一种改进的原子层沉积炉的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于原子层沉积领域，具体涉及一种改进的原子层沉积炉。
【背景技术】
[0002]原子层沉积(ALD,Atomic layer deposit1n)是利用两种独立的挥发性前驱体，以气体脉冲的形式在不同时间段内先后与基底表面进行化学吸附和化学反应，并在两个脉冲间隔往反应室内通往惰性气体，对反应室进行净化，即第一前驱体先在基底表面均匀吸附一层，然后利用惰性气体净化带走反应室内未吸附的第一前驱体，随后通入第二前驱体，第二前驱体与第一前驱体在基底表面发生化学反应，生成一层膜，副产物再由惰性气体净化带走，重复上述过程可生成指定原子层数的镀层或薄膜。原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控型(厚度，成份和结构)，优异的沉积均匀性和一致性使得其在微纳电子和纳米材料等领域具有广泛的应用潜力。
[0003]目前的原子层沉积炉在进料及净化方面存在缺陷，现有的沉积炉的注射管的数量、分布位置及结构设计方面存在不足，如注射管的数量少、分布集中导致炉管内的原料气体分布不均匀，注射管开口以上部分存在一段易沉积副产物和原料气体的中空管，该中空管上端封闭，净化时很难完全净化该管段内积存的副产物和杂质气体，实际生产时其容易造成产品薄膜的良率下降。
【实用新型内容】
[0004]针对现有技术中原子层沉积炉存在的问题，本实用新型提供一种改进的原子层沉积炉，其可以使炉管内的原料气分布更加均匀且注射管上部不存在难净化的管段，可有效提尚广品良率。
[0005]本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下:一种改进的原子层沉积炉，其特征在于，包括炉管、外加热器，基底板支架、基底板及注射管，所述炉管及外加热器均为竖直放置的柱状体，所述外加热器套设在所述炉管外部，所述炉管内部竖直设置有基底板支架，所述基底板支架上放置有若干层水平的基底板，相邻基底板之间有间隙，所述注射管的上部伸入所述炉管内，所述注射管的下部伸出所述炉管且与进气装置连通，位于所述炉管内的注射管呈竖直状且顶端封闭，位于所述炉管内的注射管的侧壁上设置有用于向所述炉管内进料的开口，所述开口以上的注射管为实心管。
[0006]在上述技术方案的基础上，本实用新型还可以做如下改进。
[0007]进一步，还包括有伸入所述炉管内的温度测量计。
[0008]进一步，所述开口朝向所述基底板支架。
[0009]进一步，所述注射管设置为多根且不同注射管上的开口位置高低错开。
[0010]进一步，所述基底板为圆片状，所述注射管设置为多根且围绕所述基底板支架上的所述基底板呈周向排列。
[0011]本实用新型的有益效果是:炉管内注射管侧壁开口以上的注射管为实心管，生产时不会积存副产物和原料气，易于净化，有效提高产品良率;注射管设置有多根且其上开口高低错开，开口朝向基底板，注射管围绕所述基底板支架分布等结构特点均有利于提高原料气在炉管内分布的均匀性，有效提高其在基底板上的快速均匀吸附；炉管内设有温度测量计，根据其实时获得炉管内温度值，以便调节外加热器的功率，保证炉管内具有适宜的反应温度。
【附图说明】
[0012]图1为本实用新型提供的一种改进的原子层沉积炉的结构示意图；
[0013]图2为本实用新型提供的原子层沉积炉的注射管部分的剖面示意图。
[0014]附图中，各标号所代表的部件列表如下:
[0015]1.炉管;2.基底板支架;3.基底板;4.外加热器;5;温度测量计;6.注射管;7.开口。
【具体实施方式】
[0016]以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的范围。
[0017]如图1至图2所示，本实用新型提供一种改进的原子层沉积炉，，包括炉管1、外加热器4，基底板支架2、基底板3及注射管6，所述炉管1及外加热器4均为竖直放置的柱状体，所述外加热器4套设在所述炉管1外部，所述炉管1内部竖直设置有基底板支架2，所述基底板支架2上放置有若干层水平的基底板3，相邻基底板3之间有间隙，所述注射管6的上部伸入所述炉管1内，所述注射管6的下部伸出所述炉管1且与进气装置连通，位于所述炉管1内的注射管6呈竖直状且顶端封闭，位于所述炉管1内的注射管6的侧壁上设置有用于向所述炉管1内进料的开口 7，所述开口 7以上的注射管6为实心管。
[0018]在上述技术方案的基础上，本实用新型还可以做如下改进。
[0019]进一步，还包括有伸入所述炉管1内的温度测量计5。
[0020]进一步，所述开口7朝向所述基底板支架2。
[0021]进一步，所述注射管6设置为多根且不同注射管6上的开口7位置高低错开。
[0022]进一步，所述基底板3为圆片状，所述注射管6设置为多根且围绕所述基底板支架2上的所述基底板3呈周向排列。
[0023]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种改进的原子层沉积炉，其特征在于，包括炉管(1)、外加热器(4)，基底板支架(2)、基底板(3)及注射管(6)，所述炉管(1)及外加热器(4)均为竖直放置的柱状体，所述外加热器(4)套设在所述炉管(1)外部，所述炉管(1)内部竖直设置有基底板支架(2)，所述基底板支架(2)上放置有若干层水平的基底板(3)，相邻基底板(3)之间有间隙，所述注射管(6)的上部伸入所述炉管(1)内，所述注射管(6)的下部伸出所述炉管(1)且与进气装置连通，位于所述炉管(1)内的注射管(6)呈竖直状且顶端封闭，位于所述炉管(1)内的注射管(6)的侧壁上设置有用于向所述炉管(1)内进料的开口(7)，所述开口(7)以上的注射管(6)为实心管。2.根据权利要求1所述的一种改进的原子层沉积炉，其特征在于，还包括有伸入所述炉管(1)内的温度测量计(5)。3.根据权利要求1所述的一种改进的原子层沉积炉，其特征在于，所述开口(7)朝向所述基底板支架(2)。4.根据权利要求1所述的一种改进的原子层沉积炉，其特征在于，所述注射管(6)设置为多根且不同注射管(6)上的开口(7)位置高低错开。5.根据权利要求1至4任一项所述的一种改进的原子层沉积炉，其特征在于，所述基底板(3)为圆片状，所述注射管(6)设置为多根且围绕所述基底板支架(2)上的所述基底板(3)呈周向排列。
【专利摘要】本实用新型属于原子层沉积领域，具体涉及一种改进的原子层沉积炉，包括炉管、外加热器，基底板支架、基底板及注射管，外加热器套设在炉管外部，炉管内部设置有基底板支架，基底板支架上放置有若干层水平的基底板，注射管的上部伸入炉管内，注射管的下部伸出炉管且与进气装置连通，位于炉管内的注射管的侧壁上设置有用于向炉管内进料的开口，开口以上的注射管为实心管。本实用新型的有益效果是：炉管内注射管侧壁开口以上的注射管为实心管，生产时不会积存副产物和原料气，易于净化，有效提高产品良率真；注射管设置有多根且其上开口高低错开有利于提高原料气在炉管内分布的均匀性，有效提高其在基底板上的快速均匀吸附。
【IPC分类】C23C16/455
【公开号】CN205077141
【申请号】CN201520895324
【发明人】万羽翼, 李春龙
【申请人】武汉新芯集成电路制造有限公司
【公开日】2016年3月9日
【申请日】2015年11月11日