一种电加热反应源储存及供应装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种供温装置，尤其是一种电加热反应源储存及供应装置，属于半导体薄膜沉积应用及制备技术领域。
【背景技术】
[0002]为了满足为满足气相沉积膜设备在沉积时的反应要求，在沉积过程中要向反应腔室内部通入各种反应源，其反应源形态包含气态、液态及固态等。因此需要一种装置来储存及在沉积过程中向反应腔室内供应反应源，且需要此装置对反应源加热。尤其对于液态和固态的反应源，可使用此装置对反应源进行加热(气化或升华)。
【实用新型内容】
[0003]针对上述现有技术的不足，本实用新型提供了一种电加热反应源储存及供应装置。
[0004]为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是:一种电加热反应源储存及供应装置，包括外壳，加热管，反应源存储器，高温阀和接口。加热管处于外壳的内壁上。反应源存储器放入到外壳内。高温阀设置在反应源存储器的上端。接口设置在高温阀上并与反应腔室连接。
[0005]本实用新型的有益效果及特点:通过采用此电加热反应源储存及供应装置，在整个沉积应用过程中，可以很好的实现反应源的储存及供应。
【附图说明】
[0006]图1是本实用新型的结构示意图。
[0007]图2是本实用新型的使用状态图。
【具体实施方式】
[0008]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清晰、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0009]如图1和图2所示:一种电加热反应源储存及供应装置，包括外壳1，加热管2，反应源存储器3，高温阀4和接口 5。加热管2处于外壳I的内壁上。反应源存储器3放入到外壳I内。高温阀4设置在反应源存储器3的上端。接口 5设置在高温阀4上并与反应腔室连接。
[0010]使用时，在反应源储存器内储存反应源，通过接口与反应腔室相连接。将高温阀打开后，可向反应腔室提供反应源，同时通过电加热管，可以对装置进行加热。
【主权项】
1.一种电加热反应源储存及供应装置，其特征在于:包括外壳，加热管，反应源存储器，高温阀和接口 ；加热管处于外壳的内壁上，反应源存储器放入到外壳内，高温阀设置在反应源存储器的上端，接口设置在高温阀上并与反应腔室连接。
【专利摘要】一种电加热反应源储存及供应装置，包括外壳，加热管，反应源存储器，高温阀和接口。加热管处于外壳的内壁上。反应源存储器放入到外壳内。高温阀设置在反应源存储器的上端。接口设置在高温阀上并与反应腔室连接。通过采用此电加热反应源储存及供应装置，在整个沉积应用过程中，可以很好的实现反应源的储存及供应。
【IPC分类】C23C16/448
【公开号】CN204918759
【申请号】CN201520546543
【发明人】王燚, 刘亿军
【申请人】沈阳拓荆科技有限公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年7月23日