一种沉锗投料装置的制造方法

文档序号:10204873
一种沉锗投料装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种沉锗投料装置。
【背景技术】
[0002]冶金工业在我国发展迅速,且在经济发展中占有重要的比例,锌矿的发展在其中也有着不可或缺的作用。锌主要从硫酸锌矿中提炼出来,硫酸锌精矿中的锗以GeSjP GeS形态存在,在氧化焙烧过程中,由于处于强氧化气氛中,所以锗以Ge02的形式大部分进入焙砂,少量进入烟尘。在中性浸出时,又大部分随铁酸锌等难溶矿物进入中浸渣。在中浸渣低酸浸出时,锗被浸出进入溶液,让那个也净化除铁时,控制大部分铁沉淀而锗不沉淀,锗留在溶液总,随后添加辅料进行中和沉锗,回收锗。
[0003]目前在沉锗中,直接加入辅料反应沉淀,但是在投料的过程中,容易造成辅料与母液接触不充分,降低锗的沉淀,同时也浪费辅料,增加了成本。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型提出了一种沉锗投料装置,该装置结构简单,能够充分增大辅料与母料的接触面积,加快锗的沉淀。
[0005]为了实现上述目的,本实用新型是通过以下技术方案来实现的:
[0006]—种沉锗投料装置,主要包括沉锗反应釜和投料装置,所述投料装置为圆管,投料装置分为投料口和接触部,所述投料口设置于沉锗反应釜外顶部,所述接触部竖直设置于沉锗反应釜内,所述接触部上设有至少一列沿着接触部竖直方向均匀延伸的投料圆孔,所述投料圆孔的直径为10-20mm。
[0007]进一步的,所述投料圆孔的直径为10mm ;
[0008]进一步的,所述沉锗反应釜顶部设有进料口 ;
[0009]进一步的,所述沉锗反应釜底部设有出料口 ;
[0010]进一步的,所述沉锗反应釜内部设有搅拌装置;可搅拌母液,使其与辅料混合充分,增大接触面积,促进反应;
[0011]本实用新型一种沉锗投料装置,其有益效果在于:在沉锗过程中加入液体辅料,辅料进入投料装置的接触部,接触部上的投料圆孔开孔方向与溶液转动方向呈90°角,依靠溶液的转动流动,与辅料混合反应。该装置能够增加溶液与辅料轴向的接触反应面积,加快反应时间,节约辅料,投入最少的辅料达到最好的沉锗效果,节约了成本。
【附图说明】
[0012]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0013]图1是本实用新型一种沉锗投料装置的结构示意图;
[0014]图2是图1中投料装置的侧视图;
[0015]1-沉锗反应釜,2-投料口,3-接触部,4-投料圆孔,5-进料口,6-出料口,7-搅拌
目.ο
【具体实施方式】
[0016]下面结合具体实施例及附图来进一步详细说明本实用新型。
[0017]—种沉锗投料装置如图1和图2所示,主要包括沉锗反应釜1和投料装置,投料装置为圆管,分为投料口 2和接触部3,投料口 2置于沉锗反应釜1外顶部,接触部3竖直置于沉锗反应釜1内,接触部3上设有至少一列沿着接触部3竖直方向均匀延伸的投料圆孔4,投料圆孔4的直径为10 ;沉锗反应釜1顶部设有进料口 5 ;沉锗反应釜1底部设有出料口6 ;沉锗反应釜1内部设有搅拌装置7,可搅拌母液,使其与辅料混合充分,增大接触面积,促进反应。在沉锗过程中加入液体辅料,辅料进入投料装置的接触部3,接触部3上的投料圆孔4开孔方向与溶液转动方向呈90°角,依靠溶液的转动流动,与辅料混合反应。
[0018]以上对本实用新型实施例所提供的技术方案进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本实用新型实施例的原理以及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只适用于帮助理解本实用新型实施例的原理;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本实用新型实施例,在【具体实施方式】以及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
【主权项】
1.一种沉锗投料装置,其特征在于:包括沉锗反应釜(1)和投料装置,所述投料装置为圆管,投料装置分为投料口(2)和接触部(3),所述投料口(2)设置于沉锗反应釜(1)外顶部,所述接触部(3)竖直设置于沉锗反应釜(1)内,所述接触部(3)上设有至少一列沿着接触部⑶竖直方向均匀延伸的投料圆孔(4),所述投料圆孔(4)的直径为10-20_。2.根据权利要求1所述的沉锗投料装置,其特征在于:所述投料圆孔(4)的直径为10mmo3.根据权利要求1所述的沉锗投料装置,其特征在于:所述沉锗反应釜(1)顶部设有进料口(5);沉锗反应釜⑴底部设有出料口(6)。4.根据权利要求1所述的沉锗投料装置,其特征在于:所述沉锗反应釜(1)内部设有搅拌装置(7)。
【专利摘要】本实用新型一种沉锗投料装置,包括沉锗反应釜和投料装置,投料装置为圆管,分为投料口和接触部,投料口置于沉锗反应釜外顶部,接触部竖直置于沉锗反应釜内,接触部上设有至少一列沿着接触部竖直方向均匀延生的投料圆孔,投料圆孔的直径为10-20mm。在沉锗过程中加入液体辅料,辅料进入投料装置的接触部,接触部上的投料圆孔开孔方向与溶液转动方向呈90°角,依靠溶液的转动流动,与辅料混合反应。该装置能够增加溶液与辅料轴向的接触反应面积,加快反应时间,节约辅料,投入最少的辅料达到最好的沉锗效果,节约了成本。
【IPC分类】C22B41/00, C22B3/46
【公开号】CN205115567
【申请号】CN201520856598
【发明人】周建泉, 包世兴, 罗应平, 鲁宗乾, 张武昌, 罗吉海, 王美春, 张丽华, 毕春丽
【申请人】南华茂森再生科技有限公司
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2015年10月30日
再多了解一些
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