10)主体为圆环柱体，设有上顶板(I)和底板(11)与圆环柱体密封固定；所述底板(11)上设有与圆环柱体的圆同心的二个圆形槽(7) (8)，所述顶板(I)上设有与底板(11)上二个圆槽(7) (8)相同直径的两个圆形固定槽(2) (3)，两个圆形固定槽中间设有圆形沟槽(4);圆形沟槽上支承1-5个电动滑轮(5)，每个电动滑轮均设有一个靶材固定点
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[0011]以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出:对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种磁控溅射大型镀膜真空腔，由腔室(10)，顶板(I)和底板(11)组成，其特征在于:所述腔室(10)主体为圆环柱体，设有上顶板(I)和底板(11)与圆环柱体密封固定；所述底板(11)上设有与圆环柱体的圆同心的二个圆形槽(7) (8)，所述顶板(I)上设有与底板(11)上二个圆槽(7) (8)相同直径的两个圆形固定槽(2) (3)，两个圆形固定槽中间设有圆形沟槽(4);圆形沟槽上支承1-5个电动滑轮(5)，每个电动滑轮均设有一个靶材固定点(6)ο
【专利摘要】本实用新型公开了一种磁控溅射大型镀膜真空腔，包括腔室，顶板和底板，所述腔室主体为圆环柱体，设有上顶板和底板与圆环柱体密封固定；所述底板上设有与圆环柱体的圆同心的二个圆形槽，所述顶板上设有与底板上二个圆槽相同直径的两个圆形固定槽，两个圆形固定槽中间设有圆形沟槽；圆形沟槽上支承1-5个在圆形沟槽电动滑轮，每个电动滑轮均设有一个靶材固定点。本实用新型的优点在于：可以将两张面积较大的待镀基板卷绕在圆环柱体内两个圆形固定槽中，实现同时镀两张大面积膜的目的。圆环柱体空腔相较现有的圆柱体空腔和平面空腔更容易实现真空密封状态，且密封持久性强。
【IPC分类】C23C14/56, C23C14/35
【公开号】CN204874722
【申请号】CN201520395011
【发明人】刘晓萌, 左敏
【申请人】无锡爱尔华精机有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年6月9日