一种光学塑料基板镀膜装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型设及一种锻膜装置，特别是设及一种用于蒸锻光学塑料基板的锻膜装 置。
【背景技术】
[0002] 光学塑料是指用作光学介质材料的塑料。主要用在光学仪器中，用于制造光学基 板、透镜、隐形眼镜、有机光导纤维等。已获得应用的光学塑料主要有PMMA、PET、PC、PS等。 未来塑料基板可取代玻璃基板成为次世代显示器材料，因为塑料基板拥有较玻璃基板之 轻、薄、耐冲击、可卷曲等优势，可应用于许多可携式及穿戴式显示装置，W提高使用寿命并 增加使用范围。目前塑料基板锻膜在光电产业作为性能优异的透明材料可应用于触控式面 板屏幕、液晶显示面板化CD panel)、有机发光二极管（OLED)、电子书（e-book)、偏光板、光 储存、各种灯具、照明器材、光导纤维等领域。
[0003] 在大气环境下，塑料基材比玻璃基板容易吸附水气，因此在锻膜过程中会因真空 环境及受热的关系而有释气的现象。释气会造成锻膜时成膜不稳定，使得锻膜制程参数不 易控制，而且也会影响成膜的牢固度。目前，一般常规使用真空蒸锻法进行成膜都会使用 IAD辅助低溫真空蒸锻工艺来提高膜层与基板间的结合率，运样的工艺生产设备成本较高， 生产效率也不是很高。 【实用新型内容】
[0004] 本实用新型的目的是提供一种光学塑料基板锻膜装置，解决塑料基板蒸锻后膜层 牢固度较差，易起泡剥离的问题。 阳〇化]本实用新型的技术方案是运样的：一种光学塑料基板锻膜装置，包括置于真空炉 内的锻膜伞具、蒸发源和导电棒，所述锻膜伞具设有侧板和伞面，所述侧板和伞面用于放置 待锻膜基板，所述蒸发源设置在锻膜伞具内，所述导电棒设置在基板与蒸发源之间，所述导 电棒与基板表面夹角为0~5°，所述导电棒与基板距离20~40cm，所述导电棒连接1. 2~ 1. SkV电源。
[0006] 优选的，所述侧板与水平面夹角为70~85°，所述基板设置在侧板上，所述导电 棒与基板距离25~40畑1。
[0007] 优选的，所述伞面与水平面夹角为10~25°，所述基板设置在伞面上，所述导电 棒与基板距离20~30畑1。
[000引优选的，所述导电棒长度为0. 6~1. Om,直径10cm。
[0009] 优选的，所述导电棒为无氧铜材料。
[0010] 本实用新型所提供的技术方案的优点在于，可W采用低于80°c的加热溫度进行锻 膜，生产效率高能耗低；在蒸锻前，导电棒接通高压电，产生放电效应，通过释放出的高能粒 子对塑料基板表面进行轰击处理，通过调整放电时间可W控制膜层与基板的牢固度；无论 是采用放置于侧板的倾斜式蒸锻还是采用放置于伞面的垂直式蒸锻都能不使用IAD工艺 而得到良好牢固度。
【附图说明】
[0011] 图1为塑料基板置于侧板锻膜时结构示意图。
[0012] 图2为塑料基板置于伞面锻膜时结构示意图。
【具体实施方式】
[0013] 下面结合实施例对本实用新型作进一步说明，但不作为对本实用新型的限定。
[0014] 请参见图1，本实施方式的倾斜式光学塑料基板锻膜装置，包括置于真空炉内的锻 膜伞具、蒸发源和导电棒，锻膜伞具设有侧板和伞面，待锻膜基板放置在侧板上。侧板与水 平夹角为70~85°，蒸发源设置在锻膜伞具内的下部。导电棒为直径IOcm,长度为LOm 的无氧铜棒材。导电棒分成左右两根固定设置在塑料基板与蒸发源之间。导电棒与塑料基 板表面夹角为0~5°尽量处理为平行，导电棒与基板距离25~40cm，导电棒连接1. 2~ 1. SkV电源。
[0015] 请参见图2,本实用新型的另一个实施方式的垂直式光学塑料基板锻膜装置，包 括置于真空炉内的锻膜伞具、蒸发源和导电棒，锻膜伞具设有侧板和伞面，待锻膜基板放置 在伞面上。伞面与水平夹角为10~25°蒸发源设置在锻膜伞具内的下部，导电棒为直径 IOcm,长度为1. Om的无氧铜棒材。导电棒分成左右两根固定设置在塑料基板与蒸发源之 间。导电棒与塑料基板表面夹角为0~5°尽量处理为平行，导电棒与基板距离20~30cm， 导电棒连接1. 2~1. 5kV电源。
[0016] 采用上述两个实施方式W不同参数进行锻膜，具体的，在蒸锻前，先将导电棒接通 高压电，产生放电效应，通过释放出的高能粒子对蒸锻基板表面进行轰击处理，调整放电时 间。不同实施方式不同参数取得的锻膜果如下表所示
【主权项】
1. 一种光学塑料基板镀膜装置，包括置于真空炉内的镀膜伞具（1)和蒸发源（2)，所述 镀膜伞具⑴设有侧板（lb)和伞面（la)，所述侧板（lb)和伞面（la)用于放置待镀膜基板 (3)，所述蒸发源（2)设置在镀膜伞具（1)内，其特征在于，包括导电棒（4)，所述导电棒（4) 设置在基板（3)与蒸发源（2)之间，所述导电棒（4)与基板（3)表面夹角为0~5°，所述 导电棒⑷与基板（3)距离20~40cm，所述导电棒⑷连接1. 2~1. 5kV电源（5)。2. 根据权利要求1所述的光学塑料基板镀膜装置，其特征在于：所述侧板（lb)与水平 面夹角为70~85°，所述基板（3)设置在侧板（lb)上，所述导电棒（4)与基板（3)距离 25 ~40cm。3. 根据权利要求1所述的光学塑料基板镀膜装置，其特征在于：所述伞面与水平面夹 角为10~25°，所述基板设置在伞面上，所述导电棒与基板距离20~30cm。4. 根据权利要求1所述的光学塑料基板镀膜装置，其特征在于：所述导电棒长度为 0· 6 ~1. 0m，直径 10cm。5. 根据权利要求1所述的光学塑料基板镀膜装置，其特征在于：所述导电棒为无氧铜 材料。
【专利摘要】本实用新型公开了一种光学塑料基板镀膜装置，包括置于真空炉内的镀膜伞具、蒸发源和导电棒，所述镀膜伞具设有侧板和伞面，所述侧板和伞面用于放置待镀膜基板，所述蒸发源设置在镀膜伞具内，所述导电棒设置在基板与蒸发源之间，所述导电棒与基板表面夹角为0～5°，所述导电棒与基板距离20～40cm，所述导电棒连接1.2～1.5kV电源。该镀膜装置使塑料基板镀膜可以不使用IAD工艺得到良好的牢固度。
【IPC分类】C23C14/24
【公开号】CN205115590
【申请号】CN201520873208
【发明人】龚裕, 范辛
【申请人】京浜光学制品（常熟）有限公司
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2015年11月4日