一种pecvd沉积系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及PECVD领域，尤其涉及一种PECVD沉积系统。
【背景技术】
[0002]硅基异质结电池是一种利用晶体硅基板和非晶硅薄膜制成的混合型太阳能电池。在硅基异质结电池，正反两面的叠层结构可以是对称结构。钝化层除掺杂层外，是完全对称的结构。沉积的顺序可以是i/n，也可以先沉积i/p层。PECVD系统是模块化系统，将硅片制绒及清洗处理之后，硅片通过上料机构放置到载板上，进入预热腔室，然后完成i，η (或Ρ)层沉积，之后通过具有冷却功能的冷却机构进入下料机构。硅片在下料机构通过弹夹机构进行翻转后转移到下一 PECVD系统进行另一面钝化层的沉积。
[0003]其中，硅片进入PECVD系统反应时是通过放在载板上来实现，因此载板有些部分会有硅的沉积，而载板从大气进入腔室，加热到冷却的这种循环很容易使在载板上的沉积硅剥落到各个腔室内，造成沉积钝化膜质量的下降。
[0004]实际应用中，因为硅沉积的薄膜很薄，一般在5-50nm之间，因此，PECVD系统的各个腔室一般在200-500次沉积之后进行一次清洗，但是这样的清洗频率对于载板的清洗往往太低效。因此载板和各个腔室如果进行同步清洗，会严重影响整个系统的正常运行。
[0005]因此，需要开发一种更有效的清洗载板的沉积系统，克服现有加工设备上存在的不足。
【发明内容】
[0006]本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种PECVD沉积系统，其改善了沉积质量，也提高了设备稼动率和生产良率。
[0007]为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案:
[0008]一种PECVD沉积系统，其特征在于，包括:多个处理腔室及载板传送装置；所述多个处理腔室至少包括上料机构及下料机构；所述载板传送装置可循环的将载板从上料机构传送进入其他的处理腔室，在多个处理腔室中传送，并从下料机构传送出处理腔室；所述载板传送装置上设有载板分送机构，载板进入载板分送机构后由其分送到载板清洗室内进行清洗或者留在载板传送装置上；载板清洗室将清洗好后的载板传送到载板传送装置。
[0009]优选的，所述处理腔室包括预热腔室:用于对PECVD基板进行预热处理；沉积腔室:用于对预热好的PECVD基板进行膜层的沉积；冷却腔室:用于对沉积好的PECVD基板进行冷却。
[0010]优选的，所述PECVD基板为硅片。
[0011]优选的，所述载板分送机构还设有载板入料口，载板通过载板入料口传输到载板传送装置上。
[0012]优选的，所述载板传送装置为载板传送轨道。
[0013]本实用新型采用以上技术方案，通过设计载板分送机构，可以通过载板分送机构将沉积硅的载板输入到清洗室内进行单独清洗，同时载板分送机构也同时将清洗好的载板输送到上料机构，保证了整个沉积系统的正常运行时间，使得沉积的钝化膜质量不受载板上的硅剥落影响，提高了设备稼动率、生产效率和沉积质量。
【附图说明】
[0014]图1为本实用新型PECVD沉积系统实施例1的结构示意图；
[0015]图2为本实用新型PECVD沉积系统实施例2的结构示意图。
【具体实施方式】
[0016]为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0017]实施例1:
[0018]如图1所示，本实用新型公开了一种PECVD沉积系统，其包括:多个处理腔室1及载板传送装置2 ;所述多个处理腔室1包括上料机构11、预热腔室12:用于对基板进行预热处理；沉积腔室13:用于对预热好的基板进行膜层的沉积、冷却腔室14:用于对沉积好的基板进行冷却、下料机构15，所述载板传送装置2为可循环的传送装置，处理腔室1中上料机构11的进口与下料机构15的出口通过载板传送装置2相连接，载板由上料机构11的进口进入处理腔室，由上料机构11传送至预热腔室对基板进行预热处理；由预热腔室12传送至沉积腔室13对预热好的基板进行膜层的沉积；由沉积腔室13传送至冷却腔室14对沉积好膜层的基板进行冷却；最后由冷却腔室14传送至下料机构15将沉积好的基板送出。所述载板传送装置2上设有载板分送机构21，载板3进入载板分送机构21，然后其中一部分载板31由载板分送机构21分送到载板清洗室4内进行清洗，一部分载板32由载板分送机构21分送到载板传送装置2上，载板传送装置2将载板32输送到上料机构内11，以维持正常的整个沉积系统的正常运行，同时，所述载板分送机构21还设有载板入料口 22，清洗好的载板33通过载板入料口 22传输到载板传送装置2上，满足沉积系统对载板的需求。其中，所述载板传送装置2为载板传送轨道，所述PECVD基板为硅片。
[0019]实施例2:
[0020]如图2所示，与实施例一不同的是，本实施例中，载板分送机构21设在上料机构11侦k并且设有多个沉积腔室13。
[0021 ] 本实用新型沉积系统中各个腔室的清洗频率和载板清洗室的清洗频率可以设定不一致，载板可通过载板分送机构由预先可设定清洗频率输出载板在腔室外进行清洗，提高系统正常运行时间。同时沉积的钝化膜质量不受载板的硅剥落影响，提高了设备稼动率、生产效率和沉积质量。
[0022]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种PECVD沉积系统，其特征在于，包括:多个处理腔室及载板传送装置；所述多个处理腔室至少包括上料机构及下料机构；所述载板传送装置可循环的将载板从上料机构传送进入其他的处理腔室，在多个处理腔室中传送，并从下料机构传送出处理腔室；所述载板传送装置上设有载板分送机构，载板进入载板分送机构后由其分送到载板清洗室内进行清洗或者留在载板传送装置上；载板清洗室将清洗好后的载板传送到载板传送装置。2.根据权利要求1所述的PECVD沉积系统，其特征在于，所述处理腔室包括预热腔室:用于对PECVD基板进行预热处理；沉积腔室:用于对预热好的PECVD基板进行膜层的沉积；冷却腔室:用于对沉积好的PECVD基板进行冷却。3.根据权利要求2所述的PECVD沉积系统，其特征在于，所述PECVD基板为硅片。4.根据权利要求1所述的PECVD沉积系统，其特征在于，所述载板分送机构还设有载板入料口，载板通过载板入料口传输到载板传送装置上。5.根据权利要求1所述的PECVD沉积系统，其特征在于，所述载板传送装置为载板传送轨道。
【专利摘要】本实用新型公开了一种PECVD沉积系统，其包括：多个处理腔室及载板传送装置；所述多个处理腔室至少包括上料机构及下料机构；所述载板传送装置可循环的将载板从上料机构传送进入其他的处理腔室，在多个处理腔室中传送，并从下料机构传送出处理腔室；所述载板传送装置上设有载板分送机构，载板进入载板分送机构后由其分送到载板清洗室内进行清洗或者留在载板传送装置上；载板清洗室将清洗好后的载板传送到载板传送装置。通过载板分送机构将沉积硅的载板输入到清洗室内进行单独清洗使得沉积的钝化膜质量不受硅剥落影响，提高了生产效率和沉积质量。
【IPC分类】C23C16/44
【公开号】CN205077136
【申请号】CN201520686126
【发明人】杨与胜, 王树林, 倪鹏玉, 李鹏飞, 陈剑雨
【申请人】钧石(中国)能源有限公司
【公开日】2016年3月9日
【申请日】2015年9月7日