回转体抛光生产线用垂直抛光装置的制造方法

文档序号:10004168阅读:465来源:国知局
回转体抛光生产线用垂直抛光装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种回转体抛光生产线用垂直抛光装置,属于抛光机械技术领域。
【背景技术】
[0002]对于回转体外侧壁的抛光,现有技术的回转体抛光多采用卧式抛光方法,但是对于类似于不锈钢饭缸等有底的回转体工件来说,卧式抛光在自动化生产的时候,上下料复杂,造成整个抛光过程效率较低,同时抛光过程中采用整体式抛光,当抛光轮长时间使用后,抛光一致性会变差,因此需要对现有技术的抛光技术方案进行改进,降低上下料的难度,缩短时间,提高抛光的效率,同时提高抛光的均匀性,提高抛光质量。

【发明内容】

[0003]本实用新型的目的在于解决现有技术的不足,提供一种回转体抛光生产线用垂直抛光装置。该垂直抛光装置能有效降低上下料难度,缩短时间,提高抛光效率、也能够有效提尚抛光的均勾性,提尚抛光质量。
[0004]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
[0005]回转体抛光生产线用垂直抛光装置,上述垂直抛光装置包括机架,上述机架内设有驱动回转体工件的夹持回转机构,抛光机构,抛光机构的底部设有调节抛光深度的水平调节机构;上述夹持回转机构包括竖直向设置的治具电机,治具电机的治具电机主轴与治具相连,治具张紧并固定上述回转体工件;抛光机构包括与回转体工件轴线平行的抛光轮,抛光轮通过抛光机头与抛光电机相连。
[0006]作为优选,上述水平调节机构包括带动抛光机构水平运动的滑动台,上述滑动台底部设有蜗杆,上述蜗杆通过涡轮和齿轮组与调节电机相连并由其驱动。
[0007]作为优选,上述滑动台上还设有与蜗杆平行的导向导轨。
[0008]作为优选,上述抛光机头与抛光电机之间还设有皮带和皮带轮。
[0009]作为优选,上述抛光轮外还设有防护罩,上述防护罩的一侧设有吸尘管。
[0010]作为优选,上述抛光机头内还设有驱动抛光轮上下移动的伸缩轴;且上述垂直抛光装置还包括垂直抛光控制器,上述垂直抛光控制器分别与治具电机、抛光电机、调节电机电连接并分别控制运转。
[0011]有益效果
[0012]本实用新型的有益效果是:本实用新型具有效降低上下料难度,缩短时间,提高抛光效率、也能够有效提高抛光的均匀性,提高抛光质量的优点。
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型的正视图。
[0014]图2是本实用新型的俯视图。
[0015]图3是本实用新型的立体图。
[0016]图中:1、机架,2、回转体工件,3、治具电机,4、治具电机主轴,5、治具,6、抛光轮,7、抛光机头,8、抛光电机,9、蜗杆,10、调节电机,11、导向导轨,12、防护罩,13、吸尘管。
【具体实施方式】
[0017]下面通过具体实施例,并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步的具体说明。
[0018]实施例:
[0019]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:回转体抛光生产线用垂直抛光装置,垂直抛光装置包括机架1,机架I内设有驱动回转体工件2的夹持回转机构,抛光机构,抛光机构的底部设有调节抛光深度的水平调节机构。
[0020]夹持回转机构包括竖直向设置的治具电机3,治具电机的治具电机主轴4与治具5相连,治具5张紧并固定回转体工件2。
[0021]抛光机构包括与回转体工件轴线平行的抛光轮6,抛光轮外还设有防护罩12,防护罩的一侧设有吸尘管13。抛光轮6通过抛光机头7与抛光电机8相连,抛光机头7与抛光电机8之间还设有皮带和皮带轮;抛光机头7内还设有驱动抛光轮3上下移动的伸缩轴。
[0022]水平调节机构包括带动抛光机构水平运动的滑动台,滑动台底部设有蜗杆9,蜗杆9通过涡轮和齿轮组与调节电机10相连并由其驱动。滑动台上还设有与蜗杆9平行的导向导轨11。
[0023]且垂直抛光装置还包括垂直抛光控制器,垂直抛光控制器分别与治具电机3、抛光电机8、调节电机10电连接并分别控制运转。
[0024]具体实施时,回转体工件2放入治具5张紧且治具电机3带动治具5,回转体工件2作旋转运动。
[0025]抛光电机8带动抛光轮6旋转(由于抛光机头7内设有伸缩轴,使得抛光轮6可以上下运动),水平调节机构拖动抛光机构整体往治具5方向运动进行抛光(抛光力度可以通过调节电机的电流控制)
[0026]以上所述的实施例只是本实用新型的一种较佳的方案,在不超出权利要求所记载的技术方案的前提下还有其它的变体及改型。
【主权项】
1.回转体抛光生产线用垂直抛光装置,所述垂直抛光装置包括机架(1),其特征在于:所述机架(I)内设有驱动回转体工件(2)的夹持回转机构,抛光机构,抛光机构的底部设有调节抛光深度的水平调节机构; 所述夹持回转机构包括竖直向设置的治具电机(3),治具电机的治具电机主轴(4)与治具(5 )相连,治具(5 )张紧并固定所述回转体工件(2 ); 抛光机构包括与回转体工件轴线平行的抛光轮(6),抛光轮(6)通过抛光机头(7)与抛光电机(8)相连。2.根据权利要求1所述的回转体抛光生产线用垂直抛光装置,其特征在于:所述水平调节机构包括带动抛光机构水平运动的滑动台,所述滑动台底部设有蜗杆(9),所述蜗杆(9)通过涡轮和齿轮组与调节电机(10)相连并由其驱动。3.根据权利要求2所述的回转体抛光生产线用垂直抛光装置,其特征在于:所述滑动台上还设有与蜗杆(9)平行的导向导轨(11)。4.根据权利要求1所述的回转体抛光生产线用垂直抛光装置,其特征在于:所述抛光机头(7)与抛光电机(8)之间还设有皮带和皮带轮。5.根据权利要求1所述的回转体抛光生产线用垂直抛光装置,其特征在于:所述抛光轮外还设有防护罩(12),所述防护罩的一侧设有吸尘管(13)。6.根据权利要求1-5任一项所述的回转体抛光生产线用垂直抛光装置,其特征在于:所述抛光机头(7)内还设有驱动抛光轮(3)上下移动的伸缩轴;且所述垂直抛光装置还包括垂直抛光控制器,所述垂直抛光控制器分别与治具电机(3)、抛光电机(8)、调节电机(10)电连接并分别控制运转。
【专利摘要】本实用新型公开一种回转体抛光生产线用垂直抛光装置,垂直抛光装置包括机架,机架内设有驱动回转体工件的夹持回转机构,抛光机构,抛光机构的底部设有调节抛光深度的水平调节机构;夹持回转机构包括竖直向设置的治具电机,治具电机的治具电机主轴与治具相连,治具张紧并固定回转体工件;抛光机构包括与回转体工件轴线平行的抛光轮,抛光轮通过抛光机头与抛光电机相连。本实用新型具有效降低上下料难度,缩短时间,提高抛光效率、也能够有效提高抛光的均匀性,提高抛光质量的优点。
【IPC分类】B24B41/00, B24B29/04
【公开号】CN204913576
【申请号】CN201520675272
【发明人】黄建青
【申请人】杭州斯比特机电有限公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年9月2日
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