一种研磨抛光托盘的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及研磨抛光设备，尤其是涉及一种研磨抛光托盘。
【背景技术】
[0002]游星式研磨/抛光机在研磨/抛光过程中会出现托盘积砂的问题，长期使用砂石很有可能会流进托盘轴与太阳轮轴中间，造成托盘轴与太阳轮轴中的两个轴承损坏，进而造成整机损坏。
[0003]现有的托盘为防止积砂损坏机器而设有坡度在30°以上的斜面，以便于排砂，但仍存在以下缺陷:(1)坡度在30°以上的斜面，托盘本身质量、厚度以及体积都有偏大趋势；托盘的厚度体积影响了研磨/抛光机高度，研磨/抛光机高度增加，不便于操作；研磨/抛光机的刚性和稳定性相对降低；(2)加工成本高，坡度在30°以上的斜面，相应的轴等机加工件需要加长，加工成本提高。
【发明内容】
[0004]本实用新型所要解决的技术问题，克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种一种质量厚度体积更小、便于操作、稳定性高且加工成本低的研磨抛光托盘。
[0005]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是，一种研磨抛光托盘，包括底座，底座为圆盘结构，上表面为自中心处的径向斜坡面；底座的中心处设有连接孔；底座的外圆周上设有突起支承面，支承面的支撑点高于圆盘平面。
[0006]进一步，支承面与连接孔之间径向设有加强筋。
[0007]进一步，突起支承面的为圆柱体的上表面，圆柱体的底端面为斜面；所述圆柱体的中心处开有圆形通孔。
[0008]进一步，连接孔为圆形阶梯孔。
[0009]进一步，支承面的数量优选5个，支承面的排列方式为沿底座外周环形阵列，加强筋的数量优选10根。
[0010]与现有技术相比，本实用新型结构简单，制造成本低，减小了托盘的质量、厚度以及体积；设有五个支承面突出结构，即有较强的稳定性又可较大的提高斜坡面的角度，减少轴的长度，节约成本；同时五个支承面的支撑点高于圆盘平面，降低了加工成本和难度；采用筋结构，增加了强度，使托盘做离心运动减少积砂。
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型一实施例的仰视图；
[0012]图2为图1所示托盘的俯视图；
[0013]图3为图1所示托盘的主视图；
[0014]图4为图1所示托盘的轴侧视图。
【具体实施方式】
[0015]实施例
[0016]以下结合附图及实施例对本实用新型做进一步说明。
[0017]参照附图1、附图2、附图3、附图4，本实施例包括底座1，底座1为圆盘结构，上表面为自中心处的径向斜坡面；底座1的中心处设有连接孔3 ;底座1的外圆周上设有5个突起的支承面2，支承面2的支撑点高于圆盘平面。
[0018]支承面2与连接孔3之间径向设有10根加强筋4。
[0019]突起的支承面2为圆柱体的上表面，圆柱体的底端面为斜面；圆柱体的中心处开有圆形通孔。
[0020]连接孔3为圆形阶梯孔。
[0021]支承面的排列方式为沿底座外周环形阵列。
[0022]本实用新型设有五个突起的支承面2，即有较强的稳定性又可较大的提高斜坡面的角度，减少轴的长度，节约成本，同时突起的支承面2的支撑点高于圆盘平面，降低了加工成本和难度，同时采用筋结构，增加了强度，使托盘做离心运动减少积砂。
【主权项】
1.一种研磨抛光托盘，其特征在于，包括底座，所述底座为圆盘结构，上表面为自中心处的径向斜坡面；所述底座的中心处设有连接孔；所述底座的外圆周上设有突起支承面，所述支承面的支撑点高于圆盘平面。2.根据权利要求1所述的研磨抛光托盘，其特征在于，所述支承面与连接孔之间径向设有加强筋。3.根据权利要求1或2所述的研磨抛光托盘，其特征在于，所述突起支承面的为圆柱体的上表面，圆柱体的底端面为斜面；所述圆柱体的中心处开有圆形通孔。4.根据权利要求3所述的研磨抛光托盘，其特征在于，所述连接孔为圆形阶梯孔。5.根据权利要求1或2所述的研磨抛光托盘，其特征在于，所述支承面的数量为5个。6.根据权利要求5所述的研磨抛光托盘，其特征在于，所述支承面的排列方式为沿底座外周环形阵列。7.根据权利要求2所述的研磨抛光托盘，其特征在于，所述加强筋的数量为10根。
【专利摘要】一种研磨抛光托盘，包括底座，所述底座为圆盘结构，上表面为自中心处的径向斜坡面；所述底座的中心处设有连接孔；所述底座的外圆周上设有突起支承面，所述支承面的支撑点高于圆盘平面。本实用新型结构简单，制造成本低，减小了托盘的质量、厚度以及体积；有较强的稳定性又可较大的提高斜坡面的角度，减少轴的长度，节约成本；采用筋结构，增加了强度，形成类扇叶状，使托盘做离心运动减少积砂。
【IPC分类】B24B55/00
【公开号】CN205057800
【申请号】CN201520746577
【发明人】杨佳葳, 龚涛, 谢俊
【申请人】湖南宇晶机器股份有限公司
【公开日】2016年3月2日
【申请日】2015年9月24日